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一種新型疊堆結(jié)構(gòu)光熱轉(zhuǎn)換涂層的制作方法

文檔序號:12155136閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種新型疊堆結(jié)構(gòu)光熱轉(zhuǎn)換涂層,其特征在于,自基底向外依次由金屬紅外反射層、阻擴(kuò)散層、第一吸收層、電介質(zhì)層、第二吸收層、第一減反射層和第二減反射層構(gòu)成。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型疊堆結(jié)構(gòu)光熱轉(zhuǎn)換涂層,其特征在于,所述金屬紅外反射層由W、Mo、Cu、Al、Ag和Ni中的一種構(gòu)成。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型疊堆結(jié)構(gòu)光熱轉(zhuǎn)換涂層,其特征在于,所述阻擴(kuò)散層由過渡金屬與Al或Si形成的氮化物或氮氧化物構(gòu)成。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型疊堆結(jié)構(gòu)光熱轉(zhuǎn)換涂層,其特征在于,所述第一吸收層和第二吸收層分別由過渡族金屬氮化物或氮氧化物中的一種構(gòu)成。

5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的新型疊堆結(jié)構(gòu)光熱轉(zhuǎn)換涂層,其特征在于,所述過渡金屬為Ti、Zr、Hf、Cr、Mo、W、V、Nb或Ta。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型疊堆結(jié)構(gòu)光熱轉(zhuǎn)換涂層,其特征在于,所述電介質(zhì)層由Si3N4、SiON、SiO2、AlN、AlON和Al2O3中的一種構(gòu)成。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型疊堆結(jié)構(gòu)光熱轉(zhuǎn)換涂層,其特征在于,所述第一層減反射層的折射率大于第二層減反射層的折射率。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的新型疊堆結(jié)構(gòu)光熱轉(zhuǎn)換涂層,其特征在于,所述第一減反射層和第二減反射層的組合為:Si3N4+SiON、Si3N4+SiO2、Si3N4+AlON、Si3N4+Al2O3、SiON+SiO2、SiON+AlON、SiON+Al2O3、AlN+AlON、AlN+Al2O3、AlN+SiON、AlN+SiO2、AlON+SiON、AlON+Al2O3和AlON+SiO2中的一種。

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