專利名稱：一種用于測量的薄壁耐壓放射源容器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及核技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域中放射源的盛裝容器，具體涉及測量對(duì)象為低能gamma射線的氣體或液體放射源的盛裝容器。
背景技術(shù)：
低能gamma射線測量技術(shù)廣泛應(yīng)用于核數(shù)據(jù)測量、核監(jiān)測等領(lǐng)域。在低能gamma射線的測量中，特別是低能gamma射線的發(fā)射幾率很小的情況下，要求測量源的封裝容器對(duì)ga_a射線的吸收越小越好，以提高8&_曰射線探測效率。對(duì)于固體源來說,可以將容器的壁做的很薄，提高低能gamma射線的探測效率。但是對(duì)于液體或氣體源，在源的制備過程
中就存在液體承壓和真空承壓問題。并且，扁平源容器平面壁的變形對(duì)探測器的探測效率變化較大，會(huì)帶來較大的測量不確定度。同時(shí)平面壁的變形將顯著改變?nèi)萜鞯捏w積，造成體積測量的不準(zhǔn)確，這對(duì)于基于體積定量的氣體源來說，同樣帶來較大的測量不確定度。因此在通常的容器設(shè)計(jì)中，只能提高容器平面壁的厚度，從而犧牲了探測效率。2010年第30期《核電子學(xué)與探測技術(shù)》公開了一種炭纖維底襯不銹鋼氣體測量源盒，采用炭纖維壓制板作為容器的外壁，由于炭纖維材料含有的元素原子系數(shù)均較小，可以有效減小低能ga_a射線的吸收。經(jīng)過實(shí)驗(yàn),最終扁平壁的厚度只能薄至O. 7mm。當(dāng)對(duì)容器抽真空時(shí)，可以觀察到凹陷；充壓為兩個(gè)標(biāo)準(zhǔn)氣壓時(shí)，可以觀察到突起。該容器對(duì)能量為SlkeV gamma射線探測效率低于30%?？梢娫撛O(shè)計(jì)存在耐壓問題，在一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)氣壓壓差下可以觀察到容器的變形，此變形對(duì)于容器的體積影響明顯，正因?yàn)榇嗽?，扁平壁的厚度只能薄至O. 7mm。專利申請(qǐng)?zhí)枮?3178720. 7和200910165330. 5的薄壁容器均采用在器壁上添加特殊設(shè)計(jì)的變形凹槽增加抗壓能力，此方法雖然在有機(jī)材料鑄造時(shí)比較容易，但是對(duì)于較小體積的精確制造存在較大困難，并且這兩個(gè)專利中描述的技術(shù)解決的是不涉及精確體積變形的薄壁問題，對(duì)于要求容器的體積在承壓前后變化極小的情況并不適用。另外，變形凹槽對(duì)于放射性探測器來說不是規(guī)則的形狀，凹槽尺寸的細(xì)小差異將導(dǎo)致探測效率的顯著變化，嚴(yán)重影響測量結(jié)果。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的問題是針對(duì)現(xiàn)有液體或氣體放射源在測量過程中薄壁容器容易變形，對(duì)測量結(jié)果產(chǎn)生影響的不足，提供一種用于測量的薄壁耐壓放射源容器，可以在保持較好耐壓特性的同時(shí)盡可能減小容器平面壁的厚度，以減小平面壁對(duì)ga_a射線的吸收效率，從而有效提聞gamma射線的探測效率。為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型的基本構(gòu)思是—種用于測量的薄壁耐壓放射源容器，包括圓筒形容器側(cè)壁2以及平行設(shè)置在容器側(cè)壁2兩端的兩個(gè)薄壁平板1，所述兩個(gè)薄壁平板I和容器側(cè)壁2構(gòu)成密封體，其特殊之處在于還包括在兩個(gè)薄壁平板I之間設(shè)置的至少一個(gè)支撐柱3和設(shè)置在薄壁平板I或容器側(cè)壁2上的導(dǎo)管4。上述的支撐柱3為一個(gè)，其兩端設(shè)置在薄壁平板I的中心位置。上述的支撐柱3為多個(gè)，其兩端與薄壁平板I的中心等距并均勻布放。上述的支撐柱3為多個(gè)，其中一個(gè)支撐柱3的兩端設(shè)置在薄壁平板I的中心位置，其余支撐柱3的兩端與薄壁平板I的中心等距并均勻布放。上述支撐柱3的兩端粘接或焊接在薄壁平板I上。上述薄壁平板I和容器側(cè)壁2焊接或粘接為密封體。上述薄壁平板I為不銹鋼、鋁、銅、聚乙烯或聚四氟乙烯；所述容器側(cè)壁2為不銹·鋼、鋁、銅、聚乙烯或聚四氟乙烯；支撐柱3為不銹鋼、鋁、銅、聚乙烯或聚四氟乙烯；所述導(dǎo)管4為不銹鋼、鋁、銅、聚乙烯或聚四氟乙烯。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是I、本實(shí)用新型采用支撐柱將薄壁平板分成若干小的分區(qū)，從而提高容器耐壓能力，減小薄壁厚度的同時(shí)減小容器的形變，減小體積變化帶來的測量不確定度，提高低能gamma射線穿透能力，從而提高探測效率。2、本實(shí)用新型的支撐柱在容器內(nèi)部均勻排布，減小了應(yīng)用中容器擺放方向?qū)y量結(jié)果的影響。3、本實(shí)用新型可以將導(dǎo)管設(shè)置在側(cè)面，適合雙探測器測量，可以進(jìn)一步加倍提高效率，還可用以對(duì)放射源進(jìn)行符合法測量。

圖I是側(cè)面導(dǎo)管類容器封裝前結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是側(cè)面導(dǎo)管類容器封裝后結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是正面導(dǎo)管類容器封裝后結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是側(cè)面導(dǎo)管類容器使用示意圖；圖5是正面導(dǎo)管類容器使用示意圖；附圖標(biāo)號(hào)1 一薄壁平板；2 —容器側(cè)壁；3 —支撐柱；4 一導(dǎo)管；5 —盛源容器；6 —
閥門—第一探測器；8 —第二探測器；
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型巧妙利用機(jī)械支撐布局，設(shè)計(jì)了一種用于測量的薄壁耐壓放射源容器，該容器包括兩個(gè)平行薄壁平板I和設(shè)置在薄壁平板I之間的圓筒形容器側(cè)壁2，二者構(gòu)成密封體，使得容器可用于密封液體或氣體放射源；在兩個(gè)薄壁平板I之間設(shè)置的不少于一個(gè)的支撐柱3，可保證容器在薄壁的條件下，具有耐壓的特性；導(dǎo)管4用于將液體或氣體放射源注入容器內(nèi)，可以安裝在容器側(cè)壁2上，如附圖I和圖2 ;也可以安裝在薄壁平板I上，如圖3所示；支撐柱3可以為一個(gè)，設(shè)置在薄壁平板I的中心位置，也可以為多個(gè)，均勻排布在薄壁平板I上。支撐柱3、薄壁平板I以及容器側(cè)壁2，均可以采用焊接或粘接的方法進(jìn)行固定。薄壁平板I、容器側(cè)壁2、支撐柱3和導(dǎo)管4可以為同一種金屬材料，如不銹鋼、鋁或銅等，也可以采用不同種類的金屬材料。容器的制作分為以下幾個(gè)步驟[0027]I、按照預(yù)定尺寸將材料加工成兩個(gè)薄壁平板I、容器側(cè)壁2、支撐柱3和導(dǎo)管4。 2、根據(jù)需要先將導(dǎo)管4密封焊接或粘接于容器側(cè)壁2或兩個(gè)薄壁平板I中的一個(gè)上。3、將未接導(dǎo)管4的薄壁平板I密封焊接或粘接于容器側(cè)壁2的一個(gè)端面。4、將支撐柱3焊接或粘接于薄壁平板I內(nèi)預(yù)定位置當(dāng)選擇一個(gè)支撐柱3時(shí)，該支撐柱3布放于薄壁平板I的中央位置；當(dāng)選擇多個(gè)支撐柱3時(shí)，這些支撐柱3的柱心與薄壁平板I的中心等距并均勻布放，根據(jù)需要選擇是否在容器中央位置布放支撐柱3。5、預(yù)先在支撐柱3的端面涂抹粘結(jié)劑，將另一個(gè)薄壁平板I密封焊接或粘接于容器側(cè)壁2的另一個(gè)端面，同時(shí)整體按壓薄壁平板I使它粘接到支撐柱3上端面上。下面給出一個(gè)具體實(shí)施例I、按照預(yù)定尺寸將不銹鋼材料加工成兩個(gè)薄壁平板(外徑50mm,厚度O. 4mm)、容器側(cè)壁(外徑50mm,內(nèi)徑42mm,高度IOmm)、支撐柱4根(外徑3mm,高度IOmm)和導(dǎo)管(外徑6mm,內(nèi)徑4mm,高度30mm)。2、先將導(dǎo)管密封焊接于容器側(cè)壁上。3、將一個(gè)薄壁平板密封粘接于容器側(cè)壁的一個(gè)端面。4、將4根支撐柱粘接于薄壁平板內(nèi)預(yù)定位置支撐柱柱軸距離薄壁平板內(nèi)壁圓心14mm，4根支撐柱以90度夾角均勻布放。5、待4根支撐柱固定后，在支撐柱的另一端面涂抹粘結(jié)劑，在容器側(cè)壁的另一個(gè)端面涂抹粘結(jié)劑，此時(shí)支撐柱的端面和容器側(cè)壁的端面處于同一個(gè)平面。將另一個(gè)薄壁平板密封粘接到容器側(cè)壁另一個(gè)端面，同時(shí)整體按壓薄壁平板使它粘接到支撐柱的端面上。6、待粘結(jié)劑凝結(jié)后，制成容器。圖4和圖5是本發(fā)明用于測量的薄壁耐壓放射源容器使用狀態(tài)示意圖，圖中的5就是放射源容器(也稱為盛源容器)。
權(quán)利要求1.一種用于測量的薄壁耐壓放射源容器，包括圓筒形容器側(cè)壁(2)以及平行設(shè)置在容器側(cè)壁(2)兩端的兩個(gè)薄壁平板(1)，所述兩個(gè)薄壁平板(I)和容器側(cè)壁(2)構(gòu)成密封體，其特征在于還包括在兩個(gè)薄壁平板(I)之間設(shè)置的至少一個(gè)支撐柱(3)和設(shè)置在薄壁平板Cl)或容器側(cè)壁(2)上的導(dǎo)管(4)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于測量的薄壁耐壓放射源容器，其特征在于所述的支撐柱(3)為一個(gè)，其兩端設(shè)置在薄壁平板(I)的中心位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于測量的薄壁耐壓放射源容器，其特征在于所述的支撐柱(3)為多個(gè)，其兩端與薄壁平板(I)的中心等距并均勻布放。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于測量的薄壁耐壓放射源容器，其特征在于所述的支撐柱(3)為多個(gè)，其中一個(gè)支撐柱(3)的兩端設(shè)置在薄壁平板(I)的中心位置，其余支撐柱(3)的兩端與薄壁平板(I)的中心等距并均勻布放。
5.根據(jù)權(quán)利要求I或2或3或4所述的用于測量的薄壁耐壓放射源容器，其特征在于所述支撐柱(3 )的兩端粘接或焊接在薄壁平板(I)上。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于測量的薄壁耐壓放射源容器，其特征在于所述薄壁平板(I)和容器側(cè)壁(2 )焊接或粘接為密封體。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于測量的薄壁耐壓放射源容器，其特征在于所述薄壁平板(I)為不銹鋼、鋁、銅、聚乙烯或聚四氟乙烯；所述容器側(cè)壁(2)為不銹鋼、鋁、銅、聚乙烯或聚四氟乙烯；支撐柱(3)為不銹鋼、鋁、銅、聚乙烯或聚四氟乙烯；所述導(dǎo)管(4)為不銹鋼、鋁、銅、聚乙烯或聚四氟乙烯。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種用于測量的薄壁耐壓放射源容器，包括薄壁平板、容器側(cè)壁、輔助支撐柱和導(dǎo)管。薄壁平板位于容器側(cè)壁的兩個(gè)端面，輔助支撐柱設(shè)置在容器內(nèi)，支撐柱兩端內(nèi)接于兩個(gè)薄壁平板，導(dǎo)管處于容器側(cè)壁上或一個(gè)薄壁平板上。該容器通過輔助支撐柱的合理布局可以在減小薄壁厚度的同時(shí)保證容器承壓不變形。
文檔編號(hào)B65D8/10GK202765421SQ20122041857
公開日2013年3月6日 申請(qǐng)日期2012年8月22日 優(yōu)先權(quán)日2012年8月22日
發(fā)明者李雪松, 解峰, 姜文剛, 余功碩, 梁建峰, 何小兵 申請(qǐng)人:西北核技術(shù)研究所