專利名稱：燃?xì)庠畹闹谱鞣椒?br>
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種家用廚房炊具，尤其涉及一種燃?xì)庠睢?
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的燃?xì)庠罹咭话惆姘澹姘迳显O(shè)有多個燃燒器和鍋架，鍋架由底部的架圈和固定在架圈上得支撐腳組成，燃燒器周圍的面板表面設(shè)有與架圈配合的集水槽，使用時架圈正好嵌在集水槽內(nèi)，實(shí)現(xiàn)鍋架的定位。上述定位方式僅僅基于集水槽的內(nèi)壁對架圈的定位來保證面板與灶架之間保持相對不變的位置關(guān)系；由于集水槽的槽底與面板表面的落差有限，鍋架受到外力作用會脫離集水槽，定位不可靠；另外集水槽的內(nèi)壁與架圈之間存有一定間隙，易存積污物，影響灶具的清潔度及美觀。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型提供了一種燃?xì)庠?，解決了傳統(tǒng)燃?xì)庠铄伡芏ㄎ徊焕喂糖医雍咸幰状娣e污物的問題。一種燃?xì)庠?，包括面板、設(shè)于面板表面的集水槽以及架設(shè)在集水槽所在區(qū)域的鍋架，所述鍋架包括底部的架圈和固定在架圈上的支撐腳，所述的集水槽四周邊沿設(shè)有四個定位塊，所述的架圈底面與集水槽周緣的面板表面貼合，并設(shè)有與定位凸塊相配合的凹陷。所述的定位凸塊的高度大于集水槽的深度。所述的凹陷兩側(cè)的架圈底面設(shè)有與定位凸塊貼合的延伸部，提高定位效果。所述的定位凸塊設(shè)于支撐腳所在位置的正下方，不會減小強(qiáng)度。所述的支撐腳往架圈中心方向傾斜，提高支撐穩(wěn)定性。本實(shí)用新型燃?xì)庠钤诩鄣乃闹茉O(shè)置了定位凸塊，同時架圈底面設(shè)有相配合的凹陷，可以保證鍋架定位牢固，不易由于受到外力作用而發(fā)生偏移。
圖1為本實(shí)用新型燃?xì)庠畹慕Y(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本圖1所示燃?xì)庠钛b配完成的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖所示，一種燃?xì)庠睿姘?，面板1上設(shè)有燃燒器2、控制旋鈕3以及鍋架 4，鍋架4由架圈401和固定在架圈401上的支撐腳402組成。架圈401為正方形，支撐腳 402分別設(shè)于架圈401的四條邊的中心位置。架圈401設(shè)置支撐腳402處底面設(shè)有凹陷403，凹陷403兩側(cè)設(shè)有延伸部404，面板1上設(shè)有集水槽5，集水槽5與架圈401形狀大致相同，四周邊沿有四個定位凸塊6，定位凸塊6的高度大于集水槽5的深度，并與凹陷403以及延伸部404相配合，同時架圈401的底面與集水槽5周緣的面板表面貼合。 本實(shí)用新型燃?xì)庠畹募?四周和架圈401底面設(shè)有相配合的定位機(jī)構(gòu)，使得鍋架4在受到外力作用下不易發(fā)生位移，而且該鍋架4與面板1表面貼合，而不是嵌在集水槽5內(nèi)，清潔美觀。
權(quán)利要求1.一種燃?xì)庠?，包括面板、設(shè)于面板表面的集水槽以及架設(shè)在集水槽所在區(qū)域的鍋架， 所述鍋架包括底部的架圈和固定在架圈上的支撐腳，其特征在于，所述的集水槽四周邊沿設(shè)有四個定位塊，所述的架圈底面與集水槽周緣的面板表面貼合，并設(shè)有與定位凸塊相配合的凹陷。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的燃?xì)庠?，其特征在于，所述的定位凸塊的高度大于集水槽的深度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的燃?xì)庠?，其特征在于，所述的凹陷兩?cè)的架圈底面設(shè)有與定位凸塊貼合的延伸部。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的燃?xì)庠?，其特征在于，所述的定位凸塊設(shè)于支撐腳所在位置的正下方。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的燃?xì)庠?，其特征在于，所述的支撐腳往架圈中心方向傾斜。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種燃?xì)庠睿姘?、設(shè)于面板表面的集水槽以及架設(shè)在集水槽所在區(qū)域的鍋架，所述鍋架包括底部的架圈和固定在架圈上的支撐腳，所述的集水槽四周邊沿設(shè)有四個定位塊，所述的架圈底面與集水槽周緣的面板表面貼合，并設(shè)有與定位凸塊相配合的凹陷。本實(shí)用新型燃?xì)庠钤诩鄣乃闹茉O(shè)置了定位凸塊，同時架圈底面設(shè)有相配合的凹陷，可以保證鍋架定位牢固，不易由于受到外力作用而發(fā)生偏移。
文檔編號F24C3/00GK202338926SQ20112046382
公開日2012年7月18日 申請日期2011年11月21日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月21日
發(fā)明者張炤炯, 徐海 申請人:浙江普田電器有限公司