專利名稱：用于微復(fù)制的冷卻單元的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及制造薄膜的領(lǐng)域，該薄膜包含微復(fù)制的圖案以便產(chǎn)生具有特定光學(xué)性質(zhì)的表面形貌。更具體地，本發(fā)明涉及提高某些微復(fù)制過程的生產(chǎn)效率。
背景技術(shù)：
微復(fù)制是使軟化的聚合物膜或壓出的材料與壓力壓區(qū)接觸使得壓出型材或軟化的薄膜壓在其上具有精細(xì)圖案或特定表面形貌的工具上的過程。圖案或者形貌被相反地轉(zhuǎn)印到與工具接觸的材料側(cè)。上述過程被廣泛用于輥到輥制造方法，以產(chǎn)生圖案化或復(fù)制的產(chǎn)品，例如反光材料和其他光學(xué)薄膜。典型的微復(fù)制過程包括加熱工具，以軟化聚合物材料，其可以被提供作為薄膜或壓出型材，然后利用熱量和壓力將圖案壓印在聚合物材料上，隨后冷卻材料，然后在被卷起、制成片狀或以其他方式收集之前冷卻圖案化的聚合物。制造速度可能受最慢工藝限制，這可由以上提到的步驟(加熱、壓印、冷卻)中的任何一個(gè)確定。隨著加熱的進(jìn)展，例如通過NIR，冷卻步驟則可能成為瓶頸，即薄膜未被足夠快地冷卻，因此生產(chǎn)速度不得不降低以提供足夠的時(shí)間用于薄膜的進(jìn)一步冷卻。目前，冷卻通過冷卻空氣的使用如再循環(huán)風(fēng)扇、送風(fēng)機(jī)、激冷輥等而進(jìn)行。存在多種改善薄膜或網(wǎng)狀物的冷卻的現(xiàn)有方法。一個(gè)這種示例是使用熱傳導(dǎo)從薄膜中去除熱。眾所周知的是，熱傳導(dǎo)的傳熱系數(shù)的數(shù)量級(jí)高于熱對(duì)流(通過空氣)。通過傳導(dǎo)的冷卻一般通過一個(gè)或兩個(gè)連續(xù)的冷卻帶實(shí)現(xiàn)。這種類型的裝備在藥物或食品行業(yè)中得到廣泛的實(shí)施。通常，這樣的薄金屬帶(不銹鋼或黃銅)在其端部連接，以形成封閉的環(huán)。通過在需要冷卻的表面的相反的帶側(cè)上噴灑冷凍水或其他冷卻劑，保持帶是冷卻的。由于通過金屬的高熱傳遞，從熱表面有效地去除熱。在這個(gè)過程中，至關(guān)重要的是確保熱與冷表面的良好接觸。如果在冷卻帶與正被冷卻的薄膜的表面之間存在氣隙，傳熱系數(shù)顯著下降并且冷卻變得無效。這種冷卻裝備的代表性制造商包括Sandvik和BBA。因此，存在改進(jìn)冷卻步驟的需要，以便促進(jìn)具有特定表面形貌的圖案化的產(chǎn)品的生產(chǎn)。發(fā)明概述下面描述的本發(fā)明的實(shí)施例并不是為了窮舉或?qū)⒈景l(fā)明限于以下詳述中所公開的確切形式。相反，選擇或描述實(shí)施例使得本領(lǐng)域技術(shù)人員可以認(rèn)識(shí)并理解本發(fā)明的原理和實(shí)踐。根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例，公開了一種用于微復(fù)制的設(shè)備。該設(shè)備包括冷卻單元，其包含底層、多個(gè)側(cè)壁和中間層。底層具有外周邊和圍繞底側(cè)的外周邊的多個(gè)側(cè)壁。中間層被定位在底層和側(cè)壁的上部之間。中間層可以包括多個(gè)開口，其可以保持分配冷卻劑的裝置或用于排出冷卻劑。 在微復(fù)制過程中，方法在加熱和壓印聚合物膜之后使用該設(shè)備。
本發(fā)明的一個(gè)目的是，提供具有用于微復(fù)制的冷卻帶的系統(tǒng)，其包括圍繞第一組輥形成環(huán)的帶、支撐帶和薄膜的第二組輥以及用于遞送至少一種冷卻劑的至少一個(gè)噴嘴，其中至少一個(gè)噴嘴位于帶和薄膜下面。本發(fā)明的另一個(gè)目的是，提供具有用于微復(fù)制的冷卻帶的系統(tǒng)，其包括圍繞第一組輥形成環(huán)的帶，其中第一組輥支撐帶和薄膜，以及用于遞送至少一種冷卻劑的至少一個(gè)噴嘴，其中至少一個(gè)噴嘴位于帶和薄膜下面。參照以下詳述，本發(fā)明的其他特征和優(yōu)勢(shì)對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員將是顯而易見的。然而，應(yīng)理解的是，盡管指出本發(fā)明的優(yōu)選或其他實(shí)施例，但各種實(shí)施例和具體實(shí)例的給出意在圖示說明而不是限制。在不背離本發(fā)明的精神的情況下，可以做出本發(fā)明范圍內(nèi)的多種變化和修改,并且本發(fā)明包括所有此類修改。


通過參考本發(fā)明的目前優(yōu)選示例性實(shí)施例的以下更詳細(xì)的說明并結(jié)合附圖，將更完整地理解并認(rèn)識(shí)該發(fā)明的這些以及其他目的和優(yōu)勢(shì)，其中:圖1是冷卻單元的示意
圖2a_2b冷卻單元的設(shè)計(jì)的示意圖；圖3是冷卻布置的示意圖；以及圖4示出了微復(fù)制布置的示例性視圖。除非另作說明，以上附圖的圖示不必按比例繪制。發(fā)明詳述通過示例并參照附圖，詳細(xì)地描述了本文中所公開的設(shè)備和方法。除非另作聲明，附圖中的相同數(shù)字表示指代遍及附圖的相同、相似或?qū)?yīng)的元件。應(yīng)當(dāng)理解，可以對(duì)所公開和描述的示例、布置、配置、部件、元件、設(shè)備、方法、材料等進(jìn)行更改，并且對(duì)于具體應(yīng)用可能是期望的。在本公開中，具體形狀、材料、技術(shù)、布置等的任何確定涉及呈現(xiàn)的具體示例或僅僅是這種形狀、材料、技術(shù)、布置等的一般描述。具體細(xì)節(jié)或示例的確定并不是為了并且不應(yīng)被理解為是強(qiáng)制的或限制的，除非特別如此指出。參照附圖，在下文中詳細(xì)地公開和描述了選擇的設(shè)備和方法的示例。公開了一種微復(fù)制的冷卻方法。該冷卻方法在冷卻壓花聚合物膜中采用熱傳導(dǎo)。圖1提供了冷卻單元110的圖示說明。冷卻單元110包括箱106和一組噴嘴104。箱106具有兩個(gè)側(cè)部106-1和底部106-2。該組噴嘴104通過供給管105連接，供給管105可以從共同源或單獨(dú)地供應(yīng)該組噴嘴104。加熱后，壓花聚合物膜或網(wǎng)狀物102逐漸地被向前(箭頭M指示的)轉(zhuǎn)位經(jīng)過冷卻單元110。壓花聚合物膜102具有后側(cè)103和前側(cè)101。前側(cè)101包括由加熱并壓印壓花聚合物膜102形成的壓花圖案，并且不與冷卻單元110接觸，而壓花聚合物膜102的后側(cè)103與冷卻單元110接觸在冷卻壓花聚合物膜102中，該組噴嘴104將冷卻劑直接噴灑在壓花聚合物膜102的后側(cè)103上，而箱106被用來收集從噴嘴104排出后的冷卻劑以便被重復(fù)利用或處理。泵送和制冷系統(tǒng)還可以用于遞送冷卻劑。冷卻劑可以包括但不限于水、冷凍水、與二醇(glycol)混合的水、二醇或與空氣混合的水。每個(gè)噴嘴104通過供給管105連接到冷卻劑的供應(yīng)源。供給管105可以從一個(gè)供應(yīng)源或若干獨(dú)立的供應(yīng)源提供冷卻劑。當(dāng)供給管105從冷卻劑的獨(dú)立供應(yīng)源供給噴嘴104時(shí)，可以同時(shí)提供不同類型的冷卻劑。此外，噴嘴104可以裝備有控制閥，其允許使用一種類型的冷卻劑而不使用其他冷卻劑?？梢越o每個(gè)噴嘴104或每輥噴嘴或特定區(qū)域內(nèi)的噴嘴添加控制閥。此外，供應(yīng)冷卻劑的流速可以改變。即兩種或更多種類型的冷卻劑可以以相同流速或不同流速?gòu)脑摻M噴嘴104供應(yīng)至壓花聚合物膜102的后側(cè)103，使得溫度能根據(jù)需要更改以增加或減少冷卻單元110中的冷卻速率。通過單獨(dú)供給冷卻劑，可以對(duì)一種制造工藝或者不同的制造工藝或材料使用不同的冷卻劑。通過允許在不同的制造工藝中使用另外的冷卻劑，當(dāng)存在不同處理應(yīng)用的材料或要求完全改變時(shí)，無需清洗整個(gè)系統(tǒng)。單獨(dú)供給冷卻劑的另一優(yōu)勢(shì)，冷卻劑的溫度能夠依據(jù)用于冷卻的材料類型而改變。例如，用作冷卻劑的水在大約45° F至大約55° F的范圍內(nèi)，而二醇用作冷卻劑時(shí)可以具有大約45° F的溫度范圍。供給管105能根據(jù)制造操作的需要、尺寸以及速度從一個(gè)或更多個(gè)箱中吸取冷卻劑 。給定組噴嘴104的冷卻效率可以通過調(diào)整噴嘴104與壓花聚合物膜102之間的距離或者噴嘴104指向壓花聚合物膜102的角度而進(jìn)一步提高。冷卻單元110將防水密封地附接到微復(fù)制設(shè)備。此外，空氣干燥單元或氣刀可以被布置在冷卻單元的下游，以便干燥或去除留在壓花聚合物膜102上的任何殘留的冷卻劑。圖2a和2b提供了冷卻單元的設(shè)計(jì)的圖示說明。圖2a描述了冷卻單元110的透視圖。冷卻單元Iio具有底層111 ;多個(gè)側(cè)壁112，側(cè)壁112具有上部和下部。底層111具有由外周邊圍繞的特定區(qū)域，其中底層111具有頂面和底面。如圖2a所示，底層111的外周邊是矩形形狀。如果底層112是矩形的，那么就有圍繞底層112的外周邊的四個(gè)側(cè)壁。除了底層111的矩形形狀外，其他幾何形狀也可以用于冷卻單元110，例如正方形或六邊形。冷卻單元還包括中間層或承載墊113。中間層113具有頂側(cè)115、底側(cè)114和中間層外周邊。若干孔116、117和118位于中間層113上?？?16、117和118具有變化的尺寸，以允許多種型號(hào)的噴嘴104 (圖1)遞送冷卻劑。中間層113位于底層111與冷卻單元110的側(cè)壁112的頂部下方之間的空間中。中間層113不與壓花聚合物膜102接觸。中間層113不與底層111接觸，以允許管路或?qū)Ч鼙徊贾迷谟芍虚g層113與底層111限定的空間內(nèi)。為了收集冷卻劑，底層111可以具有連接到中心排水管的排水孔。中心排水管路還可以收集中心存儲(chǔ)容器中失效的冷卻劑。圖2b提供了孔116的配置和中間層113的間距。如所顯示的，孔116被均勻地間隔且對(duì)齊。除了孔116外，冷卻單元110 (圖2a)還可以包含收集溝槽或收集凹槽或收集通道(row) 119，其用于在冷卻劑已經(jīng)通過噴嘴104 (圖1)排出后收集冷卻劑，其位于孔116內(nèi)。除了由圖2b提出的實(shí)施例外，孔116和收集溝槽119的多種配置可以被布置在中間層113上，從而提供一致的冷卻模式。圖3描述了示例性冷卻帶系統(tǒng)130。冷卻帶系統(tǒng)130包括冷卻單元110、薄金屬帶120、第一組輥121和第二組輥125。薄金屬帶120圍繞第一組輥121和第二組輥125形成連續(xù)的環(huán)。在薄金屬帶120以連續(xù)的環(huán)運(yùn)行時(shí)，第一組輥121支撐薄金屬帶120。第二組輥125被包含在冷卻單元110內(nèi)并支撐薄金屬帶120、壓花聚合物膜102和一組用于遞送冷卻劑的噴嘴104。薄金屬帶120具有頂側(cè)123和底側(cè)122。薄金屬帶120的底側(cè)122與冷卻帶系統(tǒng)130接觸，并且薄金屬帶120的頂側(cè)123與壓花聚合物膜102接觸。在加熱和壓印壓花聚合物膜102后，薄金屬帶120最初與壓花聚合物膜102接觸。在初始接觸后，薄金屬帶120通過第一組輥121和第二組輥125的輔助使壓花聚合物膜102向前移動(dòng)，如箭頭F所指示的。隨著壓花聚合物膜102的一部分位于薄金屬帶120之上并沿F方向向前移動(dòng)，由供給管105供給的該組噴嘴104將冷卻劑噴灑在薄金屬帶120的底側(cè)122上。壓花聚合物膜102優(yōu)選與薄金屬帶120接觸或近似接觸靠近，以便不阻礙壓花聚合物膜102的移動(dòng)，或者不以另外的方式使位于壓花聚合物膜102的前側(cè)101 (圖1)上的壓花圖案或形貌變形。通過從薄金屬帶120至壓花聚合物膜102的傳導(dǎo)，壓花聚合物膜102將經(jīng)歷溫度的降低、自熔融狀態(tài)的冷卻，其中在不破壞壓花圖案的情況下使壓花圖案降低至較低溫度。關(guān)鍵的是確保壓花聚合物膜102與薄金屬帶120之間的良好的熱接觸，以提供壓花聚合物膜102的充分冷卻。如果薄金屬帶120與壓花聚合物膜102之間存在氣隙，傳熱系數(shù)顯著下降并且冷卻變得無效。逐漸地，壓花聚合物膜102部分將沿F方向被薄金屬帶120、第一組輥121和第二組輥125拉動(dòng)經(jīng)過冷卻單元110。隨著噴嘴104持續(xù)噴灑薄金屬帶120，失效的冷卻劑被箱106收集。一旦壓花聚合物膜102部分到達(dá)靠近冷卻單元110的終端，壓花聚合物膜102就繼續(xù)向前并且不再與薄金屬帶120接觸，薄金屬帶120維持在其連續(xù)的環(huán)中。盡管已經(jīng)描述了薄金屬帶120，但應(yīng)理解可以用其他材料替代金屬，例如熱包層、具有從材料中去除或吸走熱的聚合材料或其他材料。此外，該實(shí)施例在冷卻帶系統(tǒng)130中顯示了四個(gè)噴嘴104 ;然而，對(duì)于冷卻帶系統(tǒng)130來說，可以配置任何數(shù)量的噴嘴104。同樣，在不背離本實(shí)施例的情況下，任何數(shù)量的輥或輥組可以以任何配置被提供。任選地，可以在微復(fù)制工具或帶的相對(duì)側(cè)上使用冷卻帶系統(tǒng)130，以確保壓花聚合物膜102與金屬帶120之間的緊密熱接觸。此外，冷卻帶系統(tǒng)130可以包括位于冷卻單元110之上的第三組輥，其與壓花聚合物膜102接合。第三組輥以與壓花聚合物膜102相同的速度移動(dòng)，并將壓力施加在壓花聚合物膜102上。圖4是具有微復(fù)制冷卻帶140和微復(fù)制帶141的微復(fù)制設(shè)備131的示意圖，微復(fù)制帶141包括微復(fù)制帶141的表面上的圖案。第一聚合物膜136被纏繞在第一聚合物膜輥135上。第二聚合物膜138也可以被提供并纏繞在第二聚合物膜輥137上。第一聚合物膜136和第二聚合物膜138被一組輥139朝向熱輥142向前拉動(dòng)，以開始微復(fù) 制過程。熱輥142被提供用于加熱一個(gè)或更多個(gè)壓輥134、第一聚合物膜136和第二聚合物膜138。隨著壓棍134與第一聚合物膜136和第二聚合物膜138相互作用，第一聚合物膜136和第二聚合物膜138沿著微復(fù)制帶141行進(jìn)。壓輥134提供壓力，于是提供特定的表面形貌。該組輥139保持第一聚合物膜136和第二聚合物膜138移動(dòng)并維持足夠的張力。一旦第一聚合物膜136和第二聚合物膜138沿著熱輥142和壓輥134行進(jìn)，第一聚合物膜136和第二聚合物膜138沿著微復(fù)制冷卻帶140行進(jìn)。微復(fù)制冷卻帶140被提供用于冷卻第一聚合物膜136和第二聚合物膜138。微復(fù)制冷卻帶140可以由金屬如銅、鎳、鋁或不銹鋼制成，并且包括包括一組輥144，其形成封閉環(huán)143以保持微復(fù)制冷卻帶140上的恒定速度。微復(fù)制冷卻帶140的厚度可以為大約5密耳至大約25密耳，其中大約8密耳至大約10密耳是優(yōu)選的。多個(gè)噴灑噴嘴104可以以陣列的形式布置在微復(fù)制冷卻帶140的底側(cè)，并且由供給管105供給。一旦第一聚合物膜136和第二聚合物膜138沿著微復(fù)制冷卻帶140行進(jìn)，第一聚合物膜136和第二聚合物膜138就在卷起輥146處被卷起。為了確保第一聚合物膜136和第二聚合物膜138與微復(fù)制冷卻帶140之間的良好的熱接觸，可以在微復(fù)制冷卻帶140的頂側(cè)上使用壓力通風(fēng)系統(tǒng)(plenum) 145。額外的棍如132和133可以增加到布置中，以增加保護(hù)性的承載膜或剝離襯里，從而在生產(chǎn)線上實(shí)現(xiàn)
多層層壓結(jié)構(gòu)。通過微復(fù)制冷卻帶140的使用，當(dāng)從微復(fù)制設(shè)備131移除時(shí)，第一聚合物膜136和第二聚合物膜138的剝離溫度與常規(guī)的微復(fù)制制造工藝相比可以降低，在收集聚合物膜方面實(shí)現(xiàn)更好的穩(wěn)定性。冷卻劑的使用還能與空氣結(jié)合，所述空氣從與冷卻劑的相同側(cè)或從與冷卻劑的相對(duì)側(cè)冷卻微復(fù)制設(shè)備131?？諝饫鋮s的應(yīng)用和冷卻劑的使用可以同時(shí)、基本同時(shí)或在微復(fù)制工藝的不同操作時(shí)間發(fā)生。例如，空氣冷卻可以在冷卻劑的應(yīng)用之前和之后發(fā)生，反之亦然。空氣冷卻還可以應(yīng)用以 輔助收集以上所述的溝槽中的冷卻劑。除了所描述的實(shí)施例外，還可以使用單個(gè)聚合物膜或多個(gè)聚合物膜。前述說明和附圖示出了本發(fā)明的原理、優(yōu)選的實(shí)施例和操作方式。然而，本發(fā)明不應(yīng)應(yīng)當(dāng)被理解為限于以上所討論的特定實(shí)施例。本領(lǐng)域技術(shù)人員將會(huì)認(rèn)識(shí)到以上所討論的實(shí)施例的其他變型。因此，上述實(shí)施例應(yīng)當(dāng)被認(rèn)為是示例性的而不是限制性的。因而，應(yīng)當(dāng)認(rèn)識(shí)到，本領(lǐng)域技術(shù)人員在不背離由所附權(quán)利要求所限定的本發(fā)明的范圍的情況下，可以獲得那些實(shí)施例的變型。因此，根據(jù)本發(fā)明可以看出，已經(jīng)提供了用于生產(chǎn)微復(fù)制薄膜的非常有利的工藝。盡管已經(jīng)結(jié)合目前被認(rèn)為是最實(shí)際和優(yōu)選的實(shí)施例描述了本發(fā)明，但對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見的是本發(fā)明不限于所公開的實(shí)施例，并且在本發(fā)明的范圍內(nèi)可以進(jìn)行多種修改或等效布置，該范圍將被給予所附權(quán)利要求最廣泛的解釋以便包所有等同結(jié)構(gòu)或產(chǎn)品。因此，根據(jù)本發(fā)明可以看出，已經(jīng)提供了用于冷卻壓花聚合物膜的非常有利的方法和設(shè)備。盡管已經(jīng)結(jié)合目前被認(rèn)為是最實(shí)際和優(yōu)選的實(shí)施例描述了本發(fā)明，但對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見的是本發(fā)明不限于所公開的實(shí)施例，并且在本發(fā)明的范圍內(nèi)可以進(jìn)行多種修改或等效布置，該范圍將被給予所附權(quán)利要求最廣泛的解釋以便包所有等同結(jié)構(gòu)或產(chǎn)品O發(fā)明人據(jù)此聲明其意圖是，依靠等同原則，確定和估定其發(fā)明的相當(dāng)公正的范圍，該發(fā)明涉及以下權(quán)利要求中提出的未實(shí)質(zhì)背離但在發(fā)明文字范圍外的任何設(shè)備、系統(tǒng)、方法或 制品。
權(quán)利要求
1.用于微復(fù)制的冷卻單元，其包含: 底層，其具有由外周邊圍繞的區(qū)域，其中所述底層具有頂面和底面； 圍繞所述底層的外周邊的多個(gè)側(cè)壁，其中每個(gè)側(cè)壁均具有頂部和下部，其中所述側(cè)壁的所述下部被連接到所述底層的所述外周邊； 中間層，其具有由外部的中間層周邊圍繞的區(qū)域并且具有頂側(cè)和底側(cè)，其中所述中間層位于所述底層與每個(gè)所述側(cè)壁的所述上部之間； 多個(gè)開口，其在所述中間層的所述底面與所述底層的所述頂面之間；以及 其中所述多個(gè)開口中的至少一個(gè)保持控制至少一種類型冷卻劑的裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷卻單元，其中所述裝置是噴嘴。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷卻單元，其中所述多個(gè)開口中的一些用于排出至少一種冷卻劑。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷卻單元，其中所述多個(gè)開口中的一些用于再循環(huán)所述至少一種冷卻劑。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷卻單元，其中所述至少一種冷卻劑是二醇。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷卻單元，其中所述至少一種冷卻劑是與二醇混合的水。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷卻單元，其中所述至少一種冷卻劑是與空氣混合的二醇。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷卻單元，其中所述至少一種冷卻劑是與空氣混合的水。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷卻單元，其中聚合物膜被放在所述冷卻單元的所述側(cè)壁的所述上部上。`
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷卻單元，其還包含凹槽、溝槽或通道。
11.用于微復(fù)制的冷卻帶的系統(tǒng)，其包含: 帶，其圍繞第一組輥形成環(huán)； 第二組輥；其支撐所述帶和薄膜；以及 至少一個(gè)噴嘴，其用于遞送至少一種冷卻劑，其中至少一個(gè)噴嘴位于所述帶和所述薄膜之下。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其中所述帶是金屬。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其中所述帶是熱包層。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其中所述薄膜是聚合物膜。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其中所述薄膜與所述帶接觸。
16.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其中所述薄膜與壓力通風(fēng)系統(tǒng)接觸。
17.用于微復(fù)制的冷卻帶的系統(tǒng)，其包含: 帶，其圍繞一組輥形成環(huán)，所述一組輥支撐所述帶和薄膜；以及至少一個(gè)噴嘴，其用于遞送至少一種冷卻劑；其中至少一個(gè)噴嘴位于所述帶和所述薄膜之下。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的系統(tǒng)，其中所述薄膜是聚合物膜。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的系統(tǒng)，其中所述帶是金屬。
20.根據(jù)權(quán)利要求17所述的系統(tǒng)，其中所述薄膜與所述帶接觸。
全文摘要
根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例，公開了用于微復(fù)制的設(shè)備。該設(shè)備包括冷卻單元(110)，其包含底層(111)、多個(gè)側(cè)壁(112)和中間層(113)。底層具有外周邊和圍繞底層的外周邊的多個(gè)側(cè)壁。中間層被定位在底層與側(cè)壁的上部之間。中間層可以包括多個(gè)開口(116、117、118)，其可以保持分配冷卻劑的裝置，或被用于排出冷卻劑。在微復(fù)制期間，方法在加熱和壓印聚合物膜之后使用該設(shè)備。
文檔編號(hào)B29C35/16GK103228413SQ201180057304
公開日2013年7月31日 申請(qǐng)日期2011年11月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月30日
發(fā)明者E·羅澤鮑姆 申請(qǐng)人:艾利丹尼森公司