本發(fā)明涉及升降機構技術領域，尤其涉及一種工作抬升機構。

背景技術：

工作臺抬升機構是一種在生成過程中輔助生成的升降機構。

在半導體、集成電路等領域，涉及基板的輸送，基板定位等相關工藝的設備一般都配置有三維調整工作臺，通過三維調整工作臺實現(xiàn)水平x向、水平y(tǒng)向、垂直z向三個方向的定位運動。

目前傳統(tǒng)工藝設備的工作臺三個運動方向均采用獨立控制的方式，并且工作臺升降機構常采用氣缸驅動以及滾珠絲杠，配合伺服電機驅動等方式實現(xiàn)z向升降。傳統(tǒng)的工作臺抬升機構存在以下不足：

（1）結構復雜臃腫，操作不靈活，檢查、維修部方便；

（2）工作臺抬升機構電氣控制繁瑣，操作不方便。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是針對上述技術問題，提供工作抬升機構，其結構簡單，采用楔形機構簡化了機構的復雜程度，使用一個動力源控制實現(xiàn)水平運動轉換為垂直運動，降低了機構的控制難度及綜合成本。

本發(fā)明的技術方案

為解決上述技術問題，本發(fā)明提供的工作抬升機構，包括底板，下層工作臺，上層工作臺，位于下層工作臺與下層工作臺之間的拉簧，機械限位塊及滾輪導向機構。

底板上設置有一對水平導軌，下層工作臺通過水平導軌副與底板上的水平導軌連接；下層工作臺的上部設置有斜面塊，斜面塊上設置有斜面導軌，上層工作臺通過導軌滑塊副與下層工作臺上的斜面導軌連接；機械限位塊設置在限位塊底座上，限位塊底座固定在底板上；滾輪導向機構設置在上層工作臺上，其上的滾輪與機械限位塊相抵接。

進一步地，所述下層工作臺包括下層板，水平導軌副位于下層板的底部，其固定位置與水平導軌的位置相對應，斜面塊設置在下層板的上部，其固定位置與斜面導軌的位置相對應。

進一步地，所述斜面塊的數(shù)量至少為一對。

進一步地，所述上層工作臺包括上層板，上層板的兩側設置有滑塊座，斜面導軌位于滑塊座上。

進一步地，所述滾輪導向機構包括滾輪及滾輪軸，滾輪設置在滾輪軸上，并安裝在上層工作臺端部的兩側。

進一步地，所述工作臺抬升機構還包括掛簧銷，掛簧銷固定在下層板一側的凹槽內；所述拉簧一端固定在掛簧銷上，其另一端固定在上層板上。

進一步地，所述斜面塊的數(shù)量為兩對。

本發(fā)明有益效果：

本發(fā)明提供的工作臺抬升機構，其結構簡單，操作靈活，具有以下有益效果：

（1）采用楔形機構簡化了機構的復雜程度，操作靈活；

（2）只需配置一個動力源控制即可實現(xiàn)水平運動轉換為垂直運動，降低了機構的控制難度及綜合成本。

附圖說明

通過結合以下附圖所作的詳細描述，本發(fā)明的上述優(yōu)點將變得更清楚和更容易理解，這些附圖只是示意性的，并不限制本發(fā)明，其中：

圖1是本發(fā)明的結構示意圖；

圖2是本發(fā)明之工作臺上升示意圖；

圖3是本發(fā)明之工作臺下降示意圖；

圖4是本發(fā)明之下層工作臺軸測圖；

圖5是本發(fā)明之上層工作臺軸測圖。

附圖中，各標號所代表的部件如下：

1.底板；2.水平導軌；3.水平導軌副；4.下層板；5.斜面塊；6.滑塊座；7.限位塊底座；8.機械限位塊；9.拉簧；10.滾輪；11.上層板；12.滾輪軸；13.導軌滑塊副；14.斜面導軌；15.掛簧銷。

具體實施方式

下面結合具體實施例和附圖，對本發(fā)明所述的工作臺抬升機構進行詳細說明。

在此記載的實施例為本發(fā)明的特定的具體實施方式，用于說明本發(fā)明的構思，均是解釋性和示例性的，不應解釋為對本發(fā)明實施方式及本發(fā)明范圍的限制。除在此記載的實施例外，本領域技術人員還能夠基于

本技術：
權利要求書和說明書所公開的內容采用顯而易見的其它技術方案，這些技術方案包括采用對在此記載的實施例的做出任何顯而易見的替換和修改的技術方案。

本說明書的附圖為示意圖，輔助說明本發(fā)明的構思，示意性地表示各部分的形狀及其相互關系。請注意，為了便于清楚地表現(xiàn)出本發(fā)明實施例的各部件的結構，相同的參考標記用于表示相同的部分。

圖1至圖5是本發(fā)明所述的工作臺抬升機構的相關示意圖。

工作臺抬升機構的結構示意圖，如圖1所示，其包括底板1，下層工作臺，上層工作臺，位于下層工作臺與下層工作臺之間的拉簧9，機械限位塊8及滾輪導向機構。

底板1上設置有一對水平導軌2，下層工作臺通過水平導軌副3與底板1上的水平導軌2連接；下層工作臺的上部設置有斜面塊5，斜面塊5上設置有斜面導軌14，上層工作臺通過導軌滑塊副13與下層工作臺上的斜面導軌14連接；機械限位塊8設置在限位塊底座7上，限位塊底座7固定在底板1上；滾輪導向機構設置在上層工作臺上，其上的滾輪10與機械限位塊8相抵接。滾輪導向機構上設置的滾輪10與限位塊接觸后可降低接觸摩擦力，實現(xiàn)上層工作臺沿斜面導軌上升。

當外力驅動工作臺升降機構時，下層工作臺向水平y(tǒng)向運動，安裝于滑塊座6側面兩端的滾輪10與機械限位塊8接觸，滾輪10受機械限位塊8反向阻力作用實現(xiàn)轉動，減小了與機械限位塊8之間的摩擦力，同時上層工作臺沿導軌斜面13向上運動，實現(xiàn)上層工作臺沿垂直z向上升，如圖2所示。

當工作臺升降機構與機械限位塊8脫離時，受拉簧9的拉力作用，上層工作臺沿斜面導軌14下行至初始位，實現(xiàn)上層工作臺沿垂直z向下降，如圖3所示。

所述下層工作臺結構示意圖，如圖4所示，其包括下層板4，水平導軌副3位于下層板4的底部，其固定位置與水平導軌2的位置相對應，斜面塊5設置在下層板4的上部，其固定位置與斜面導軌14的位置相對應；具體地，斜面塊5與斜面導軌14通過螺釘相連，共同固定在下層板4上，下層板4則通過螺釘與水平導軌2和水平導軌副3相連接，并固定在底板1上。

所述斜面塊5的數(shù)量至少為一對，在途1所示的實施例中，所述斜面塊5的數(shù)量為兩對。

圖5是上層工作臺的結構示意圖，其包括上層板11，上層板11的兩側設置有滑塊座6，斜面導軌14位于滑塊座6上；上層板11與滑塊座6采用螺釘固定，導軌滑塊副13通過螺釘安裝于滑塊座6下斜面。

所述滾輪導向機構包括滾輪10及滾輪軸12，滾輪10設置在滾輪軸12上，滾輪10與滾輪軸12通過緊配合裝配，并安裝在滑塊座6側面兩端孔內。

所述工作臺抬升機構還包括掛簧銷15，掛簧銷15固定在下層板4一側的凹槽內；所述拉簧9一端固定在掛簧銷15上，其另一端固定在上層板11上。

本發(fā)明提供的工作臺抬升機構，其結構簡單，操作靈活，采用楔形機構簡化了機構的復雜程度，使用一個動力源控制實現(xiàn)水平運動轉換為垂直運動，降低了機構的控制難度及綜合成本，具有良好的推廣價值。

本發(fā)明不局限于上述實施方式，任何人在本發(fā)明的啟示下都可得出其他各種形式的產(chǎn)品，但不論在其形狀或結構上作任何變化，凡是具有與本申請相同或相近似的技術方案，均落在本發(fā)明的保護范圍之內。

技術特征：

技術總結
本發(fā)明公開的工作臺抬升機構，包括底板，下層工作臺，上層工作臺，位于下層工作臺與下層工作臺之間的拉簧，機械限位塊及滾輪導向機構；底板上設置有一對水平導軌，下層工作臺通過水平導軌副與底板上的水平導軌連接；下層工作臺的上部設置有斜面塊，斜面塊上設置有斜面導軌，上層工作臺通過導軌滑塊副與下層工作臺上的斜面導軌連接；機械限位塊設置在限位塊底座上，并固定在底板上；滾輪導向機構設置在上層工作臺上，其上的滾輪與機械限位塊相抵接。本發(fā)明提供的工作臺抬升機構，其結構簡單，操作靈活，采用楔形機構簡化了機構的復雜程度，使用一個動力源控制實現(xiàn)水平運動轉換為垂直運動，降低了機構的控制難度及綜合成本，具有良好的推廣價值。

技術研發(fā)人員：王慧;任曉慶;楊志
受保護的技術使用者：北京半導體專用設備研究所（中國電子科技集團公司第四十五研究所）
技術研發(fā)日：2017.04.26
技術公布日：2017.08.18