專利名稱：晶片燒結(jié)爐氣循改進(jìn)結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型是有關(guān)于一種晶片燒結(jié)爐氣循改進(jìn)結(jié)構(gòu)，特別是指一種控制進(jìn)氣方向，將惰性氣體送入爐內(nèi)，并加設(shè)擾流結(jié)構(gòu)，使?fàn)t內(nèi)氣體形成一回流，而后由排氣結(jié)構(gòu)排出，且于爐體的兩端，裝設(shè)向爐向斜向送風(fēng)的氣閘，阻絕氣體的進(jìn)出，達(dá)到使?fàn)t內(nèi)各橫斷面上任何區(qū)域的溫度均衡，燒成曲線控制準(zhǔn)確，且保持爐內(nèi)氣體的純度。
現(xiàn)有的晶片燒結(jié)爐氣循結(jié)構(gòu)，是利用排氣結(jié)構(gòu)控制，以形成爐內(nèi)氣體的流動，且其氣閘的裝置，送風(fēng)方式，多為單純的直向吹送，在使用時不免有下列缺點1、體流動的方式，僅為進(jìn)氣口向排氣口單純的走向，使?fàn)t橫斷面上不同區(qū)域形成溫差，造成燒結(jié)效果不良。2、氣閘阻絕效果未盡理想，未能有效阻斷氣體進(jìn)、出，導(dǎo)致破壞爐內(nèi)氣流的方向及影響內(nèi)爐內(nèi)氣體的純度，使燒結(jié)效果不良。
本實用新型的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的缺點，提供一種晶片燒結(jié)爐氣循改進(jìn)裝置，這種晶片燒結(jié)爐氣循改良裝置不僅使?fàn)t內(nèi)各橫斷面上任何區(qū)域溫度均衡，燒成曲線控制準(zhǔn)確，而且能很好的保持爐內(nèi)氣體的純度。為達(dá)到上述目的，本實用新型采取了控制進(jìn)氣方向，加設(shè)擾流結(jié)構(gòu)的方式，將現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)氣單純的走向，改為由爐體兩端向爐內(nèi)斜向送風(fēng)等，其上述目的是這樣實現(xiàn)的本實用新型主要由一進(jìn)氣結(jié)構(gòu)，一擾流結(jié)構(gòu)及前、后氣閘等組成；晶片燒結(jié)爐工作時，將惰性氣(一般為氮氣或氦氣)，由進(jìn)氣孔設(shè)計為向爐膛方向送風(fēng)的進(jìn)氣結(jié)構(gòu)送入爐內(nèi)，并于接近排氣結(jié)構(gòu)處適當(dāng)位置，設(shè)置擾流結(jié)構(gòu)，使?fàn)t體內(nèi)的氣體形成一回流，再經(jīng)由排氣結(jié)構(gòu)控制，使?fàn)t內(nèi)氣體排出，同時配合于爐體兩端設(shè)置的氣閘，阻絕氣體，由爐體的進(jìn)、出口逸出或進(jìn)入，達(dá)到爐內(nèi)各橫斷面上任何區(qū)域溫度均衡，燒結(jié)曲線控制準(zhǔn)確、燒結(jié)效果良好。
本實用新型晶片燒結(jié)爐氣循改良結(jié)構(gòu)，其氣閘，設(shè)計成分為上、下兩部分，輸送晶片的輸送帶，由中間穿過，且其送風(fēng)口的方向，設(shè)計成向爐體內(nèi)部，與輸送帶方向，斜向送風(fēng)，達(dá)到更有效阻絕氣體交換，避免爐內(nèi)氣流變換，影響溫度，且有效保持爐內(nèi)氣體的純度，使燒結(jié)效果更臻理想。
以下結(jié)合附圖和實施例，對本實用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。


圖1為本實用新型一較佳具體實施例的縱向剖示平面圖；圖2是本實用新型一較佳具體實施例的輸送帶進(jìn)口端縱向剖示平面圖；圖3是本實用新型一較佳具體實施例的立體組合圖；圖4是本實用新型一較佳具體實施例的輸送帶進(jìn)口端部分剖示立體圖；由
圖1為本實用新型一較佳具體實施例的縱向剖示平面圖，和圖3為本實用新型一較佳具體實施例的立體組合圖，可看出本實用新型是由，進(jìn)氣結(jié)構(gòu)1、擾流結(jié)構(gòu)2、氣閘3、排氣結(jié)構(gòu)4等部分所組成；當(dāng)運作時，將惰性氣由進(jìn)氣結(jié)構(gòu)1，經(jīng)其進(jìn)氣管11，進(jìn)氣孔12送入爐體內(nèi)，因進(jìn)氣孔12的方向，使氣體朝向爐體內(nèi)部流動，于爐體另一端，接近排氣結(jié)構(gòu)4的適當(dāng)位置，裝設(shè)擾流結(jié)構(gòu)2，由此產(chǎn)生向爐體兩端流動的氣流(請參照圖2)，與前述由進(jìn)氣結(jié)構(gòu)1送入的氣流相遇，產(chǎn)生回流，再由排氣結(jié)構(gòu)4控制排出，同時由爐體兩端的氣閘3阻絕氣體由兩端進(jìn)出，確保使?fàn)t內(nèi)氣流如氣流方向6所指示，使?fàn)t內(nèi)各橫斷面上任何區(qū)域的溫度，因氣體均勻的傳導(dǎo)，達(dá)到均衡，且有效保持爐內(nèi)氣體的純度，使燒結(jié)效果良好。
圖4為本實用新型一較佳具體實施例的輸送帶進(jìn)口端部分剖示立體圖，由圖中擾流結(jié)構(gòu)2部分放大圖可看出，擾流結(jié)構(gòu)2是將氣體，經(jīng)擾流送風(fēng)管21，由向兩邊開設(shè)的多數(shù)個擾流送風(fēng)孔22送出，形成擾動氣流，而由圖中氣閘3部分放大圖，得知氣閘3是分為，上送風(fēng)部32，下送風(fēng)部33兩部分，輸送帶5自中間穿過，氣體由氣閘送風(fēng)管31，送入送風(fēng)部，經(jīng)斜向設(shè)置的氣閘送風(fēng)板321，導(dǎo)引方向，再由氣閘送風(fēng)口322送出，形成上、下皆有向爐內(nèi)及輸送帶方向吹送的均勻氣幕，并于上送風(fēng)部32與輸送帶5之間，設(shè)置適當(dāng)高度的阻風(fēng)刷34，對輸送帶上的物品作一初步的清理，同時也可增進(jìn)阻絕氣流的功能，確定有效的阻止?fàn)t內(nèi)氣體逸出，或空氣進(jìn)入爐內(nèi)，保持爐內(nèi)氣體的純度及氣流穩(wěn)定。
綜上所述，本實用新型的晶片燒結(jié)爐氣循改良結(jié)構(gòu)，確實具有使?fàn)t內(nèi)各橫斷面上任何區(qū)域溫度均衡，確保爐內(nèi)氣體純度，燒結(jié)效果更臻良好的功效，而該等功效確實可以改進(jìn)現(xiàn)有技術(shù)氣閘阻絕效果未盡理想，爐內(nèi)各橫斷面上不同區(qū)域形成溫差，造成燒結(jié)效果不良之弊。
權(quán)利要求1.一種晶片燒結(jié)爐氣循改進(jìn)結(jié)構(gòu)，包括進(jìn)氣結(jié)構(gòu)、擾流結(jié)構(gòu)、排氣結(jié)構(gòu)、氣閘輸送帶等，其特征在于進(jìn)氣結(jié)構(gòu)(1)由進(jìn)氣管(11)和進(jìn)氣孔(12)組成，其進(jìn)氣孔(12)設(shè)計為朝向爐膛方向；在排氣結(jié)構(gòu)(4)的適當(dāng)位置設(shè)置有擾結(jié)構(gòu)(2)；氣閘(3)設(shè)置在爐體的兩端。
2.如權(quán)利要求1所述的晶片燒結(jié)爐氣循環(huán)改進(jìn)結(jié)構(gòu)，其特征在于擾流結(jié)構(gòu)(2)上設(shè)置有擾流送風(fēng)孔(22)，其擾流送風(fēng)孔(22)設(shè)計成朝向爐膛兩端方向。
3.如權(quán)利要求1所述的晶片燒結(jié)爐氣循環(huán)改進(jìn)結(jié)構(gòu)，其特征在于氣閘(3)由氣閘送風(fēng)管(31)、上送風(fēng)部(32)、下送風(fēng)部(33)、氣閘送風(fēng)板(321)和氣閘送風(fēng)孔(322)組成輸送帶(5)在上送風(fēng)部(32)與下送風(fēng)部(33)的中間穿過。
4.如權(quán)利要求1或3所述的晶片燒結(jié)爐氣循環(huán)改進(jìn)結(jié)構(gòu)，其特征在于氣閘送風(fēng)孔(322)設(shè)置在呈斜向設(shè)計的氣閘送風(fēng)板(321)上。
5.如權(quán)利要求1或3所述的晶片燒結(jié)爐氣循環(huán)改進(jìn)結(jié)構(gòu)，其特征在于上送風(fēng)部(32)的底部與輸送帶(5)之間設(shè)置有阻風(fēng)刷(4)。
專利摘要本實用新型涉及一種晶片燒結(jié)爐氣循改進(jìn)結(jié)構(gòu),包括:一進(jìn)氣結(jié)構(gòu),一擾流結(jié)構(gòu),一排氣結(jié)構(gòu)及前、后氣閘等,其主要是由一進(jìn)氣結(jié)構(gòu),將其進(jìn)氣孔設(shè)定方向,將惰性氣體(如氮氣或氨氣等)送向爐膛內(nèi)并在排氣口端適當(dāng)位置設(shè)置擾流結(jié)構(gòu),使送入爐內(nèi)的氣體形成一回流,而后在排氣結(jié)構(gòu)控制排出,同時配合爐體兩端向爐內(nèi)斜向送風(fēng)的氣閘阻絕爐內(nèi)氣體逸出及外界空氣的進(jìn)入,達(dá)到使?fàn)t內(nèi)各橫斷面上任何區(qū)域溫度均衡,燒成曲線控制準(zhǔn)確,且保持爐內(nèi)氣體的純度。
文檔編號F27D7/06GK2427786SQ00217689
公開日2001年4月25日 申請日期2000年5月19日 優(yōu)先權(quán)日2000年5月19日
發(fā)明者林義能 申請人:林義能