本實(shí)用新型涉及自動(dòng)化設(shè)備領(lǐng)域,尤其涉及一種升降貼膜機(jī)構(gòu)。
背景技術(shù):
現(xiàn)有產(chǎn)品的貼膜仍有人工手動(dòng)作業(yè)完成,貼膜精度低,準(zhǔn)確性差,工位占用面積大,執(zhí)行效率低,無法適應(yīng)現(xiàn)代化生產(chǎn)需要。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型主要解決的技術(shù)問題是提供一種升降貼膜機(jī)構(gòu),用于將來自撕膜機(jī)構(gòu)分離出的靜電膜片進(jìn)行吸緊固定,并將膜片包附在產(chǎn)品底部及四周側(cè)壁,采用側(cè)推包附和弧面包附壓緊膜片,整機(jī)構(gòu)所占空間小且可參數(shù)化調(diào)整供膜高度,實(shí)現(xiàn)靜電膜片高效自動(dòng)分離貼膜。
為解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型采用的一個(gè)技術(shù)方案是:提供一種升降貼膜機(jī)構(gòu),包括機(jī)臺(tái)模組、升降模組、內(nèi)吸嘴模組、定位模組以及側(cè)面包附模組,所述機(jī)臺(tái)模組包含上底座、下底座和側(cè)立板,所述側(cè)立板垂直連接上底座和下底座,形成可供升降模組容置的箱體空間,所述上底座中央開設(shè)有貫通匹配升降模組的開口,所述內(nèi)吸嘴模組設(shè)置在所述開口內(nèi),所述定位模組固定在上底座并對(duì)稱設(shè)置在開口兩側(cè),所述側(cè)面包附模組間隔定位模組對(duì)稱設(shè)置在開口的另外兩側(cè)。
在本實(shí)用新型一個(gè)較佳實(shí)施例中,所述升降模組包含導(dǎo)向軸、軸承、彈簧、限位柱和軸承座板,所述導(dǎo)向軸共四根,垂直固定在下底座上且套接有彈簧,所述軸承座板通過軸承套接在導(dǎo)向軸上,所述下底座上還設(shè)置有位于軸承座板下方的限位柱。
在本實(shí)用新型一個(gè)較佳實(shí)施例中,所述內(nèi)吸嘴模組包含設(shè)置在軸承座板上的吸膜定位座板和周邊吸膜定位板組,所述周邊吸膜定位板組圍繞設(shè)置在吸膜定位座板四邊,每塊周邊吸膜定位板設(shè)置于由兩根支撐柱固定架設(shè)在下底座的側(cè)托板上,周邊吸膜定位板與側(cè)托板之間還設(shè)置有真空密封板,所述吸膜定位座板和周邊吸膜定位板組的表面均開設(shè)有靜電膜片吸嘴孔,氣密連通至氣管接頭。
在本實(shí)用新型一個(gè)較佳實(shí)施例中,所述定位模組包含側(cè)定位氣缸、平推壓膜板和限位銷,所述側(cè)定位氣缸連接平推壓膜板對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行限位,與所述平推壓膜板設(shè)置在同側(cè)的周邊吸膜定位板上還設(shè)置有限位銷以固定靜電膜片。
在本實(shí)用新型一個(gè)較佳實(shí)施例中,所述側(cè)面包附模組包含推進(jìn)氣缸、直線滑軌、行程限位塊、滑動(dòng)底座、側(cè)推導(dǎo)向桿和壓膜滾輪,所述推進(jìn)氣缸和直線滑軌位于同一軸線固定在上底座,所述直線滑軌末端設(shè)置有行程限位塊,所述滑動(dòng)底座設(shè)置在直線滑軌內(nèi),所述側(cè)推導(dǎo)向桿通過軸承固定在滑動(dòng)底座上,所述壓膜滾輪縱向置連接在側(cè)推導(dǎo)向桿末端。
在本實(shí)用新型一個(gè)較佳實(shí)施例中,所述四塊側(cè)托板上還設(shè)置有壓膜滾輪,所述壓膜滾輪通過軸端限位板橫置貼緊產(chǎn)品。
本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型提供的一種升降貼膜機(jī)構(gòu),用于將來自撕膜機(jī)構(gòu)分離出的靜電膜片進(jìn)行吸緊固定,并將膜片包附在產(chǎn)品底部及四周側(cè)壁,采用側(cè)推包附和弧面包附壓緊膜片,整機(jī)構(gòu)所占空間小且可參數(shù)化調(diào)整供膜高度,實(shí)現(xiàn)靜電膜片高效自動(dòng)分離貼膜。
附圖說明
為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖,其中:
圖1 是本實(shí)用新型一種升降貼膜機(jī)構(gòu)的一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)圖;
圖2 是本實(shí)用新型一種升降貼膜機(jī)構(gòu)的一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)圖;
圖3 是本實(shí)用新型一種升降貼膜機(jī)構(gòu)的一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)圖;
圖4 是本實(shí)用新型一種升降貼膜機(jī)構(gòu)的一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)圖;
圖5 是本實(shí)用新型一種升降貼膜機(jī)構(gòu)的一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)圖。
具體實(shí)施方式
下面將對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
如圖1-5所示,本實(shí)用新型實(shí)施例包括:
一種升降貼膜機(jī)構(gòu),包括機(jī)臺(tái)模組1、升降模組2、內(nèi)吸嘴模組3、定位模組4以及側(cè)面包附模組5,所述機(jī)臺(tái)模組1包含上底座101、下底座102和側(cè)立板103,所述側(cè)立板103垂直連接上底座101和下底座102,形成可供升降模組2容置的箱體空間,所述上底座101中央開設(shè)有貫通匹配升降模組2的開口,所述內(nèi)吸嘴模組3設(shè)置在所述開口內(nèi),所述定位模組4固定在上底座101并對(duì)稱設(shè)置在開口兩側(cè),所述側(cè)面包附模組5間隔定位模組4對(duì)稱設(shè)置在開口的另外兩側(cè)。
其中,所述升降模組2包含導(dǎo)向軸201、軸承202、彈簧203、限位柱204和軸承座板205,所述導(dǎo)向軸201共四根,垂直固定在下底座102上且套接有彈簧203,所述軸承座板205通過軸承202套接在導(dǎo)向軸201上,所述下底座102上還設(shè)置有位于軸承座板205下方的限位柱204。
進(jìn)一步的,所述內(nèi)吸嘴模組3包含設(shè)置在軸承座板205上的吸膜定位座板301和周邊吸膜定位板組,所述周邊吸膜定位板組圍繞設(shè)置在吸膜定位座板301四邊,每塊周邊吸膜定位板302設(shè)置于由兩根支撐柱303固定架設(shè)在下底座102的側(cè)托板304上,周邊吸膜定位板302與側(cè)托板304之間還設(shè)置有真空密封板305,所述吸膜定位座板301和周邊吸膜定位板組的表面均開設(shè)有靜電膜片吸嘴孔,氣密連通至氣管接頭306。
進(jìn)一步的,所述定位模組4包含側(cè)定位氣缸401、平推壓膜板402和限位銷403,所述側(cè)定位氣缸401連接平推壓膜板402對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行限位,與所述平推壓膜板402設(shè)置在同側(cè)的周邊吸膜定位板302上還設(shè)置有限位銷403以固定靜電膜片6。
進(jìn)一步的,所述側(cè)面包附模組5包含推進(jìn)氣缸501、直線滑軌502、行程限位塊503、滑動(dòng)底座504、側(cè)推導(dǎo)向桿505和壓膜滾輪506,所述推進(jìn)氣缸501和直線滑軌502位于同一軸線固定在上底座101,所述直線滑軌502末端設(shè)置有行程限位塊503,所述滑動(dòng)底座504設(shè)置在直線滑軌502內(nèi),所述側(cè)推導(dǎo)向桿505通過軸承202固定在滑動(dòng)底座504上,所述壓膜滾輪506縱向置連接在側(cè)推導(dǎo)向桿505末端。
進(jìn)一步的,所述四塊側(cè)托板304上還設(shè)置有壓膜滾輪506,所述壓膜滾輪506通過軸端限位板橫置貼緊產(chǎn)品。
綜上所述,本實(shí)用新型提供了一種升降貼膜機(jī)構(gòu),用于將來自撕膜機(jī)構(gòu)分離出的靜電膜片6進(jìn)行吸緊固定,并將膜片包附在產(chǎn)品底部及四周側(cè)壁,采用側(cè)推包附和弧面包附壓緊膜片,整機(jī)構(gòu)所占空間小且可參數(shù)化調(diào)整供膜高度,實(shí)現(xiàn)靜電膜片6高效自動(dòng)分離貼膜。
以上所述僅為本實(shí)用新型的實(shí)施例,并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍,凡是利用本實(shí)用新型說明書內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換,或直接或間接運(yùn)用在其它相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域,均同理包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。