基板支撐裝置和干燥裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明的基板支撐裝置（2）具備：多個(gè)軸單元（21），其相互平行配置并且各自的兩端被支承，各自能旋轉(zhuǎn)并且能靜止；多個(gè)支撐銷(xiāo)（22），其是在各軸單元（21）的各周向突出地設(shè)有多個(gè)的銷(xiāo)，在各軸方向排列1根或者2根以上而構(gòu)成銷(xiāo)列，在各軸單元（21）中該銷(xiāo)（22）的軸方向相同的上述銷(xiāo)列分別按各軸單元（21）被選擇，由此形成多種用于支撐基板的支撐模式，在形成上述支撐模式的各自的前端支撐基板；以及控制部，其為了形成上述支撐模式中的任一種而控制各軸單元（21）的旋轉(zhuǎn)角度。
【專(zhuān)利說(shuō)明】基板支撐裝置和干燥裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及基板支撐裝置和干燥裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶面板具備隔著液晶層相互相對(duì)的一對(duì)玻璃基板。在這些玻璃基板上形成有配線(xiàn)圖案、電極圖案等圖案。這樣的玻璃基板上的圖案一般利用光刻技術(shù)形成。
[0003]光刻技術(shù)是如下技術(shù):在圖案形成對(duì)象物上形成圖案狀的掩模，通過(guò)該掩模進(jìn)行蝕刻，由此在上述圖案形成對(duì)象物上形成圖案。因此，在利用光刻技術(shù)在玻璃基板上形成圖案的情況下，首先在玻璃基板上形成圖案狀的掩模。
[0004]但是，該掩模包括將包含光致抗蝕劑材料的層被加工成圖案狀的掩模。光致抗蝕劑材料包括使具有感光性的物質(zhì)溶解于規(guī)定的溶劑中的材料等，最初具備流動(dòng)性。因此，每當(dāng)形成圖案狀的上述掩模時(shí)，具備流動(dòng)性的狀態(tài)的光致抗蝕劑材料被涂敷于玻璃基板上。
[0005]涂敷在玻璃基板上的光致抗蝕劑材料然后如專(zhuān)利文獻(xiàn)I所示在干燥室內(nèi)被干燥。這樣的干燥如專(zhuān)利文獻(xiàn)I所示，在減壓的干燥室內(nèi)進(jìn)行。此外，在干燥室內(nèi)，上述玻璃基板從其里面?zhèn)扔删邆涠喔武N(xiāo)的支撐裝置支撐。
[0006]此外，如專(zhuān)利文獻(xiàn)I所示，已知在上述玻璃基板由支撐銷(xiāo)支撐的部分和其它部分產(chǎn)生溫度差。當(dāng)產(chǎn)生這樣的溫度差時(shí)，光致抗蝕劑材料的干燥速度具有差異，在包含光致抗蝕劑材料的涂膜(層)產(chǎn)生干燥不均。因此，在專(zhuān)利文獻(xiàn)I中，在干燥室內(nèi)干燥玻璃基板上的光致抗蝕劑材料的過(guò)程中，適當(dāng)變更支撐上述玻璃基板的支撐銷(xiāo)的位置。
[0007]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0008]專(zhuān)利文獻(xiàn)
[0009]專(zhuān)利文獻(xiàn)1:特開(kāi)2009 - 111234號(hào)公報(bào)
【發(fā)明內(nèi)容】

[0010]發(fā)明要解決的問(wèn)題
[0011]在將涂敷有光致抗蝕劑材料的玻璃基板在干燥室內(nèi)干燥時(shí)，利用多根支撐銷(xiāo)支撐上述玻璃基板的圖案(支撐模式)根據(jù)上述玻璃基板的種類(lèi)而不同。因此，在作為干燥對(duì)象的上述玻璃基板有多種的情況下，需要按其種類(lèi)分別準(zhǔn)備支撐上述玻璃基板的裝置，帶來(lái)問(wèn)題。
[0012]本發(fā)明的目的是提供如下技術(shù):能形成多種包括多根支撐銷(xiāo)、用于支撐基板的支撐模式。
[0013]用于解決問(wèn)題的方案
[0014]本發(fā)明的基板支撐裝置的特征在于，具備:多個(gè)軸單元，其相互平行配置并且各自的兩端被支承，各自能旋轉(zhuǎn)并且能靜止；多個(gè)支撐銷(xiāo)，其是在各軸單元的各周向突出地設(shè)有多個(gè)的銷(xiāo)，在各軸方向排列I根或者2根以上而構(gòu)成銷(xiāo)列，在各軸單元中該銷(xiāo)的軸方向相同的上述銷(xiāo)列分別按各軸單元被選擇，由此形成多種用于支撐基板的支撐模式，在形成上述支撐模式的各自的前端支撐上述基板；以及控制部，其為了形成上述支撐模式中的任一種而控制各軸單元的旋轉(zhuǎn)角度。
[0015]可以是，在上述基板支撐裝置中，上述基板具有包含區(qū)域圖案的表里一對(duì)板面和覆蓋表側(cè)的上述板面的涂膜，上述區(qū)域圖案包括多個(gè)第I區(qū)域和對(duì)各第I區(qū)域進(jìn)行區(qū)分的第2區(qū)域，上述支撐銷(xiāo)以在形成上述支撐模式時(shí)各自的前端收納于上述基板的上述第2區(qū)域內(nèi)的方式設(shè)于各軸單元的各周面上。上述基板支撐裝置的上述支撐銷(xiāo)以在形成上述支撐模式時(shí)各自的前端收納于上述基板的里側(cè)的上述第2區(qū)域內(nèi)的方式設(shè)于各軸單元的各周面上，因此至少覆蓋在第I區(qū)域上的部分的涂膜難以受到來(lái)自各支撐銷(xiāo)的前端的影響。
[0016]優(yōu)選在上述基板支撐裝置中，上述基板包括上述區(qū)域圖案相互不同的多種，上述支撐銷(xiāo)分別形成與上述基板的每個(gè)種類(lèi)對(duì)應(yīng)的支撐模式。
[0017]可以是，在上述基板支撐裝置中，上述軸單元具有能分別獨(dú)立地控制旋轉(zhuǎn)角度的驅(qū)動(dòng)源。在上述基板支撐裝置中，當(dāng)上述軸單元具有能分別獨(dú)立地控制旋轉(zhuǎn)角度的驅(qū)動(dòng)源時(shí)，能增加能由各軸單元的各支撐銷(xiāo)形成的支撐模式的種類(lèi)。
[0018]可以是，在上述基板支撐裝置中，上述支撐銷(xiāo)以相互相同的圖案設(shè)于各軸單元的各周面上。當(dāng)支撐銷(xiāo)以相互相同的圖案設(shè)于各軸單元的各周面上時(shí)，能削減應(yīng)準(zhǔn)備的軸單元的種類(lèi)。
[0019]可以是，在上述基板支撐裝置中，具備存儲(chǔ)部，上述存儲(chǔ)部預(yù)先存儲(chǔ)有用于使上述支撐銷(xiāo)形成上述支撐模式的支撐模式信息，上述控制部基于上述支撐模式信息控制各軸單元的旋轉(zhuǎn)角度。
[0020]可以是，在上述基板支撐裝置中，上述基板用于顯示面板，上述第I區(qū)域包括顯示區(qū)域，上述第2區(qū)域包括非顯示區(qū)域。
[0021 ] 可以是，在上述基板支撐裝置中，上述涂膜包含抗蝕劑材料。
[0022]本發(fā)明的干燥裝置具備上述基板支撐裝置和容納上述基板支撐裝置的干燥室。
[0023]可以是，在上述干燥裝置中，上述干燥室在減壓下進(jìn)行干燥。
[0024]發(fā)明效果
[0025]根據(jù)本發(fā)明，能提供如下技術(shù):能形成多種包括多根支撐銷(xiāo)、用于支撐基板的支撐模式。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0026]圖1是示意性地表示具備本發(fā)明的實(shí)施方式I的基板支撐裝置的干燥裝置的概要構(gòu)成的說(shuō)明圖。
[0027]圖2是基板支撐裝置的立體圖
[0028]圖3是從軸方向觀(guān)看的軸單元的說(shuō)明圖。
[0029]圖4是示出各軸單元上的支撐銷(xiāo)形成第I支撐模式的狀態(tài)的說(shuō)明圖。
[0030]圖5是利用第I支撐模式支撐的玻璃基板的俯視圖。
[0031]圖6是示出各軸單元上的支撐銷(xiāo)形成第2支撐模式的狀態(tài)的說(shuō)明圖。
[0032]圖7是利用第2支撐模式支撐的玻璃基板的俯視圖。
[0033]圖8是示意性地表示實(shí)施方式2的基板支撐裝置的概要構(gòu)成的說(shuō)明圖。
[0034]圖9是示出各軸單元上的支撐銷(xiāo)形成第3支撐模式的狀態(tài)的說(shuō)明圖。[0035]圖10是利用第3支撐模式支撐的玻璃基板的俯視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0036]〈實(shí)施方式I>
[0037]一邊參照?qǐng)D1至圖9 一邊說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式I。圖1示意性地表示具備本發(fā)明的實(shí)施方式I的基板支撐裝置2的干燥裝置I的概要構(gòu)成的說(shuō)明圖。如圖1所示，干燥裝置I主要具備干燥室3和基板支撐裝置2，基板支撐裝置2在容納于該干燥室3內(nèi)的狀態(tài)下使用。
[0038]干燥裝置I是使涂敷在玻璃基板(基板的一例)4的表面41上的包含光致抗蝕劑材料的層(下面為抗蝕劑層)(涂膜的一例)R在干燥室3內(nèi)干燥的裝置。玻璃基板4從其里面42側(cè)在干燥室3內(nèi)由基板支撐裝置2支撐。玻璃基板4上的抗蝕劑層R在減壓的干燥室3內(nèi)以由基板支撐裝置2支撐的狀態(tài)被干燥。
[0039]圖2是基板支撐裝置2的立體圖。如圖2所示，基板支撐裝置2具備多個(gè)(在本實(shí)施方式中為3個(gè))軸單元21 (21A、21B、21C)。各軸單元21 (21A、21B、21C)分別具備:圓柱狀的主體部23 (23A、23B、23C);和軸部24 (24A、24B、24C)，其通過(guò)各主體部23 (23A、23B、23C)的中心部，并且它們的一部分從各主體部23的兩端部突出。
[0040]各軸單元21的從主體部23的兩端部突出的部分的軸部24、24被支撐部件27、27支承。支撐部件27、27相互平行配置。各軸單元21 (21A、21B、21C)分別能旋轉(zhuǎn)地被支承。并且，3個(gè)軸單元21 (21A、21B、21C)均在被這些支撐部件27、27支承的狀態(tài)下相互平行配置。此外，在相鄰的軸單元21彼此之間設(shè)有規(guī)定的間隔?？紤]到后述的支撐模式而適當(dāng)設(shè)定該間隔。另外，如圖1所示，支撐部件27由立設(shè)于干燥室3的底部的支柱28以保持水平的狀態(tài)固定。
[0041]如圖2所示，在被支撐部件27支承的各軸單元21 (21A、21B、21C)的一方端部(軸部)24 (24A、24B、24C)分別安裝有滑輪 25 (25A、25B、25C)。這些滑輪 25 (25A、25B、25C)以相互空開(kāi)間隔排成一列的方式配置。并且，在該列的延長(zhǎng)線(xiàn)上配置有電動(dòng)機(jī)6具備的輸出軸61的前端部62。該電動(dòng)機(jī)(驅(qū)動(dòng)源的一例)6例如包括伺服電動(dòng)機(jī)，由控制部7控制器驅(qū)動(dòng)。并且，在各滑輪25 (25A、25B、25C)和電動(dòng)機(jī)6的前端部62纏掛著沒(méi)有接縫的環(huán)狀的(所謂的無(wú)縫狀的)傳送帶26。S卩，構(gòu)成為:電動(dòng)機(jī)6的輸出通過(guò)傳送帶26傳送到各軸單元21 (21A、21B、21C)。此外，控制電動(dòng)機(jī)6的驅(qū)動(dòng)的控制部7包括例如以CPU為中心構(gòu)成的微型計(jì)算機(jī)。
[0042]如圖2所示，在各軸單元21的主體部23的表面上設(shè)有多根支撐銷(xiāo)22。各支撐銷(xiāo)22以從主體部23的表面(周面)朝向外側(cè)筆直地突出的方式設(shè)置。這些支撐銷(xiāo)22分別有規(guī)則地設(shè)置在各軸單元21的主體部23的周面上。此外，支撐銷(xiāo)22由合成樹(shù)脂、金屬等公知的材料形成。在此，列舉軸單元21A為例，對(duì)有規(guī)律地設(shè)置在其主體部23A的周面上的支撐銷(xiāo)22進(jìn)行說(shuō)明。
[0043]如圖2所示，在軸單元2IA的主體部23A上總共立設(shè)有6根支撐銷(xiāo)22。這些支撐銷(xiāo)22根據(jù)設(shè)置的位置不同被劃分為3組。第I組包括I根支撐銷(xiāo)22A1，第2組包括2根支撐銷(xiāo)22A2、22A2，第3組包括3根支撐銷(xiāo)22A3、22A3、22A3。
[0044]第I組中的I根支撐銷(xiāo)22A1以從圓柱狀的主體部23A的軸方向的大致中央部分突出的方式設(shè)置。另外，第2組中的2根支撐銷(xiāo)22A2、22A2以沿著主體部23A的方式設(shè)置。并且，這些支撐銷(xiāo)22A2、22A2設(shè)于將圓柱狀的主體部23A三等分的位置。另外，第3組中的3根支撐銷(xiāo)22A3、22A3、22A3以沿著主體部23A的軸方向排成一列并突出的方式設(shè)置。這3根支撐銷(xiāo)22A3中的I根支撐銷(xiāo)22A3設(shè)于圓柱狀的主體部23A的軸方向的大致中央部分。并且，剩余的2根支撐銷(xiāo)22A3、22A3分別設(shè)于主體部23A的端側(cè)。
[0045]上述的第I組中的支撐銷(xiāo)22A1以I根構(gòu)成I個(gè)銷(xiāo)列。另外，第2組中的支撐銷(xiāo)22A2以2根構(gòu)成I個(gè)銷(xiāo)列。另外，第3組中的支撐銷(xiāo)22A3以3根構(gòu)成I個(gè)銷(xiāo)列。此外，本說(shuō)明書(shū)中的“銷(xiāo)列”設(shè)為由在各軸單元21的軸方向排列I根或者2根以上支撐銷(xiāo)22形成。
[0046]圖3是從軸方向觀(guān)看的軸單元21A的說(shuō)明圖。如圖3所示，包括支撐銷(xiāo)22A1的銷(xiāo)列200 (200A1)、包括支撐銷(xiāo)22A2的銷(xiāo)列200 (200A2)、以及包括支撐銷(xiāo)22A3的銷(xiāo)列200(200A3)在軸單元21A的周向上相互保持間隔地分別配置在主體部23A的周面上。在本實(shí)施方式中，銷(xiāo)列200彼此以相互保持120°的角度的方式配置在主體部23A的周面上。
[0047]此外，如圖2所示，在其它軸單元21 (21B、21C)中也按照與軸單元21A同樣的規(guī)則設(shè)有多個(gè)支撐銷(xiāo)22 (22B1、22B2、22B3、22C1、22C2、22C3)。在本實(shí)施方式中，設(shè)于各軸單元21的支撐銷(xiāo)22的根數(shù)及其設(shè)置的位置均設(shè)定為相同。即，3個(gè)軸單元21(21A、21B、21C)彼此是相同的形狀。因此，在本實(shí)施方式的情況下，利用了 3個(gè)同一種類(lèi)的軸單元21。
[0048]軸單元21構(gòu)成為:能使設(shè)于其主體部23A的周面上的各支撐銷(xiāo)22按每個(gè)銷(xiāo)列以直立的狀態(tài)靜止。并且，直立的狀態(tài)的各支撐銷(xiāo)22的前端構(gòu)成為:為了支撐基板4而能與基板4的里面42接觸。此外，在軸單元21的端部設(shè)有防止軸單元21的旋轉(zhuǎn)的鎖定機(jī)構(gòu)(未圖示)，利用該鎖定機(jī)構(gòu)等，可根據(jù)需要防止軸單元21的旋轉(zhuǎn)。
[0049]另外，如圖3所示，構(gòu)成為:當(dāng)軸單元21旋轉(zhuǎn)時(shí)，以直立的狀態(tài)靜止的銷(xiāo)列切換為其它銷(xiāo)列。此外，在圖3中示出向逆時(shí)針?lè)较蛐D(zhuǎn)的軸單元2，而在其它實(shí)施方式中可以構(gòu)成為:軸單元2向反向(S卩，向順時(shí)針?lè)较?旋轉(zhuǎn)。
[0050]當(dāng)電動(dòng)機(jī)6收到來(lái)自控制部7 (參照?qǐng)D1)的指令而驅(qū)動(dòng)時(shí)，其輸出軸61旋轉(zhuǎn)，力從該輸出軸61的前端部62傳遞到傳送帶26。于是，傳送帶26開(kāi)始旋轉(zhuǎn)，而且與該傳送帶26連動(dòng)，各軸單元21具備的各滑輪25也分別開(kāi)始旋轉(zhuǎn)。于是，伴隨各滑輪25的旋轉(zhuǎn)，各軸單元21也分別開(kāi)始旋轉(zhuǎn)。在本實(shí)施方式的情況下，各軸單元21構(gòu)成為:在相同的定時(shí)旋轉(zhuǎn)相同角度。此外，各軸單元21的旋轉(zhuǎn)角度可根據(jù)電動(dòng)機(jī)6的驅(qū)動(dòng)(旋轉(zhuǎn))適當(dāng)調(diào)整。
[0051]當(dāng)這樣使電動(dòng)機(jī)6驅(qū)動(dòng)時(shí)，能使各軸單元21分別僅旋轉(zhuǎn)規(guī)定的角度。此外，為了使各軸單元21僅旋轉(zhuǎn)規(guī)定的角度而驅(qū)動(dòng)電動(dòng)機(jī)6的必要信息(支撐模式信息)預(yù)先存儲(chǔ)于存儲(chǔ)部5?？刂撇?根據(jù)需要從存儲(chǔ)部5取得上述信息，基于該取得的信息調(diào)整各軸單元21的旋轉(zhuǎn)角度。
[0052]在基板支撐裝置2中，各軸單元21的各支撐銷(xiāo)22的軸方向相同的銷(xiāo)列200分別按各軸單元21被選擇，由此形成用于支撐基板4的支撐模式(第I支撐模式)。如后所述，本實(shí)施方式的基板支撐裝置2還能進(jìn)一步形成用于支撐其它基板4X的支撐模式(第2支撐模式)。即，基板支撐裝置2能在I個(gè)裝置內(nèi)形成分別與2種基板4、4X對(duì)應(yīng)的2種支撐模式。
[0053]在此，一邊參照?qǐng)D4和圖5 —邊對(duì)為了支撐基板4而由基板支撐裝置2形成的第I支撐模式進(jìn)行說(shuō)明。圖4是示出各軸單元21上的支撐銷(xiāo)22形成第I支撐模式的狀態(tài)的說(shuō)明圖，圖5是利用第I支撐模式支撐的玻璃基板4的俯視圖。如圖4所示，在軸單元21A中，銷(xiāo)列200A2中的2根支撐銷(xiāo)22A2、22A2處于直立的狀態(tài)，在軸單元21B中，銷(xiāo)列200B2中的2根支撐銷(xiāo)22B2、22B2處于直立的狀態(tài)，在軸單元21C中，銷(xiāo)列200C2中的2根支撐銷(xiāo)22C2、22C2處于直立的狀態(tài)。此外，支撐銷(xiāo)22直立的狀態(tài)是指如下?tīng)顟B(tài):支撐銷(xiāo)22的前端朝向上方，并且其軸方向沿著垂直方向。
[0054]圖4所示的各軸單元21分別處于可選擇包括2根支撐銷(xiāo)22的銷(xiāo)列200的狀態(tài)。這些處于直立的狀態(tài)的共6根支撐銷(xiāo)22 (22A2、22A2、22B2、22B2、22C2、22C2)形成用于支撐基板4的第I支撐模式。
[0055]如圖5所示，在基板4的表面41上的整個(gè)面形成有抗蝕劑層R。另外，在基板4的表面41上，以相互保持間隔的狀態(tài)分配有多個(gè)(6個(gè))顯示區(qū)域(第I區(qū)域的一例)43。這6個(gè)顯示區(qū)域43在基板4的表面上以橫三列和縱三列的狀態(tài)排列。各顯示區(qū)域43均是相同矩形，設(shè)定為相同大小。
[0056]并且，為了區(qū)分各顯示區(qū)域43，非顯示區(qū)域(第2區(qū)域的一例)44配置在基板4的表面41上。非顯示區(qū)域44包括如分別包圍各顯示區(qū)域43的框狀區(qū)域。即，在基板4的表面41上形成有包括顯示區(qū)域43和非顯示區(qū)域44的區(qū)域圖案。此外，為便于說(shuō)明，圖5中示出包括位于抗蝕劑層R的下側(cè)的顯示區(qū)域43和非顯示區(qū)域44的區(qū)域圖案。
[0057]本實(shí)施方式中的基板4是用于一起制造在液晶面板(顯示面板的一例)中所利用的多個(gè)玻璃基板的基板(所謂的母玻璃基板)。上述的各顯示區(qū)域43與各液晶面板所具備的顯示區(qū)域?qū)?yīng)。
[0058]如圖5所示，基板4從其里面42側(cè)由形成上述的第I支撐模式的6根支撐銷(xiāo)22(22A2、22A2、22B2、22B2、22C2、22C2)支撐。此外，基板4利用機(jī)器人手臂等載置于形成第I支撐模式的各支撐銷(xiāo)22的前端上。以各支撐銷(xiāo)22的前端收納于基板4的非顯示區(qū)域44內(nèi)的方式配置。非顯示區(qū)域44是沒(méi)有形成電極圖案等的位置，因此覆蓋非顯示區(qū)域44上的部分抗蝕劑層R實(shí)質(zhì)上是不需要的。因此，即使該非顯示區(qū)域44上的抗蝕劑層R產(chǎn)生干燥不均，電極圖案等的形成也不會(huì)發(fā)生問(wèn)題。在本實(shí)施方式的情況下，在顯示區(qū)域43內(nèi)未配置各支撐銷(xiāo)22的前端，因此至少覆蓋顯示區(qū)域43上的部分的抗蝕劑層R不產(chǎn)生干燥不均。因此，在支撐基板4時(shí)，各支撐銷(xiāo)22以收納于非顯示區(qū)域44內(nèi)的方式配置。
[0059]此外，考慮到形成于基板4的上述區(qū)域圖案，包括圖4所示的各支撐銷(xiāo)22的第I支撐模式被預(yù)先設(shè)定。即，第I支撐模式預(yù)先設(shè)定為:各支撐銷(xiāo)22的前端收納于非顯示區(qū)域44內(nèi)。除此之外，也考慮能以水平的狀態(tài)穩(wěn)定地支撐基板4等來(lái)預(yù)先設(shè)定第I支撐模式。并且，形成這樣的第I支撐模式的各支撐銷(xiāo)22分別作為銷(xiāo)列200A2、200B2、200C2分配在各軸單元21的周面上的規(guī)定位置。
[0060]如上所述，基板支撐裝置2構(gòu)成為:包括多根支撐銷(xiāo)22，能形成用于支撐基板4的第I支撐模式。
[0061]接著，一邊參照?qǐng)D6和圖7 —邊對(duì)為了支撐其它基板4X而由基板支撐裝置2形成的支撐模式(第2支撐模式)進(jìn)行說(shuō)明。圖6是示出各軸單元21上的支撐銷(xiāo)22形成第2支撐模式的狀態(tài)的說(shuō)明圖，圖7是由第2支撐模式支撐的玻璃基板4X的俯視圖。如圖6所示，在軸單元21A中，銷(xiāo)列200A3中的3根支撐銷(xiāo)22A3、22A3、22A3處于直立的狀態(tài)。另外，在軸單元21B中，銷(xiāo)列200B3中的3根支撐銷(xiāo)22B3、22B3、22B3處于直立的狀態(tài)。另外，在軸單元21C中，銷(xiāo)列200C3中的3根支撐銷(xiāo)22C3、22C3、22C3處于直立的狀態(tài)。
[0062]圖6所示的各軸單元21分別處于可選擇包括3根支撐銷(xiāo)22的銷(xiāo)列200的狀態(tài)。并且，這些處于直立的狀態(tài)的共9根支撐銷(xiāo)22 (22A3、22A3、22A3、22B3、22B3、22B3、22C3、22C3、22C3)形成用于支撐基板4X的第2支撐模式。
[0063]如圖7所示，在基板4X的表面41X上的整個(gè)面形成有抗蝕劑層R。該基板4X的大小與上述的基板4的大小相同。另外，在基板4X的表面41X上以相互保持間隔的狀態(tài)分配有多個(gè)(2個(gè))顯示區(qū)域(第I區(qū)域的一例)43X。這2個(gè)顯示區(qū)域43X在基板4X的表面41X上以橫一列的狀態(tài)排列。各顯示區(qū)域43X均是相同矩形，設(shè)定為相同大小。此外，顯示區(qū)域43X的大小設(shè)定為大于上述的基板4的顯示區(qū)域43。
[0064]為了區(qū)分各顯示區(qū)域43X，非顯示區(qū)域(第2區(qū)域的一例)44X配置在基板4X的表面41X上。非顯示區(qū)域44X包括如分別包圍各顯示區(qū)域43X的框狀的區(qū)域。這樣，在基板4X的表面41X上形成有包括顯示區(qū)域43X和非顯示區(qū)域44X的區(qū)域圖案。S卩，在基板4X中形成有與上述的基板4中的區(qū)域圖案不同的區(qū)域圖案。此外，為便于說(shuō)明，在圖7中示出包括位于抗蝕劑層R的下側(cè)的顯示區(qū)域43X和非顯示區(qū)域44X的區(qū)域圖案。
[0065]基板4X也與上述的基板4同樣，包括用于一起制造在液晶面板(顯示面板的一例)中所利用的多個(gè)玻璃基板的基板(所謂的母玻璃基板)。上述的各顯示區(qū)域43X與各液晶面板所具備的顯示區(qū)域?qū)?yīng)。
[0066]如圖7所示，基板4X從其里面42X側(cè)由形成上述的第2支撐模式的9根支撐銷(xiāo)22(22A3、22A3、22A3、22B3、22B3、22B3、22C3、22C3、22C3)支撐。此外，基板 4X 利用機(jī)器人手臂等載置于形成第2支撐模式的各支撐銷(xiāo)22的前端上。各支撐銷(xiāo)22的前端以收納于基板4X的非顯示區(qū)域44X內(nèi)的方式配置。非顯示區(qū)域44X如上所述，是未形成電極圖案等的位置，因此覆蓋在非顯示區(qū)域44X上的部分抗蝕劑層R是不需要的。因此，即使在該非顯示區(qū)域44X上的抗蝕劑層R產(chǎn)生干燥不均，電極圖案等的形成也不會(huì)發(fā)生問(wèn)題。在本實(shí)施方式的情況下，在顯示區(qū)域43X內(nèi)沒(méi)有配置各支撐銷(xiāo)22的前端，因此至少覆蓋在顯示區(qū)域43X上的部分抗蝕劑層R不產(chǎn)生干燥不均。因此，在支撐基板4X時(shí)，各支撐銷(xiāo)22以收納于非顯示區(qū)域44X內(nèi)的方式配置。
[0067]此外，考慮到形成于基板4X的上述區(qū)域圖案，包括圖6所示的各支撐銷(xiāo)22的第2支撐模式被預(yù)先設(shè)定。即，第2支撐模式以各支撐銷(xiāo)22的前端收納于非顯示區(qū)域44X內(nèi)的方式被預(yù)先設(shè)定。除此之外，也考慮到能以水平的狀態(tài)穩(wěn)定地支撐基板4X等，第2支撐模式被預(yù)先設(shè)定。并且，形成這樣的第2支撐模式的各支撐銷(xiāo)22分別作為銷(xiāo)列200A3、200B3、200C3分配在各軸單元21的周面上的規(guī)定位置。
[0068]如上所述，基板支撐裝置2包括多根支撐銷(xiāo)22，構(gòu)成為能形成用于支撐基板4X的第2支撐模式。
[0069]本實(shí)施方式的基板支撐裝置2能在I個(gè)裝置形成2種支撐模式(第I支撐模式和第2支撐模式)。并且，基板支撐裝置2A能利用這些支撐模式抑制至少覆蓋在各顯示區(qū)域43、43X上的部分抗蝕劑層R的干燥不均，并且能支撐2種基板4、4X。因此，根據(jù)基板支撐裝置2，不必根據(jù)各基板4、4X的種類(lèi)分別準(zhǔn)備支撐裝置。另外，基板支撐裝置2在變更支撐模式的情況下，只要使各軸單元21旋轉(zhuǎn)規(guī)定角度即可。因此，能容易進(jìn)行支撐模式彼此的切換。此外，也不必每當(dāng)基板的種類(lèi)不同時(shí)從干燥室取放基板支撐裝置2。[0070]<實(shí)施方式2>
[0071]接著，一邊參照?qǐng)D10—邊說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式2。圖10是示意性地表示實(shí)施方式2的基板支撐裝置2A的概要構(gòu)成的說(shuō)明圖。該基板支撐裝置2A與上述的實(shí)施方式I的裝置同樣，可設(shè)置在圖1所示的干燥室3內(nèi)加以利用。另外，基板支撐裝置2A的基本構(gòu)成大致與實(shí)施方式I的裝置同樣。但是，本實(shí)施方式的基板支撐裝置2A主要是在各軸單元21的端部分別安裝有作為驅(qū)動(dòng)源的電動(dòng)機(jī)63 (63A、63B、63C)、構(gòu)成為各軸單元21能獨(dú)立旋轉(zhuǎn)的方面不同。下面對(duì)這方面進(jìn)行說(shuō)明。
[0072]如圖10所示，各軸單元21 (21A、21B、21C)的各軸部24 (24A、24B、24C)直接連接到電動(dòng)機(jī)63(63A、63B、63C)的輸出軸。并且，各電動(dòng)機(jī)63的驅(qū)動(dòng)由控制部7進(jìn)行控制。此夕卜，本實(shí)施方式中的各軸單元21 (21A、21B、21C)也與實(shí)施方式I同樣，利用未圖示的支撐部件支承。
[0073]在本實(shí)施方式的情況下，使各軸單元21旋轉(zhuǎn)的角度(旋轉(zhuǎn)條件)能設(shè)定為分別不同。例如，也能以使軸單元21A向逆時(shí)針?lè)较蛐D(zhuǎn)120°、使軸單元21B向逆時(shí)針?lè)较蛐D(zhuǎn)240。、使軸單元21C不旋轉(zhuǎn)(B卩，0° )的方式控制各電動(dòng)機(jī)63 (63A、63B、63C)的驅(qū)動(dòng)。此夕卜，也能使各軸單元21以分別相同的旋轉(zhuǎn)條件(旋轉(zhuǎn)角度)旋轉(zhuǎn)。
[0074]為了使各軸單元21僅旋轉(zhuǎn)規(guī)定的角度，將驅(qū)動(dòng)電動(dòng)機(jī)63所需的信息(支撐模式信息)預(yù)先存儲(chǔ)于存儲(chǔ)部5?？刂撇?根據(jù)需要從存儲(chǔ)部5取得上述信息，基于該取得的信息調(diào)整各軸單元21的旋轉(zhuǎn)角度。
[0075]本實(shí)施方式的基板支撐裝置2A能利用各支撐銷(xiāo)22分別形成上述的實(shí)施方式I中的第I支撐模式(參照?qǐng)D4)、第2支撐模式(參照?qǐng)D6)。而且，本實(shí)施方式的基板支撐裝置2A也能形成用于支撐其它基板4Y的支撐模式(第3支撐模式)。
[0076]在此，一邊參照?qǐng)D9和圖10—邊對(duì)為了支撐基板Y而由基板支撐裝置2A形成的第3支撐模式進(jìn)行說(shuō)明。圖9是示出基板支撐裝置2A中的各軸單元21上的支撐銷(xiāo)22形成第3支撐模式的狀態(tài)的說(shuō)明圖，圖10是利用第3支撐模式支撐的玻璃基板4Y的俯視圖。
[0077]如圖9所示，在軸單元21A中，銷(xiāo)列200A2中的2根支撐銷(xiāo)22A2、22A2處于直立的狀態(tài)。另外，在軸單元21B中，銷(xiāo)列200B3中的3根支撐銷(xiāo)22B3、22B3、22B3處于直立的狀態(tài)。另外，在軸單元21C中，銷(xiāo)列200C1中的I根支撐銷(xiāo)22C1處于直立的狀態(tài)。
[0078]如圖9所示，在軸單元21A中，處于可選擇包括2根支撐銷(xiāo)22的銷(xiāo)列200的狀態(tài)，在軸單元21B中，處于可選擇包括3根支撐銷(xiāo)的銷(xiāo)列200的狀態(tài)，在軸單元21C中，處于可選擇包括I根支撐銷(xiāo)的銷(xiāo)列的狀態(tài)。并且，這些處于直立的狀態(tài)的共6根支撐銷(xiāo)22(22A2、22A2、22B3、22B3、22B3、22C1)形成用于支撐基板4Y的第3支撐模式。
[0079]如圖10所示，在基板4Y的表面41Y上的整個(gè)面形成有抗蝕劑層R。該基板4Y的大小與上述的基板4的大小相同。另外，在基板4Y的表面41Y上以相互保持間隔的狀態(tài)分配有多個(gè)(5個(gè))顯示區(qū)域(第I區(qū)域的一例)43Y1、43Y2。
[0080]這5個(gè)中的3個(gè)顯示區(qū)域43Y1以縱一列的狀態(tài)排列在基板4Y的一方端側(cè)(圖10中的左側(cè))。剩余的2個(gè)顯示區(qū)域43Y2以縱一列的狀態(tài)排列在基板4Y的另一方端側(cè)(圖10中的右側(cè))。此外，顯示區(qū)域43Y1和顯示區(qū)域43Y2的大小、形狀相互不同。并且，顯示區(qū)域43Y1與顯示區(qū)域43Y1相比設(shè)定得小。即，在該基板4Y中同時(shí)形成有大小不同的多種(2種)顯示區(qū)域43Y1、43Y2。[0081]為了區(qū)分各顯示區(qū)域43Y1、43Y2，非顯示區(qū)域(第2區(qū)域的一例)44Y配置在基板4Y的表面41Y上。非顯示區(qū)域44Y包括如分別包圍各顯示區(qū)域43Y1、43Y2的框狀的區(qū)域。這樣，在基板4Y的表面41Y上形成有包括顯示區(qū)域43Y1和43Y2、非顯示區(qū)域44Y的區(qū)域圖案。此外，為便于說(shuō)明，在圖10中示出包括位于抗蝕劑層R的下側(cè)的顯示區(qū)域43Y1、43Y2和非顯示區(qū)域44Y的區(qū)域圖案。
[0082]基板4Y也與上述的基板4同樣，包括用于一起制造在液晶面板(顯示面板的一例)中所利用的多個(gè)玻璃基板的基板(所謂的母玻璃基板)。該基板4Y特別是用于一起制造在液晶面板中所利用的2種玻璃基板。上述的各顯示區(qū)域43Y1、43Y2與各液晶面板所具備的顯示區(qū)域?qū)?yīng)。
[0083]如圖10所示，基板4Y從其里面42Y側(cè)由形成上述的第3支撐模式的6根支撐銷(xiāo)22 (22A2、22A2、22B3、22B3、22B3、22C1)支撐。此外，基板4Y利用機(jī)器人手臂等載置于形成第3支撐模式的各支撐銷(xiāo)22的前端上。各支撐銷(xiāo)22的前端以收納于基板4Y的非顯示區(qū)域44Y內(nèi)的方式配置。非顯示區(qū)域44Y如上所述，是沒(méi)有形成電極圖案等的位置，因此覆蓋在非顯示區(qū)域44Y上的部分抗蝕劑層R是不需要的。因此，即使在該非顯示區(qū)域44Y上的抗蝕劑層R產(chǎn)生干燥不均，電極圖案等的形成也不會(huì)發(fā)生問(wèn)題。在本實(shí)施方式的情況下，在顯示區(qū)域43Y1和43Y2內(nèi)未配置各支撐銷(xiāo)22的前端，因此至少覆蓋在顯示區(qū)域43Y1和43Y2X上的部分的抗蝕劑層R不會(huì)產(chǎn)生干燥不均。因此，在支撐基板4Y時(shí)，各支撐銷(xiāo)22以收納于非顯示區(qū)域44Y內(nèi)的方式配置。
[0084]此外，考慮到形成于基板4Y的上述區(qū)域圖案，包括圖9所示的各支撐銷(xiāo)22的第3支撐模式被預(yù)先設(shè)定。即，第3支撐模式以各支撐銷(xiāo)22的前端收納于非顯示區(qū)域44Y內(nèi)的方式被預(yù)先設(shè)定。除此之外，也考慮到能以水平的狀態(tài)穩(wěn)定地支撐基板4Y，第3支撐模式被預(yù)先設(shè)定。并且，形成這樣的支撐模式3的各支撐銷(xiāo)22分別作為銷(xiāo)列200A2、200B3、200C2分配在各軸單元21的周面上的規(guī)定位置。
[0085]此外，第3支撐模式所選擇的軸單元21A的銷(xiāo)列200A2與第I支撐模式所選擇的相同。另外，第3支撐模式所選擇的軸單元21B的銷(xiāo)列200B3與第2支撐模式所選擇的相同。即，各軸單元21中的各銷(xiāo)列200可以根據(jù)需要在多種支撐模式之間兼用。
[0086]如上所述，基板支撐裝置2A包括多根支撐銷(xiāo)22，構(gòu)成為能形成用于支撐基板4Y的第3支撐模式。
[0087]本實(shí)施方式的基板支撐裝置2A能在I個(gè)裝置中形成3種支撐模式(第I支撐模式、第2支撐模式以及第3支撐模式)。即，本實(shí)施方式的基板支撐裝置2A構(gòu)成為:各軸單元21能分別獨(dú)立地調(diào)節(jié)旋轉(zhuǎn)角度。因此，能將各軸單元21 (21A、21B、21C)中的各銷(xiāo)列200彼此組合而形成的支撐模式的數(shù)量與實(shí)施方式I的上述數(shù)量相比變多。
[0088]另外，基板支撐裝置2A能利用這3種支撐模式抑制至少覆蓋在各顯示區(qū)域43、43X、43Y1以及43Υ2上的部分的抗蝕劑層R的干燥不均，并且能支撐3種基板4、4Χ、4Υ。因此，根據(jù)基板支撐裝置2Α，不必根據(jù)各基板4、4Χ、4Υ的種類(lèi)分別準(zhǔn)備支撐裝置。另外，基板支撐裝置2Α與實(shí)施方式I的裝置同樣，在需要變更支撐模式的情況下，只要使各軸單元21旋轉(zhuǎn)規(guī)定角度即可。因此，能容易進(jìn)行支撐模式彼此的切換。此外，也不必每當(dāng)基板的種類(lèi)不同時(shí)從干燥室取放基板支撐裝置2Α。
[0089]〈其它實(shí)施方式〉[0090]本發(fā)明并不限于利用上述記述和【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】的實(shí)施方式，例如下面的實(shí)施方式也包含在本發(fā)明的技術(shù)范圍內(nèi)。
[0091 ] (I)在上述實(shí)施方式中，在軸單元的周面上形成有3個(gè)銷(xiāo)列，但是在其它實(shí)施方式中，例如可以在軸單元的周面上形成有2個(gè)銷(xiāo)列，或者可以形成有4個(gè)以上的銷(xiāo)列。設(shè)于軸單元的周面上的銷(xiāo)列的數(shù)量并不特別限制，根據(jù)目的適當(dāng)設(shè)定。
[0092](2)在上述實(shí)施方式中，軸單元的外觀(guān)形狀是圓柱狀，但是在其它實(shí)施方式中，例如可以是四棱柱狀，也可以是其它多棱柱狀。軸單元的外觀(guān)形狀并不特別限制，根據(jù)目的適當(dāng)設(shè)定。
[0093](3)在上述實(shí)施方式中，利用了 3個(gè)軸單元，但是在其它實(shí)施方式中，例如可以利用2個(gè)軸單元，也可以利用4個(gè)以上軸單元。所利用的軸單元的個(gè)數(shù)并不特別限制，根據(jù)目的適當(dāng)設(shè)定。
[0094](4)在上述實(shí)施方式中，在基板的整個(gè)面形成有抗蝕劑層(涂膜的一例)，但是在其它實(shí)施方式中，抗蝕劑層可以?xún)H形成于基板的一部分。例如，可以?xún)H在基板的表面中的各顯示區(qū)域形成有抗蝕劑層，也可以?xún)H在特定的顯示區(qū)域形成有抗蝕劑層。
[0095](5)在上述實(shí)施方式中，使涂敷在基板上的涂膜(抗蝕劑層)在減壓下進(jìn)行干燥，但是在其它實(shí)施方式中，例如可以在常壓下進(jìn)行干燥。
[0096]( 6 )在上述實(shí)施方式中，基板支撐裝置設(shè)置在干燥室內(nèi)使用，但是在其它實(shí)施方式中，可以在干燥室的外部使用。
[0097]附圖標(biāo)記說(shuō)明
[0098]1:干燥裝置；2、2A:基板支撐裝置；21:軸單元；22:支撐銷(xiāo)；23:主體部；24:軸部；25:滑輪；26:傳送帶；27:支撐部件；200:銷(xiāo)列；3:干燥室；4、4X、4Y:基板；5:存儲(chǔ)部；6、63:電動(dòng)機(jī)；61:輸出軸；61:輸出軸的前端部；7:控制部
【權(quán)利要求】
1.一種基板支撐裝置，其特征在于，具備:多個(gè)軸單元，其相互平行配置并且各自的兩端被支承，各自能旋轉(zhuǎn)并且能靜止；多個(gè)支撐銷(xiāo)，其是在各軸單元的各周向突出地設(shè)有多個(gè)的銷(xiāo)，在各軸方向排列I根或者2根以上而構(gòu)成銷(xiāo)列，在各軸單元中該銷(xiāo)的軸方向相同的上述銷(xiāo)列分別按各軸單元被選擇，由此形成多種用于支撐基板的支撐模式，在形成上述支撐模式的各自的前端支撐上述基板；以及控制部，其為了形成上述支撐模式中的任一種而控制各軸單元的旋轉(zhuǎn)角度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板支撐裝置，上述基板具有包含區(qū)域模式的表里一對(duì)板面和覆蓋表側(cè)的上述板面的涂膜，上述區(qū)域模式包括多個(gè)第I區(qū)域和對(duì)各第I區(qū)域進(jìn)行區(qū)分的第2區(qū)域，上述支撐銷(xiāo)以在形成上述支撐模式時(shí)各自的前端收納于上述基板的上述第2區(qū)域內(nèi)的方式設(shè)于各軸單元的各周面上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板支撐裝置，上述基板包括上述區(qū)域模式相互不同的多種基板，上述支撐銷(xiāo)分別形成與上述基板的每個(gè)種類(lèi)對(duì)應(yīng)的支撐模式。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任一項(xiàng)所述的基板支撐裝置，上述軸單元具有能分別獨(dú)立地控制旋轉(zhuǎn)角度的驅(qū)動(dòng)源。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中的任一項(xiàng)所述的基板支撐裝置，上述支撐銷(xiāo)以相同的模式設(shè)于各軸單元的各周面上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任一項(xiàng)所述的基板支撐裝置，具備存儲(chǔ)部，上述存儲(chǔ)部預(yù)先存儲(chǔ)有用于使上述支撐銷(xiāo)形成上述支撐模式的支撐模式信息，上述控制部基于上述支撐模式信息控制各軸單元的旋轉(zhuǎn)角度。
7.根據(jù)權(quán)利要求2至6中的任一項(xiàng)所述的基板支撐裝置，上述基板用于顯示面板，上述第I區(qū)域包括顯示區(qū)域，上述第2區(qū)域包括非顯示區(qū)域。
8.根據(jù)權(quán)利要求2至7中的任一項(xiàng)所述的基板支撐裝置，上述涂膜包含抗蝕劑材料。
9.一種干燥裝置，其具備:權(quán)利要求1至8中的任一項(xiàng)所述的基板支撐裝置；和容納上述基板支撐裝置的干燥室。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的干燥裝置，上述干燥室在減壓下進(jìn)行干燥。
【文檔編號(hào)】B65G49/06GK103443913SQ201280013991
【公開(kāi)日】2013年12月11日 申請(qǐng)日期:2012年4月6日 優(yōu)先權(quán)日:2011年4月13日
【發(fā)明者】中村謙太 申請(qǐng)人:夏普株式會(huì)社