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氣體燃燒設(shè)備的制作方法

文檔序號:4568270閱讀:356來源:國知局
專利名稱:氣體燃燒設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及用于燃燒多個(gè)廢氣的設(shè)備和方法。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體設(shè)備制造中的主要步驟是在半導(dǎo)體基片上通過蒸氣前體 的化學(xué)反應(yīng)形成薄膜。用于在基片上沉積薄膜的一個(gè)已知技術(shù)是化學(xué)汽
相沉積(CVD)。在此技術(shù)中,過程氣被提供到容納了基片的處理室且 起反應(yīng)以在基片的表面上形成薄膜。例如,硅烷通常用于硅源且氨用于氮源。
CVD沉積不限制于基片的表面,且這可能例如導(dǎo)致氣體噴嘴的阻塞 和室窗的模糊。另外,可能形成微粒,微粒可能落在基片上且導(dǎo)致沉積 的薄膜內(nèi)的缺陷或干擾沉積系統(tǒng)的機(jī)械運(yùn)行。作為結(jié)果,處理室的內(nèi)表 面被定期清潔以從室去除有害的沉積材料。 一個(gè)清潔室的方法是供給例 如分子氟(F2)的清潔氣以與有害沉積材料反應(yīng)。
在處理室內(nèi)進(jìn)行沉積或清潔處理后,典型地存在包含在來自處理室 的廢氣中的供給到處理室的氣體的殘余量。例如硅烷、氨的過程氣和例 如氟的清潔氣如果排放到大氣中是高度危險(xiǎn)的,且因此在將廢氣通風(fēng)到 大氣前經(jīng)常提供消除設(shè)備來處理廢氣,以將廢氣的更有害的成分轉(zhuǎn)化為 可以例如通過常規(guī)的洗氣而容易地從廢氣中去除的種類,和/或可以安全 的排放到大氣的種類。
消除設(shè)備的一個(gè)已知的類型在EP-A-0 819 887中描述。此消除i殳備 包括燃燒室,燃燒室具有廢氣燃燒噴嘴以接收待處理的廢氣。環(huán)形燃燒 噴嘴提供在廢氣噴嘴外側(cè),且燃料和空氣的氣體混合物被提供到環(huán)形燃 燒噴嘴以在燃燒室內(nèi)側(cè)形成還原性火焰來燃燒從處理室接收的廢氣,以 銷毀廢氣的有害成分。
在這樣的設(shè)備中,供給到燃燒室的燃料的量被預(yù)先設(shè)定,使得足以 銷毀廢氣內(nèi)包含的過程氣和清潔氣。因?yàn)閷τ诶鏔2、 NF3和SF6的含 有氟的清潔氣保證高的銷毀和去除效率(DRE)的要求,燃料的總量典 型地通過消除將進(jìn)入燃燒室的清潔氣的最大流量的熱量要求確定。CVD
過程在沉積步驟和清潔步驟之間以由工具類型確定的頻率交替。典型
地,使用了在EP-A-0 819 887中描述的設(shè)備的處理應(yīng)用具有跟隨沉積步 驟的清潔步驟。作為結(jié)果,消除設(shè)備在其時(shí)間的大約50%以高于將與銷 毀在被處理的基片上的沉積相關(guān)的過程氣所實(shí)際要求的燃料使用而運(yùn) 行。
使用還原性火焰所遇到的另 一個(gè)問題是當(dāng)接收高流量(例如大約60 slpm)的含氨廢氣時(shí),例如從平板顯示器處理室接收時(shí),高的DRE不 能實(shí)現(xiàn)。

發(fā)明內(nèi)容
至少本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的目的是需求解決這些和其他問題。 在第 一方面中,本發(fā)明提供了使用用于將廢氣輸送到燃燒室內(nèi)的多 個(gè)廢氣燃燒噴嘴來燃燒廢氣的方法,方法包括如下步驟將各廢氣輸送 到每個(gè)噴嘴且對于每個(gè)噴嘴選擇地供給燃料和氧化劑以用于在室內(nèi)形 成燃燒火焰,和隨輸送到噴嘴的廢氣的化學(xué)組成的變化調(diào)整燃料和氧化 劑的供給。
這可以使得每個(gè)燃燒火焰的屬性能取決于接收的廢氣的屬性選擇 地修改。這可以提高廢氣的銷毀率效率且優(yōu)化燃料消耗。例如,供給到 噴嘴的燃料和氧化劑的量可以被調(diào)整,以當(dāng)包含例如氨的第 一廢氣輸送 到噴嘴時(shí)產(chǎn)生氧化性燃燒火焰,且當(dāng)與第一廢氣不同的、例如包含如 F2、 NF3和SF6中的一個(gè)的清潔氣的第二廢氣輸送到噴嘴時(shí)產(chǎn)生還原性
燃燒火焰。
因此可以對于過程氣和清潔氣都實(shí)現(xiàn)高的DRE,同時(shí)允許在每個(gè)噴 嘴處的燃料消耗根據(jù)輸送到該噴嘴的廢氣的屬性被單獨(dú)地優(yōu)化。這可以 使得最小化燃料消耗,因此降低運(yùn)行成本,且可以使得能提供單一的燃 燒室以用于處理例如從多個(gè)以不同的沉積和清潔循環(huán)運(yùn)行的處^里室4非 放的多種不同的廢氣。
向噴嘴的燃料和氧化劑供給的調(diào)整可以根據(jù)在處理室內(nèi)進(jìn)行的沉 積和清潔循環(huán)定時(shí)。替代地,對于每個(gè)噴嘴,可以接收代表了輸送到該 噴嘴的廢氣的化學(xué)組成的變化的數(shù)據(jù),供給到此噴嘴的燃料和氧化劑的 量響應(yīng)于接收到的數(shù)據(jù)調(diào)整。在優(yōu)選的實(shí)施例中,每個(gè)廢氣從處理工具 的處理室排放,數(shù)據(jù)由處理工具供給。替代地,氣體傳感器可以位于用
于將廢氣輸送到噴嘴的導(dǎo)管系統(tǒng)內(nèi),此傳感器構(gòu)造為供給數(shù)據(jù)。
在第二方面中,本發(fā)明提供了用于燃燒廢氣的設(shè)備,設(shè)備包4舌燃 燒室,多個(gè)廢氣燃燒噴嘴,每個(gè)用于將各廢氣輸送到室內(nèi),每個(gè)噴嘴具 有與其相關(guān)的用于接收燃料和氧化劑的各裝置,以用于在室內(nèi)形成燃燒 火焰,和對于每個(gè)廢氣用于接收代表了廢氣的化學(xué)組成的變化的數(shù)據(jù)且 用于響應(yīng)于數(shù)據(jù)調(diào)整燃料和氧化劑的供給以用于燃燒廢氣的控制裝 置。
在第三方面中,本發(fā)明提供了燃燒設(shè)備,包括燃燒室,多個(gè)燃燒 噴嘴,每個(gè)用于接收各廢氣以用于在燃燒室內(nèi)的燃燒且用于將廢氣輸送 到燃燒室;增壓室,增壓室具有用于接收包括燃料和氧化劑的燃?xì)庖栽?燃燒室內(nèi)形成燃燒火焰的入口和多個(gè)每個(gè)繞各噴嘴延伸以用于將燃?xì)?供給到燃燒室的出口 ,其中每個(gè)燃燒噴嘴具有與其相關(guān)的用于接收燃料 和氧化劑各裝置,以選擇地調(diào)整通過各出口從增壓室供給到燃燒室的燃 料和氧化劑的相對量,設(shè)備包括用于根據(jù)與所述的裝置的每個(gè)相關(guān)的噴 嘴內(nèi)所包含的廢氣的化學(xué)組成來選擇地改變供給到所述的裝置的每個(gè) 的燃料和氧化劑的相對量的裝置。
以上所述的涉及本發(fā)明的方法方面的特征等同地可應(yīng)用于本發(fā)明 的設(shè)備方面,且反之亦然。


將參考附圖描述本發(fā)明的優(yōu)選特征,各圖為 圖1圖示了連接到燃燒設(shè)備的多個(gè)處理室;
圖2圖示了連接到燃燒設(shè)備的燃燒室的多個(gè)廢氣燃燒噴嘴的截面視
圖3圖示了燃燒噴嘴的透視圖4圖示了位于用于接收第一氣體混合物以在燃燒室內(nèi)形成燃燒火 焰的第 一增壓室內(nèi)的多個(gè)燃燒噴嘴的透視圖5圖示了用于接收第二氣體混合物以在燃燒室內(nèi)形成前導(dǎo)火焰的 第二增壓室的后透^L圖6圖示了用于將燃料和氧化劑提供到連接到燃燒室的每個(gè)燃燒噴 嘴的構(gòu)造;和
圖7圖示了用于控制供給到每個(gè)燃燒噴嘴的燃料和氧化劑的相對量 的控制系統(tǒng)。
具體實(shí)施例方式
首先參考圖1,提供了設(shè)備10以處理從多個(gè)用于處理例如半導(dǎo)體設(shè)
備、平板顯示器設(shè)備或太陽能電池板設(shè)備的處理室12a至12d排放的氣 體。圖1圖示了用于處理從四個(gè)處理室12a至12d排放的氣體的設(shè)備10, 但設(shè)備適合于處理任何個(gè)數(shù)的費(fèi)氣,例如六個(gè)或更多。每個(gè)室接收多種 過程氣(未示出)以用于在室內(nèi)進(jìn)行處理。過程氣的例子包括硅烷和氨。 廢氣從每個(gè)處理室的出口通過各泵送系統(tǒng)抽吸。在室內(nèi)的處理期間,將 僅消耗過程氣的部分,且因此廢氣將包含供給到室的過程氣和來自室內(nèi) 的處理的副產(chǎn)品的混合物。
在此實(shí)施例中,沉積處理在每層內(nèi)進(jìn)4亍以將一層或多層材料沉積在 位于處理室內(nèi)的基片的表面上。供給到每個(gè)處理室的過程氣的屬性可以 相同或它們可以不同。為從處理室去除有害的沉積材料,將例如F2、NFg 和SF6的清潔氣周期地供給到處理室。處理氣/清潔氣供給循環(huán)的持續(xù)時(shí) 間可以對于處理室的每個(gè)相同或不同。又因?yàn)閷H消耗清潔氣的部分, 在清潔循環(huán)期間從處理室排放的氣體將包含供給到室的清潔氣和來自 室的清潔的副產(chǎn)品的混合物。某些過程可以使用遠(yuǎn)程等離子系統(tǒng),以在 清潔氣進(jìn)入處理室內(nèi)前將它分解為氟。
通過各泵送系統(tǒng)14a至14d將廢氣從處理室的出口抽吸。如在圖1 中圖示,每個(gè)泵送系統(tǒng)可以包括次級泵16,次級泵16典型地具有渦輪 分子泵的形式,以從處理室抽吸廢氣。渦輪分子泵16可以在處理室內(nèi) 生成至少10—3毫巴的真空。氣體以大約1毫巴的壓力典型地從渦輪分子 泵16排;改。因此,泵送系統(tǒng)也包^舌主或前級泵18,以/人渦4侖分子泵16 接收廢氣且將氣體的壓力升高到大約大氣壓力的壓力。也取決于在每個(gè) 處理室內(nèi)所進(jìn)行的處理的屬性和在處理期間處理室內(nèi)所要求的真空水 平,泵送系統(tǒng)14a至14d可以是相同的或可以在處理室之間變化。
從泵送系統(tǒng)14a至14d排放的氣體每個(gè)被輸送到消除設(shè)備10的各 入口20。如在圖2和圖3中圖示,每個(gè)入口 20包括連接到消除設(shè)備10 的燃燒室24的廢氣燃燒噴嘴22。每個(gè)燃燒噴嘴22具有用于接收廢氣的 帶凸緣的入口 26和出口 28,廢氣從出口 28進(jìn)入燃燒室24。
每個(gè)燃燒噴嘴22包括氧化劑入口 30以用于從氧化劑源32 (在圖6
中圖示)接收例如氧的氧化劑。環(huán)形間隙34限定在噴嘴22的外表面和 繞噴嘴22延伸的第 一套筒36的內(nèi)表面之間,環(huán)形間隙34允許氧化劑 從入口 30輸送到圍繞噴嘴22的多個(gè)氧化劑出口 38。
每個(gè)燃燒噴嘴22進(jìn)一步包括用于從燃料源42 (也在圖6中圖示) 接收優(yōu)選地為曱烷的燃料的燃料入口 40。環(huán)形間隙44限定在第一套筒 36的外表面和繞第一套筒36延伸的第二套筒46的內(nèi)表面之間,環(huán)形間 隙44允許將燃料從入口 40輸送到圍繞噴嘴22的多個(gè)燃料出口 48。
如在圖2和圖4中圖示,每個(gè)燃燒噴嘴22安裝在第一環(huán)形增壓室 50內(nèi),第一環(huán)形增壓室50具有入口 52,以用于接收例如曱烷和氧的混 合物的燃料和氧化劑的第一氣體混合物以在燃燒室24內(nèi)形成燃燒火 焰。如在圖2中圖示,燃燒噴嘴22安裝在第一增壓室50內(nèi),使得來自 燃燒噴嘴22的氧化劑出口 38和燃料出口 48位于第一增壓室50內(nèi),使 得從這些出口 38、 48排放的氧化劑和燃料與第一氣體混合物在第一增 壓室50內(nèi)局部地混合。作為結(jié)果的由第一氣體混合物和供給到燃燒噴 嘴22的燃料和氧化劑形成的燃料和氧化劑的局部混合物通過各出口 54 從第一增壓室50進(jìn)入燃燒室24,每個(gè)出口 54大體上與燃燒噴嘴22同 軸線且圍繞燃燒噴嘴22。
也如在圖2中圖示,第一增壓室50位于第二環(huán)形增壓室56上方, 第二環(huán)形增壓室S6具有入口 58以用于接收例如曱烷和氧的另一個(gè)混合 物的燃料和氧化劑的第二氣體混合物,以在燃燒室24內(nèi)形成前導(dǎo)火焰。 如在圖5中圖示,第二增壓室56包括多個(gè)第一孔口 60,廢氣通過第一 孔口 60從燃燒噴嘴22進(jìn)入燃燒室24,每個(gè)圍繞各第一孔口 60的多個(gè) 第二孔口 62,燃料和氧化劑的局部混合物通過第二孔口 62從第一增壓 室50進(jìn)入燃燒室24;和圍繞第二孔口 62的多個(gè)第三孔口 64,且第二 氣體混合物通過第三孔口 64進(jìn)入燃燒室24以形成前導(dǎo)火焰,以點(diǎn)燃燃 料和氧化劑的局部混合物來形成燃燒室24內(nèi)的燃燒火焰。
圖7圖示了用于控制向燃燒噴嘴22的每個(gè)供給燃料和氧化劑的控 制系統(tǒng)??刂葡到y(tǒng)包括控制器70,以用于接收代表了供給到每個(gè)燃燒噴 嘴22的廢氣的化學(xué)組成的變化的信號72數(shù)據(jù),例如在當(dāng)清潔氣供給到 處理室時(shí)清潔循環(huán)開始時(shí)。如在圖7中圖示,信號72的每個(gè)可以直接 從各處理工具74a至74(U妻收,每個(gè)處理工具控制向各處理室12a至12d 的氣體供給。替代地,信號72可以從局域網(wǎng)的主機(jī)接收,控制器70和
處理工具74a和74b的控制器形成了局域網(wǎng)的部分,主機(jī)構(gòu)造為4妄收來 自處理工具的控制器的關(guān)于供給到處理室的氣體的化學(xué)組成的信息,且 響應(yīng)于此輸出信號72到控制器70。作為另一個(gè)替代,信號72可以從每 個(gè)位于各處理室的出口和各燃燒噴嘴22之間的多個(gè)氣體傳感器接收。
響應(yīng)于包含在被接收的信號72內(nèi)的數(shù)據(jù),控制器70可以選擇地控 制向每個(gè)燃燒噴嘴22供給的燃料和氧化劑的相對量。參考圖6和圖7, 控制系統(tǒng)包括每個(gè)位于氧化劑源32和各氧化劑入口 30之間的第一多個(gè) 可變流量控制設(shè)備76,和每個(gè)位于燃料源42和各燃料入口 40之間的第 二多個(gè)可變流量控制設(shè)備80。例如,設(shè)備76、 80可以是蟲菜閥或其他具 有可根據(jù)從控制器70接收的信號78、 82,優(yōu)選地與信號78、 82成比例 地改變的傳導(dǎo)性的控制閥。替代地,固定的孔流量控制設(shè)備可以用于控 制燃料和/或氧化劑到噴嘴22的流量。因此,為改變供給到噴嘴22的選 中的一個(gè)的氧化劑量,控制器70選擇地將信號78輸出到適當(dāng)?shù)脑O(shè)備 76,信號78導(dǎo)致設(shè)備76改變到選中的噴嘴的氧化劑的流量,且為改變 供給到選中的噴嘴22的燃料量,控制器70選擇地將信號82輸出到適 當(dāng)?shù)脑O(shè)備80,信號82導(dǎo)致設(shè)備80改變到選中的噴嘴22的燃料的流量。
通過改變供給到每個(gè)噴嘴22的燃料和氧化劑的相對量,控制器70 可以取決于廢氣的化學(xué)組成選擇地修改在燃燒室24內(nèi)生成的每個(gè)燃燒 火焰。例如,可以調(diào)整供給到噴嘴22的燃料和氧化劑的相對量,以當(dāng) 廢氣包含氨時(shí)產(chǎn)生氧化性燃燒火焰,或當(dāng)廢氣包含F(xiàn)2、 NF3或SF6清潔 氣時(shí)產(chǎn)生還原性燃燒火焰。
增加燃料和氧化劑的僅一個(gè)的相對量可以改變?nèi)紵鹧娴膶傩浴@?如,控制器70可以構(gòu)造為預(yù)先設(shè)定待供給到每個(gè)噴嘴的燃料和氧化劑 的最小量,使得燃料和氧化劑的選中的一個(gè)的相對量在每個(gè)噴嘴22處 如要求選擇地增加(通過如要求地操作設(shè)備76、 80的選中的一個(gè)), 以改變?nèi)紵鹧娴膶傩浴?br> 轉(zhuǎn)到圖1,來自燃燒室24內(nèi)的廢氣燃燒的副產(chǎn)品可以輸送到濕洗氣 器、固體反應(yīng)介質(zhì)或其他次級消除設(shè)備90,如在圖1中圖示。在通過消 除設(shè)備90后,廢氣流可以安全地通風(fēng)到大氣。
總之,描述了用于燃燒從多個(gè)處理室輸出的廢氣的設(shè)備。設(shè)備包括 連接到燃燒室的多個(gè)廢氣燃燒噴嘴。每個(gè)噴嘴接收各廢氣且包括用于接 收燃料和氧化劑的裝置以用于在室內(nèi)形成燃燒火焰??刂破鹘邮沾砹?br> 供給到每個(gè)噴嘴的廢氣的化學(xué)組成的數(shù)據(jù),且響應(yīng)于接收到的數(shù)據(jù)調(diào)整 供給到每個(gè)噴嘴的燃料和氧化劑的相對量。這使得每個(gè)燃燒火焰的屬性 能根據(jù)待由該火焰銷毀的廢氣的屬性而選擇地被修改,因此提高了廢氣 的銷毀率效率且優(yōu)化了燃料;肖耗。
在每個(gè)燃燒噴嘴處調(diào)節(jié)火焰條件的能力也保證具有足夠的燃料以 在氟和含氟氣體的消除中用作熱源和用作化學(xué)反應(yīng)物。這在最大化由消 除裝備實(shí)現(xiàn)的消除效率而同時(shí)降低燃料的使用中是基本的。
雖然在以上所述的優(yōu)選實(shí)施例中使用單 一 的燃燒噴嘴來將廢氣從 處理室輸送到燃燒室,但廢氣可以"分裂"為兩個(gè)或多個(gè)流,流的每個(gè) 被輸送到各自的燃燒噴嘴。已發(fā)現(xiàn)這進(jìn)一步增加了廢氣銷毀效率。
權(quán)利要求
1.一種使用多個(gè)廢氣燃燒噴嘴將廢氣輸送到燃燒室內(nèi)來燃燒廢氣的方法,該方法包括如下步驟將各廢氣輸送到每個(gè)噴嘴且對于每個(gè)噴嘴選擇地供給燃料和氧化劑以用于在室內(nèi)形成燃燒火焰,和隨輸送到噴嘴的廢氣的化學(xué)組成的變化調(diào)整燃料和氧化劑的供給。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中對于每個(gè)噴嘴調(diào)整燃料和氧化 劑的供給,以當(dāng)?shù)?一廢氣輸送到噴嘴時(shí)產(chǎn)生氧化性燃燒火焰且當(dāng)與第一 廢氣不同的第二廢氣輸送到噴嘴時(shí)產(chǎn)生還原性燃料火焰。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中第一廢氣包括氨。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的方法,其中第二廢氣包括含卣素的氣體。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其中第二氣體包括F2、 NF3和SFs 的至少一個(gè)。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求的任何項(xiàng)所述的方法,其中對于每個(gè)噴嘴,氧 化劑的供給響應(yīng)于供給到噴嘴的廢氣的化學(xué)組成的變化而變化。
7. 根據(jù)前述權(quán)利要求的任何項(xiàng)所述的方法,其中對于每個(gè)噴嘴,燃 料的供給響應(yīng)于供給到噴嘴的廢氣的化學(xué)組成的變化而變化。
8. 根據(jù)前述權(quán)利要求的任何項(xiàng)所述的方法,其中對于每個(gè)噴嘴,響 應(yīng)于代表了供給到噴嘴的廢氣的化學(xué)組成的變化的數(shù)據(jù)接收來調(diào)整燃 料和氧化劑的供給。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其中每個(gè)廢氣從處理工具排放,數(shù)
10. 根據(jù)前述權(quán)利要求的任何項(xiàng)所述的方法,其中燃料包括碳?xì)浠?合物,優(yōu)選地為甲烷。
11. 根據(jù)前述權(quán)利要求的任何項(xiàng)所述的方法,其中氧化劑包括氧。
12. 根據(jù)前述權(quán)利要求的任何項(xiàng)所述的方法,其中燃料和氧化劑每 個(gè)從繞燃燒噴嘴延伸的多個(gè)孔口噴射到燃燒室內(nèi)。
13. 根據(jù)前述權(quán)利要求的任何項(xiàng)所述的方法,其中對于每個(gè)噴嘴, 將供給的燃料和氧化劑添加到供給到室的燃料和氧化劑的混合物,以用 于在室內(nèi)形成燃燒火焰,因此選擇地改變在室內(nèi)形成的每個(gè)燃燒火焰的 屬性。
14. 一種用于燃燒廢氣的設(shè)備,該設(shè)備包括燃燒室;多個(gè)廢氣燃燒噴嘴,每個(gè)用于將各廢氣輸送到室內(nèi),每個(gè)噴嘴具有與其相關(guān)的用于 接收燃料和氧化劑的各裝置,以用于在室內(nèi)形成燃燒火焰;和控制裝于響應(yīng)于數(shù)^調(diào)整燃料和氧化劑的供給以用于燃燒廢氣。 '
15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的設(shè)備,其中每個(gè)噴嘴包括繞它延伸的用 于接收氧化劑的第一套筒和用于接收燃料的與第一套筒大體上同心的 第二套筒。
16. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的設(shè)備,其中第二套筒繞第一套筒延伸。
17. 根據(jù)權(quán)利要求15或16所述的設(shè)備,其中每個(gè)套筒包括用于輸 出燃料和氧化劑的各一個(gè)的圍繞噴嘴的多個(gè)孔口 。
18. 根據(jù)權(quán)利要求14至17的任何項(xiàng)所述的設(shè)備,包括用于向室供 給燃?xì)庖栽谑覂?nèi)形成燃燒火焰的裝置。
19. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的設(shè)備,其中燃?xì)獍ㄈ剂虾脱趸瘎┑幕?合物。
20. 根據(jù)權(quán)利要求18或19所述的設(shè)備,其中燃?xì)夤┙o裝置包括增 壓室,增壓室具有用于接收燃?xì)獾娜肟诤投鄠€(gè)出口 ,燃?xì)鈴某隹谂欧诺?燃燒室內(nèi)以在燃燒室內(nèi)形成燃燒火焰。
21. 根據(jù)權(quán)利要求20所述的設(shè)備,其中燃燒噴嘴每個(gè)在增壓室內(nèi)與 來自增壓室的各出口大體上同軸線地延伸。
22. 根據(jù)權(quán)利要求20或21所述的設(shè)備,其中每個(gè)所述的用于接收 燃料和氧化劑的裝置構(gòu)造為將燃料和氧化劑噴射到增壓室內(nèi),以改變由 燃?xì)庠谑覂?nèi)形成的燃燒火焰的屬性。
23. 根據(jù)權(quán)利要求14至22的任何項(xiàng)所述的設(shè)備,其中控制裝置包 括每個(gè)用于改變向各噴嘴的氧化劑供給的多個(gè)第 一可變流量控制設(shè)備,和用于響應(yīng)于接收的數(shù)據(jù)選擇地控制每個(gè)第一可變流量控制設(shè)備的 控制器。
24. 根據(jù)權(quán)利要求23所述的設(shè)備,其中控制裝置包括每個(gè)用于改變 向各噴嘴的燃料供給的多個(gè)第二可變流量控制設(shè)備,控制器構(gòu)造為響應(yīng) 于接收的數(shù)據(jù)選擇地控制每個(gè)第二可變流量控制設(shè)備。
25. 根據(jù)權(quán)利要求14至24的任何項(xiàng)所述的設(shè)備,其中燃料包括碳 氫化合物,優(yōu)選地為甲烷。
26. 根據(jù)權(quán)利要求14至25的任何項(xiàng)所述的設(shè)備,其中氧化劑包括氧。
27. 根據(jù)權(quán)利要求14至26的任何項(xiàng)所述的設(shè)備,包括至少四個(gè)噴 嘴,每個(gè)用于接收各廢氣。
28. —種燃燒設(shè)備,包括燃燒室;多個(gè)燃燒噴嘴,每個(gè)用于接收 各廢氣以用于在燃燒室內(nèi)的燃燒且用于將廢氣輸送到燃燒室;增壓室, 增壓室具有用于接收包括燃料和氧化劑的燃?xì)庖栽谌紵覂?nèi)形成燃燒 火焰的入口和每個(gè)繞各噴嘴延伸以用于將燃?xì)夤┙o到燃燒室的多個(gè)出以選;地:整i過各出'口從增:室供給到燃燒室'的燃料和氧化口劑的相對量,該設(shè)備包括用于根據(jù)與所述的裝置的每個(gè)相關(guān)的噴嘴內(nèi)所包含的 廢氣的化學(xué)組成來選擇地改變供給到所述的裝置的每個(gè)的燃料和氧化 劑的相對量的裝置。
全文摘要
描述了用于燃燒從多個(gè)處理室輸出的廢氣的設(shè)備。設(shè)備包括連接到燃燒室(24)的多個(gè)廢氣燃燒噴嘴(22)。每個(gè)噴嘴接收各廢氣(26)且包括用于接收燃料(40)和氧化劑(30)的裝置以用于在室內(nèi)形成燃燒火焰??刂破鹘邮沾砹斯┙o到每個(gè)噴嘴的廢氣的化學(xué)組成的數(shù)據(jù),且響應(yīng)于接收的數(shù)據(jù)調(diào)整供給到每個(gè)噴嘴的燃料和氧化劑的相對量。這可以使得每個(gè)燃燒火焰的屬性能根據(jù)待由此火焰銷毀的廢氣的屬性而選擇地修改,因此提高了廢氣的銷毀率效率且優(yōu)化了燃料消耗。
文檔編號F23G7/06GK101175949SQ200680017049
公開日2008年5月7日 申請日期2006年5月3日 優(yōu)先權(quán)日2005年5月16日
發(fā)明者C·M·哈里森, D·門尼, N·B·瓊斯 申請人:愛德華茲有限公司
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