專利名稱：一種傳送基板的系統(tǒng)及方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及自動化技術(shù)領域，尤其涉及一種傳送基板的系統(tǒng)及方法。
背景技術(shù)：
在エ業(yè)制造中，很多情況都需要將基 板等材料送入處于高真空狀態(tài)的反應腔內(nèi)，再進行后續(xù)的制作流程，因此如何將處于外界標準大氣壓下的基板傳送至處于高真空狀態(tài)的反應腔內(nèi)成為ー個重要的問題。圖I為現(xiàn)有技術(shù)中傳送基板的系統(tǒng)結(jié)構(gòu)不意圖，如圖I所不，在現(xiàn)有技術(shù)中，傳送基板的系統(tǒng)包括預真空進樣腔101，真空傳送腔102，反應腔103，傳送裝置104，以及與預真空進樣腔101相連的進氣裝置1011和抽氣裝置1012。當要將處于標準大氣壓下的基板傳送至反應腔103時，進氣裝置1011先向預真空進樣腔101送入指定氣體，使預真空進樣腔101內(nèi)的氣壓達到標準大氣壓，然后將預真空進樣腔101與外界之間的第一閘門Gl開啟，傳送裝置104將基板從外界傳送至預真空進樣腔101內(nèi)。其中，進氣裝置1011送入的指定氣體可以為氮氣(N2)或者其他干潔氣源(CDA，Clean Dry Air)?；灞粋魉椭令A真空進樣腔101內(nèi)部后,將該第一閘門Gl關閉,抽氣裝置1012將預真空進樣腔101中的氣體全部抽出，使預真空進樣腔101內(nèi)的氣壓達到設定的高真空狀態(tài)對應的真空氣壓，然后將預真空進樣腔101與真空傳送腔102之間的第二閘門G2開啟，傳送裝置104再將基板傳送至處于同樣的高真空狀態(tài)的真空傳送腔102內(nèi)部，其中，真空傳送腔102始終處于高真空狀態(tài)，并且真空傳送腔102內(nèi)的氣壓始終為該設定的高真空狀態(tài)對應的真空氣壓?；鍌魉椭琳婵諅魉颓?02內(nèi)部后，將該第二閘門G2關閉，并將真空傳送腔102與反應腔103之間的第三閘門G3開啟，傳送裝置104再將該基板傳送至處于同樣的高真空狀態(tài)的反應腔103，完成基板的傳送。從上述過程中可以看出，現(xiàn)有技術(shù)中每傳送ー個基板，都要先向預真空進樣腔101中送入氣體，使預真空進樣腔101內(nèi)的氣壓達到標準大氣壓，再將該預真空進樣腔101中的氣體全部抽出，使預真空進樣腔101內(nèi)的氣壓達到設定的高真空狀態(tài)對應的真空氣壓。假設該預真空進樣腔的容積為V，則現(xiàn)有技術(shù)中每傳送ー個基板，其所要消耗的氣體在標準大氣壓下的體積即為V，當進行大規(guī)模制造時，大量的基板僅在傳送這ー環(huán)節(jié)就需要消耗大量的氣體，因此現(xiàn)有技術(shù)中傳送基板的系統(tǒng)嚴重的浪費了氣體資源。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實施例提供一種傳送基板的系統(tǒng)及方法，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中傳送基板的系統(tǒng)嚴重的浪費了氣體資源的問題。本發(fā)明實施例提供的一種傳送基板的系統(tǒng)，包括傳送基板的傳送裝置、預真空進樣腔、真空傳送腔和反應腔，以及預真空進樣腔與外界之間的第一閘門、預真空進樣腔與真空傳送腔之間的第二閘門、真空傳送腔與反應腔之間的第三閘門，還包括控制裝置、氣壓平衡管路、抽氣裝置、第一氣壓監(jiān)測裝置和第二氣壓監(jiān)測裝置；
氣壓平衡管路，連通所述預真空進樣腔和所述真空傳送腔，其中，所述氣壓平衡管路中包括閥門，用于根據(jù)所述控制裝置的控制進行相應的開啟或關閉；抽氣裝置，與所述真空傳送腔相連，用于根據(jù)所述控制裝置的控制將真空傳送腔內(nèi)的氣體抽出；第一氣壓監(jiān)測裝置，位于預真空進樣腔中，用于測量預真空進樣腔內(nèi)的第一氣壓值，并將測量的預真空進樣腔內(nèi)的第一氣壓值發(fā)送給所述控制裝置； 第二氣壓監(jiān)測裝置，位于真空傳送腔中，用于測量真空傳送腔內(nèi)的第二氣壓值，并將測量的真空傳送腔內(nèi)的第二氣壓值發(fā)送給所述控制裝置；
第一閘門、第二閘門和第三閘門，用于根據(jù)所述控制裝置的控制進行相應的開啟或關閉；所述控制裝置，用于當基板被傳送至預真空進樣腔內(nèi)部時，控制所述第一閘門、第ニ閘門和第三閘門關閉，并控制連通預真空進樣腔和真空傳送腔的氣壓平衡管路中的閥門開啟，使預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過所述氣壓平衡管路流入真空傳送腔中；以及用于獲取所述第一氣壓監(jiān)測裝置監(jiān)測的所述預真空進樣腔內(nèi)的第一氣壓值和所述第ニ氣壓監(jiān)測裝置監(jiān)測的真空傳送腔內(nèi)的第二氣壓值，并當所述第一氣壓值和所述第二氣壓值的差值的絕對值小于設定的第一閾值時，控制所述第二閘門開啟，并控制所述傳送裝置將所述基板由預真空進樣腔傳送至真空傳送腔中，當所述基板被傳送至真空傳送腔內(nèi)部時控制所述第二閘門關閉；以及用于控制所述抽氣裝置將真空傳送腔內(nèi)的氣體抽出，當通過所述第二氣壓監(jiān)測裝置監(jiān)測到所述真空傳送腔內(nèi)的第二氣壓值達到設定的真空氣壓值時，控制所述第三閘門開啟，并控制所述傳送裝置將所述基板由真空傳送腔傳送至所述反應腔中。本發(fā)明實施例提供的一種傳送基板的方法，包括當基板被傳送至預真空進樣腔內(nèi)部時，將預真空進樣腔與外界之間的第一閘門、預真空進樣腔與真空傳送腔之間的第二閘門、真空傳送腔與反應腔之間的第三閘門關閉，將連通預真空進樣腔和真空傳送腔的氣壓平衡管路中的閥門開啟，使預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過所述氣壓平衡管路流入真空傳送腔中；并監(jiān)測預真空進樣腔內(nèi)的第一氣壓值以及真空傳送腔內(nèi)的第二氣壓值；當監(jiān)測到所述第一氣壓值與所述第二氣壓值的差值的絕對值小于設定的第一閾值時，將所述第二閘門開啟，并將所述基板由所述預真空進樣腔傳送至所述真空傳送腔，當所述基板被傳送至真空傳送腔內(nèi)部吋，將所述第二閘門關閉；將所述真空傳送腔內(nèi)的氣體抽出，當監(jiān)測到真空傳送腔內(nèi)的第二氣壓值達到設定的真空氣壓值吋，將所述第三閘門開啟，并將所述基板由所述真空傳送腔傳送至反應腔。本發(fā)明實施例提供一種傳送基板的系統(tǒng)及方法，該系統(tǒng)當基板被傳送至預真空進樣腔時，預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過氣壓平衡管路流入真空傳送腔中，當預真空進樣腔內(nèi)的第一氣壓值與真空傳送腔內(nèi)的第二氣壓值的差值的絕對值小于設定的第一閾值時，將基板傳送至真空傳送腔，并將真空傳送腔內(nèi)的氣體抽出，當?shù)诙鈮褐颠_到設定的真空氣壓值時，將該基板傳送至反應腔。由于本發(fā)明實施例中預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過氣壓平衡管路流入真空傳送腔，當預真空進樣腔內(nèi)的氣壓值與真空傳送腔內(nèi)的氣壓值近似相等吋，將基板傳送至真空傳送腔，從而使真空傳送腔在將基板傳送至反應腔吋，抽出的氣體的較少，也即每傳送ー個基板只需要消耗少量的氣體即可，因此節(jié)省了氣體資源。


圖I為現(xiàn)有技術(shù)中傳送基板的系統(tǒng)結(jié)構(gòu)不意圖；圖2為本發(fā)明實施例提供的傳送基板的系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本發(fā)明實施例提供的基于圖2所示系統(tǒng)的傳送基板的過程；圖4為本發(fā)明實施例提供的傳送基板的系統(tǒng)具體實現(xiàn)結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為本發(fā)明實施例提供的基于圖4所示系統(tǒng)的傳送基板的詳細過程。
具體實施例方式在本發(fā)明實施例中，預真空進樣腔與外界之間的第一閘門只有在預真空進樣腔內(nèi)的氣壓值與外界的氣壓值近似相等時才能被打開，并將基板傳送至預真空進樣腔內(nèi)。相應的，預真空進樣腔與真空傳送腔之間的第二閘門也只有在預真空進樣腔內(nèi)的氣壓值與真空傳送腔內(nèi)的氣壓值近似相等時才能被打開，并將基板傳送至真空傳送腔。相應的，真空傳送腔與反應腔之間的第三閘門也只有在真空傳送腔內(nèi)的氣壓值與反應腔內(nèi)的氣壓值近似相等時才能被打開，并進行后續(xù)的基板傳送步驟。也即，任意一個閘門打開的唯一條件為，該閘門兩邊的氣壓值近似相等?；谶@個唯一的條件，本發(fā)明實施例提供一種傳送基板的系統(tǒng)，如圖2所示。圖2為本發(fā)明實施例提供的傳送基板的系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖，如圖2所示，本發(fā)明實施例提供的傳送基板的系統(tǒng)除了包括預真空進樣腔201、真空傳送腔202、反應腔203和傳送裝置204，以及預真空進樣腔201與外界的第一閘門G1、預真空進樣腔201與真空傳送腔202之間的第二閘門G2、真空傳送腔202與反應腔203之間的第三閘門G3之外，還包括控制裝置205、氣壓平衡管路206、抽氣裝置207、第一氣壓監(jiān)測裝置208和第二氣壓監(jiān)測裝置209。氣壓平衡管路206，連通預真空進樣腔201和真空傳送腔202，其中，氣壓平衡管路206中包括閥門SI，用于根據(jù)控制裝置205的控制進行相應的開啟或關閉；抽氣裝置207，與真空傳送腔202相連，用于根據(jù)控制裝置205的控制將真空傳送腔202內(nèi)的氣體抽出；第一氣壓監(jiān)測裝置208，位于預真空進樣腔201中，用于測量預真空進樣腔201內(nèi)的第一氣壓值，并將測量的預真空進樣腔201內(nèi)的第一氣壓值發(fā)送給控制裝置205 ；第二氣壓監(jiān)測裝置209，位于真空傳送腔202中，用于測量真空傳送腔202內(nèi)的第ニ氣壓值，并將測量的真空傳送腔202內(nèi)的第二氣壓值發(fā)送給控制裝置205 ；第一閘門G1、第二閘門G2和第三閘門G3，用于根據(jù)所述控制裝置205的控制進行相應的開啟或關閉。控制裝置205，用于當基板被傳送至預真空進樣腔201內(nèi)部時，控制第一閘門G1、第二閘門G2和第三閘門G3關閉，并控制連通預真空進樣腔201和真空傳送腔202的氣壓平衡管路206中的閥門SI開啟，使預真空進樣腔201內(nèi)的氣體通過氣壓平衡管路206流入真空傳送腔202中，獲取第一氣壓監(jiān)測裝置208監(jiān)測的預真空進樣腔201內(nèi)的第一氣壓值和第二氣壓監(jiān)測裝置209監(jiān)測的真空傳送腔202內(nèi)的第二氣壓值，并當?shù)谝粴鈮褐岛偷讠藲鈮褐档牟钪档慕^對值小于設定的第一閾值時，控制第二閘門G2開啟，并控制傳送裝置204將基板由預真空進樣腔201傳送至真空傳送腔202中，當基板被傳送至真空傳送腔202內(nèi)部時控制第二閘門G2關閉，并控制抽氣裝置207將真空傳送腔202內(nèi)的氣體抽出，當通過第二氣壓監(jiān)測裝置209監(jiān)測到真空傳送腔202內(nèi)的第二氣壓值達到設定的真空氣壓值時，控制第三閘門G3開啟，并控制傳送裝置204將基板由真空傳送腔202傳送至所述反應腔203中?；谏鲜鰝魉突宓南到y(tǒng)，本發(fā)明實施例提供一種傳送基板的方法，如圖3所示。圖3為本發(fā)明實施例提供的基于圖2所示系統(tǒng)的傳送基板的過程，具體包括以下步驟S301 :當基板被傳送至預真空進樣腔內(nèi)部時，將預真空進樣腔與外界之間的第一閘門、預真空進樣腔與真空傳送腔之間的第二閘門、真空傳送腔與反應腔之間的第三閘門關閉，將連通預真空進樣腔和真空傳送腔的氣壓平衡管路中的閥門開啟，使預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過氣壓平衡管路流入真空傳送腔中。
由于只有當預真空進樣腔內(nèi)的氣壓值與真空傳送腔內(nèi)的氣壓值近似相等時，才能開啟預真空進樣腔與真空傳送腔之間的第二閥門，并將預真空進樣腔中的基板傳送至真空傳送腔，因此本發(fā)明實施例中將氣壓平衡管路中的閥門開啟，由于此時預真空進樣腔內(nèi)的氣壓處于標準大氣壓狀態(tài)，而真空傳送腔處于高真空狀態(tài)，從而開啟氣壓平衡管路中的閥門后，預真空進樣腔內(nèi)的氣體會通過氣壓平衡管路流入處于高真空狀態(tài)的真空傳送腔中。其中，預真空進樣腔內(nèi)的氣體為指定氣體，例如氮氣，或者其他干潔氣源。S302 :監(jiān)測預真空進樣腔內(nèi)的第一氣壓值以及真空傳送腔內(nèi)的第二氣壓值。在本發(fā)明實施例中，控制裝置通過預真空進樣腔內(nèi)的第一氣壓監(jiān)測裝置監(jiān)測預真空進樣腔內(nèi)的第一氣壓值，通過真空傳送腔內(nèi)的第二氣壓監(jiān)測裝置監(jiān)測真空傳送腔內(nèi)的第ニ氣壓值。其中，第一氣壓監(jiān)測裝置和第二氣壓監(jiān)測裝置可以為氣壓表。S303 :當監(jiān)測到第一氣壓值與第二氣壓值的差值的絕對值小于設定的第一閾值時，將第二閘門開啟，并將基板由預真空進樣腔傳送至真空傳送腔，當基板被傳送至真空傳送腔內(nèi)部時，將第二閘門關閉。在本發(fā)明實施例中，當?shù)谝粴鈮褐蹬c第二氣壓值的差值的絕對值小于設定的第一閾值時，則認為預真空進樣腔內(nèi)的氣壓值與真空傳送腔內(nèi)的氣壓值近似相等。其中，該第一閾值可以根據(jù)需要進行設定，例如為了提高判斷兩個腔內(nèi)的氣壓是否相等的準確性，該第ー閾值可以設定的較小，為了提高傳送基板的效率，該第一閾值也可以設定的較大。S304 :將真空傳送腔內(nèi)的氣體抽出，當監(jiān)測到真空傳送腔內(nèi)的第二氣壓值達到設定的真空氣壓時，將第三閘門開啟，并將基板傳送至反應腔。由于只有當真空傳送腔內(nèi)的氣壓值與反應腔內(nèi)的氣壓值近似相等時，才能開啟真空傳送腔與反應腔之間的第三閘門，并將真空傳送腔中的基板傳送至反應腔，并且由于反應腔始終處于高真空狀態(tài)，因此本發(fā)明實施例中還要將真空傳送腔中存在的從預真空進樣腔流入的氣體抽出，使真空傳送腔內(nèi)的氣壓值與反應腔內(nèi)的氣壓值近似相等。由于在上述過程中，預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過氣壓平衡管路流入真空傳送腔中，當預真空進樣腔內(nèi)的氣壓值與真空傳送腔內(nèi)的氣壓值近似相等時，將基板傳送至真空傳送腔，從而使真空傳送腔在將基板傳送至反應腔時，抽出的氣體的較少，也即每傳送ー個基板只需要消耗少量的氣體即可，因此節(jié)省了氣體資源。
例如，假設預真空進樣腔與真空傳送腔的容積相等，都為V，則將基板從外界傳送至預真空進樣腔時，勢必要使預真空進樣腔內(nèi)的氣壓值與外界的氣壓值近似相等，也即要使預真空進樣腔的氣壓等于標準大氣壓，因此當基板被傳送至預真空進樣腔吋，預真空進樣腔內(nèi)部的氣體在標準大氣壓下的體積也為V。此時真空傳送腔處于高真空狀態(tài)，預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過氣壓平衡管路流入到真空傳送腔中，由于兩個腔體的容積相等，因此當兩個腔內(nèi)的氣壓值近似相等時，該真空傳送腔內(nèi)的氣體在標準大氣壓下的體積為V/2，此時將預真空進樣腔中的基板傳送至真空傳送腔。當要將真空傳送腔中的基板傳送至反應腔時，要將真空傳送腔內(nèi)體積為V/2的氣體抽出，使真空傳送腔內(nèi)的氣壓值重新回到設定的真空氣壓狀態(tài)，因此只需要抽出體積為V/2的氣體即可，因此相比于現(xiàn)有技術(shù)中抽出的氣體的體積為V的方法， 本發(fā)明實施例提供的方法抽出的氣體的體積只有現(xiàn)有技術(shù)中的一半。另外，由于當預真空進樣腔內(nèi)的氣壓值與真空傳送腔內(nèi)的氣壓值近似相等時，預真空進樣腔內(nèi)剰余的氣體的體積在標準大氣壓下也為V2,因此在進行下ー個基板的傳送時，向預真空進樣腔送入氣體，使預真空進樣腔內(nèi)的氣壓重新回到標準大氣壓的狀態(tài)的過程中，只需要向預真空進樣腔送入體積為V/2的氣體即可，相比于現(xiàn)有技術(shù)中送入預真空進樣腔的氣體的體積為V的方法，本發(fā)明實施例提供的方法送入預真空進樣腔的氣體的體積也只有現(xiàn)有技術(shù)中的一半。因此，本發(fā)明實施例提供的傳送基板的系統(tǒng)，以及基于該系統(tǒng)的傳送基板的方法可以節(jié)省大量的氣體資源，在預真空進樣腔和真空傳送腔的容積相等時，每傳送ー個基板所消耗的氣體的體積只有現(xiàn)有技術(shù)中消耗氣體的體積的一半。如圖2所示的傳送基板的系統(tǒng)，該系統(tǒng)還包括進氣裝置210，與預真空進樣腔201相連，用于根據(jù)控制裝置205的控制將氣體送入預真空進樣腔201。其中，控制裝置205還用于，在基板被傳送至預真空進樣腔201內(nèi)部之前，控制進氣裝置210將氣體送入預真空進樣腔201，直至預真空進樣腔201內(nèi)的氣壓達到標準大氣壓為止，控制第一閘門Gl開啟。相應的，在圖3所述的傳送基板的控制過程中，在步驟S301之前，還要將氣體送入預真空進樣腔，直至預真空進樣腔內(nèi)的氣壓達到標準大氣壓為止，將第一閘門開啟。也即，使預真空進樣腔內(nèi)的氣壓與外界的氣壓相等，再將第一閘門開啟，將基板從外界傳送至預真空進樣腔內(nèi)部。如圖2所示的系統(tǒng)，在圖2中只示出了控制裝置205與氣壓平衡管路206中的閥門SI、第一氣壓監(jiān)測裝置208、第二氣壓監(jiān)測裝置209的連接線路，控制裝置205控制傳送裝置204、進氣裝置210、抽氣裝置207、第一閘門G1、第二閘門G2、第三閘門G3進行相應操作時，所基于的連接線路并未示出，在實際應用時，控制裝置205均通過與上述各裝置之間的連接線路對各裝置進行控制，這里就不再一一贅述。另外，在本發(fā)明實施例中，判斷預真空進樣腔內(nèi)的氣壓值與真空傳送腔內(nèi)的氣壓值是否近似相等的方法還可以為，判斷預真空進樣腔內(nèi)的氣壓值是否小于設定的第三氣壓值，若小干，則確定兩個腔內(nèi)的氣壓值近似相等，否則確定兩個腔內(nèi)的氣壓值仍相差較大。例如，當兩個腔的容積相等時，可以設定該第三氣壓值為某個大于P/2的值，其中P為標準大氣壓，當預真空進樣腔內(nèi)的氣壓值小于該第三氣壓值時，確定兩個腔內(nèi)的氣壓值近似相
坐寸ο相應的，還可以判斷真空傳送腔內(nèi)的氣壓值是否大于設定的第四氣壓值，若大于，則確定兩個腔內(nèi)的氣壓值近似相等，否則確定兩個腔內(nèi)的氣壓值仍顯差較大。例如，當兩個腔的容積相等時，可以設定該第四氣壓值為某個小于P/2的值，其中，P為標準大氣壓，當真空傳送腔內(nèi)的氣壓值大于該第四氣壓值時，確定兩個腔內(nèi)的氣壓值近似相等。在本發(fā)明實施例中，為了快速的使預真空進樣腔內(nèi)的氣壓和真空傳送腔內(nèi)的氣壓相等，提高傳送基板的效率，該氣壓平衡管路包括至少一條低速氣壓平衡管路，以及至少ー條高速氣壓平衡管路。其中，在兩個腔內(nèi)的氣壓差恒定的情況下，該低速氣壓平衡管路可以使預真空進樣腔內(nèi)的氣體較慢的流向真空傳送腔，而高速氣壓平衡管路可以使使預真空進樣腔內(nèi)的氣體較快的流向真空傳送腔。在兩個腔內(nèi)的氣壓差較大時，為了使氣體較慢的流向真空傳送腔，以減小氣流過快而對基板產(chǎn)生影響，本發(fā)明實施例中將連通預真空進樣腔和真空傳送腔的氣壓平衡管路中的閥門開啟，使預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過氣壓平衡管路流入真空傳送腔中的過程具體為，將至少一條低速氣壓平衡管路中的第一閥門開啟，使預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過該至少一條低速氣壓平衡管路流入真空傳送腔中，并監(jiān)測第一氣壓值與第二氣壓值，當監(jiān)測到第一氣壓值與第二氣壓值的差值的絕對值小于設定的第二閾值時，將至少一條高速氣壓平衡管路中的第二閥門開啟，使預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過該至少一條低速氣壓平衡管路，以及該至少一條高速氣壓平衡管路繼續(xù)流入真空傳送腔。也即，當兩個腔內(nèi)的氣壓差的絕對值不小于設定的第二閾值時，預真空進樣腔內(nèi)的氣體只通過低速氣壓平衡管路流入真空傳送腔中，當兩個腔內(nèi)的氣壓差的絕對值小于設定的第一閾值時，預真空進樣腔內(nèi)的氣體同時通過低速氣壓平衡管路和高速氣壓平衡管路繼續(xù)流入真空傳送腔中，直至兩個腔內(nèi)的氣壓值近似相等為止。在本發(fā)明實施例中，為了進一歩提高傳送基板的效率，當基板被傳送至真空傳送腔內(nèi)部，抽氣裝置將真空傳送腔中的氣體抽出時，進氣裝置還可以同時執(zhí)行將氣體送入預真空進樣腔的步驟，以進行下ー個基板的傳送。也即，在抽氣裝置將真空傳送腔內(nèi)的氣體抽出吋，進氣裝置將氣體送入預真空進樣腔，直至預真空進樣腔內(nèi)的氣壓達到標準大氣壓為止，控制第一閘門開啟，進行下ー個基板的傳送。并且，在抽氣裝置將真空傳送腔中的氣體抽出之前，還要將氣壓平衡管路中的閥門關閉，使真空傳送腔處于密閉的狀態(tài)。圖4為本發(fā)明實施例提供的傳送基板的系統(tǒng)具體實現(xiàn)結(jié)構(gòu)示意圖，具體包括預真空進樣腔201、真空傳送腔202、反應腔203、傳送裝置204、控制裝置205、低速氣壓平衡管路2061、高速氣壓平衡管路2062、抽氣裝置207、第一氣壓監(jiān)測裝置208、第二氣壓監(jiān)測裝置209以及進氣裝置210。其中，低速氣壓平衡管路2061中包括第一閥門SI，高速氣壓平衡管路2062中包括第二閥門S2，該第一閥門SI和第二閥門S2均可以采用只有開關兩點的閥門，也可以采用可調(diào)節(jié)開ロ度的閥門，并且均可以采用電動式的閥門。并且，預真空進樣腔201與外界之間的第一閘門為G1，預真空進樣腔201與真空傳送腔202之間的第二閘門為G2，真空傳送腔202與反應腔203之間的第三閘門為G3。。其中，控制裝置205接收第一氣壓監(jiān)測裝置208發(fā)送的預真空進樣腔201內(nèi)的第ー氣壓值，以及第ニ氣壓監(jiān)測裝置209發(fā)送的真空傳送腔202內(nèi)的第二氣壓值，并據(jù)此控制第一閥門SI和第二閥門S2的開啟和關閉，進而控制基板傳送的過程。如圖4所示，在圖4中只示出了控制裝置205與第一閥門SI、第二閥門S2、第一氣、壓監(jiān)測裝置208、第二氣壓監(jiān)測裝置209的連接線路，控制裝置205控制傳送裝置204、進氣裝置210、第一閘門G1、第二閘門G2、、第三閘門G3、抽氣裝置207進行相應操作時，所基于的連接線路并未示出，在實際應用時，控制裝置205均通過與上述各裝置之間的連接線路對各裝置進行控制，這里就不再一一贅述。圖5為本發(fā)明實施例提供的基于圖4所示系統(tǒng)的傳送基板的詳細過程，具體包括以下步驟S501 :控制裝置控制進氣裝置將氣體送入預真空進樣腔，并監(jiān)測第一氣壓監(jiān)測裝置反饋的預真空進樣腔內(nèi)的第一氣壓值。S502 :當監(jiān)測到第一氣壓值達到標準大氣壓時，控制第一閘門開啟，并控制傳送裝置將基板傳送至預真空進樣腔，基板被傳送至預真空進樣腔內(nèi)部后，控制第一閘門關閉。
S503:控制低速氣壓平衡管路中的第一閥門開啟，使預真空進樣腔內(nèi)的氣體流入真空傳送腔中，并監(jiān)測第一氣壓監(jiān)測裝置和第二氣壓監(jiān)測裝置發(fā)送的第一氣壓值與第二氣壓值的差值的絕對值。S504 :當監(jiān)測到第一氣壓值與第二氣壓值的差值的絕對值小于設定的第二閾值時，控制高速氣壓平衡管路中的第二閥門開啟，使預真空進樣腔內(nèi)的氣體繼續(xù)流入真空傳送腔中，并監(jiān)測第一氣壓值與第二氣壓值的差值的絕對值。S505 :當監(jiān)測到第一氣壓值與第二氣壓值的差值的絕對值小于設定的第一閾值吋，控制第二閘門開啟，并控制傳送裝置將基板傳送至真空傳送腔，基板被傳送至真空傳送腔內(nèi)部后，控制第二閘門關閉，并控制第一閥門和第二閥門關閉，同時執(zhí)行步驟S506和S507。S506 :控制裝置控制抽氣裝置將真空傳送腔中的氣體抽出，當監(jiān)測到第二氣壓值達到設定的真空氣壓時，控制第三閘門開啟，并控制傳送裝置將基板傳送至反應腔。S507 :控制裝置控制進氣裝置將氣體送入預真空進樣腔，當監(jiān)測到第一氣壓值達到標準大氣壓時，控制第一閘門開啟，進行下ー個基板的傳送。在上述過程中，當基板被傳送至預真空進樣腔時，預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過氣壓平衡管路流入真空傳送腔中，當預真空進樣腔內(nèi)的氣壓值與真空傳送腔內(nèi)的氣壓值的差值的絕對值小于設定的第一閾值時，將基板傳送至真空傳送腔，并將真空傳送腔內(nèi)的氣體抽出，當真空傳送腔內(nèi)的氣壓值達到設定的真空氣壓值時，將該基板傳送至反應腔。由于本發(fā)明實施例中預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過氣壓平衡管路流入真空傳送腔，當預真空進樣腔內(nèi)的氣壓值與真空傳送腔內(nèi)的氣壓值近似相等吋，將基板傳送至真空傳送腔，從而使真空傳送腔在將基板傳送至反應腔時，抽出的氣體的較少，也即每傳送ー個基板只需要消耗少量的氣體即可，因此節(jié)省了氣體資源。另外，為了進一歩控制氣體從預真空進樣腔流向真空傳送腔的流速，在上述圖4所示的系統(tǒng)中，還可以在低速氣壓平衡管路中設置氣流控制閥門S3，用于控制氣體在低速氣壓平衡管路中的流速。并且，為了便于對低速氣壓平衡管路和高速氣壓平衡管路的維護，還可以在低速氣壓平衡管路中設置ー個手動閥門S4，在高速氣壓平衡管路中也設置ー個手動閥門S5，在系統(tǒng)正常工作吋，將S4和S5開啟，對氣壓平衡管路進行維護時，將S4和S5關閉。如圖4所示，圖4是以只有一條低速氣壓平衡管路和一條高速氣壓平衡管路為例進行說明的，當然，低速氣壓平衡管路和高速氣壓平衡管路均可以為若干條，這里就不再
--贅述。本發(fā)明實施例提供一種傳送基板的系統(tǒng)及方法，該系統(tǒng)當基板被傳送至預真空進樣腔時，預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過氣壓平衡管路流入真空傳送腔中，當預真空進樣腔內(nèi)的氣壓值與真空傳送腔內(nèi)的氣壓值的差值的絕對值小于設定的第一閾值時，將基板傳送至真空傳送腔，并將真空傳送腔內(nèi)的氣體抽出，當真空傳送腔內(nèi)的氣壓值達到設定的真空氣壓值時，將該基板傳送至反應腔。由于本發(fā)明實施例中預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過氣壓平衡管路流入真空傳送腔，當預真空進樣腔內(nèi)的氣壓值與真空傳送腔內(nèi)的氣壓值近似相等時，將基板傳送至真空傳送腔，從而使真空傳送腔在將基板傳送至反應腔時，抽出的氣體的較少，也即每傳送ー個基板只需要消耗少量的氣體即可，因此節(jié)省了氣體資源。顯然，本領域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精 神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種傳送基板的系統(tǒng)，包括傳送基板的傳送裝置、預真空進樣腔、真空傳送腔和反應腔，以及預真空進樣腔與外界之間的第一閘門、預真空進樣腔與真空傳送腔之間的第二閘門、真空傳送腔與反應腔之間的第三閘門；其特征在于，還包括控制裝置、氣壓平衡管路、抽氣裝置、第一氣壓監(jiān)測裝置和第二氣壓監(jiān)測裝置； 氣壓平衡管路，連通所述預真空進樣腔和所述真空傳送腔，其中，所述氣壓平衡管路中包括閥門，用于根據(jù)所述控制裝置的控制進行相應的開啟或關閉； 抽氣裝置，與所述真空傳送腔相連，用于根據(jù)所述控制裝置的控制將真空傳送腔內(nèi)的氣體抽出； 第一氣壓監(jiān)測裝置，位于預真空進樣腔中，用于測量預真空進樣腔內(nèi)的第一氣壓值，并將測量的預真空進樣腔內(nèi)的第一氣壓值發(fā)送給所述控制裝置； 第二氣壓監(jiān)測裝置，位于真空傳送腔中，用于測量真空傳送腔內(nèi)的第二氣壓值，并將測量的真空傳送腔內(nèi)的第二氣壓值發(fā)送給所述控制裝置； 第一閘門、第二閘門和第三閘門，用于根據(jù)所述控制裝置的控制進行相應的開啟或關閉； 所述控制裝置，用于當基板被傳送至預真空進樣腔內(nèi)部時，控制所述第一閘門、第二閘門和第三閘門關閉，并控制連通預真空進樣腔和真空傳送腔的氣壓平衡管路中的閥門開啟，使預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過所述氣壓平衡管路流入真空傳送腔中；以及用于 獲取所述第一氣壓監(jiān)測裝置監(jiān)測的所述預真空進樣腔內(nèi)的第一氣壓值和所述第二氣壓監(jiān)測裝置監(jiān)測的真空傳送腔內(nèi)的第二氣壓值，并當所述第一氣壓值和所述第二氣壓值的差值的絕對值小于設定的第一閾值時，控制所述第二閘門開啟，并控制所述傳送裝置將所述基板由預真空進樣腔傳送至真空傳送腔中，當所述基板被傳送至真空傳送腔內(nèi)部時控制所述第二閘門關閉；以及用于 控制所述抽氣裝置將真空傳送腔內(nèi)的氣體抽出，當通過所述第二氣壓監(jiān)測裝置監(jiān)測到所述真空傳送腔內(nèi)的第二氣壓值達到設定的真空氣壓值時，控制所述第三閘門開啟，并控制所述傳送裝置將所述基板由真空傳送腔傳送至所述反應腔中。
2.如權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括 進氣裝置，與所述預真空進樣腔相連，用于根據(jù)所述控制裝置的控制將氣體送入所述預真空進樣腔； 所述控制裝置還用于，在所述基板被傳送至預真空進樣腔內(nèi)部之前，控制進氣裝置將氣體送入所述預真空進樣腔，直至所述預真空進樣腔內(nèi)的氣壓達到標準大氣壓為止，控制所述第一閘門開啟。
3.如權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述氣壓平衡管路包括至少一條低速氣壓平衡管路，以及至少一條高速氣壓平衡管路，其中，每條低速氣壓平衡管路中包括第一閥門，用于根據(jù)所述控制裝置的控制進行相應的開啟或關閉，每條高速氣壓平衡管路中包括第二閥門，用于根據(jù)所述控制裝置的控制進行相應的開啟或關閉； 所述控制裝置具體用干，控制至少一條低速氣壓平衡管路中的第一閥門開啟，使預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過所述至少一條低速氣壓平衡管路流入真空傳送腔中，當監(jiān)測到所述第一氣壓值與所述第二氣壓值的差值的絕對值小于設定的第二閾值時，控制至少一條高速氣壓平衡管路中的第二閥門開啟，使所述預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過所述至少一條低速氣壓平衡管路，以及至少一條高速氣壓平衡管路繼續(xù)流入所述真空傳送腔。
4.如權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述控制裝置還用干，當控制所述抽氣裝置將所述真空傳送腔內(nèi)的氣體抽出吋，控制所述進氣裝置將氣體送入所述預真空進樣腔，直至預真空進樣腔內(nèi)的氣壓達到標準大氣壓為止，控制所述第一閘門開啟。
5.如權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述控制裝置還用于，控制所述抽氣裝置將所述真空傳送腔內(nèi)的氣體抽出之前，控制所述氣壓平衡管路中的閥門關閉。
6.一種傳送基板的方法，其特征在于，包括 當基板被傳送至預真空進樣腔內(nèi)部時，將預真空進樣腔與外界之間的第一閘門、預真空進樣腔與真空傳送腔之間的第二閘門、真空傳送腔與反應腔之間的第三閘門關閉，將連通預真空進樣腔和真空傳送腔的氣壓平衡管路中的閥門開啟，使預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過所述氣壓平衡管路流入真空傳送腔中；并 監(jiān)測預真空進樣腔內(nèi)的第一氣壓值以及真空傳送腔內(nèi)的第二氣壓值； 當監(jiān)測到所述第一氣壓值與所述第二氣壓值的差值的絕對值小于設定的第一閾值吋，將所述第二閘門開啟，并將所述基板由所述預真空進樣腔傳送至所述真空傳送腔，當所述基板被傳送至真空傳送腔內(nèi)部吋，將所述第二閘門關閉； 將所述真空傳送腔內(nèi)的氣體抽出，當監(jiān)測到真空傳送腔內(nèi)的第二氣壓值達到設定的真空氣壓值吋，將所述第三閘門開啟，并將所述基板由所述真空傳送腔傳送至反應腔。
7.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述基板被傳送至預真空進樣腔內(nèi)部之前，將氣體送入預真空進樣腔，直至預真空進樣腔內(nèi)的氣壓達到標準大氣壓為止，將所述第一閘門開啟。
8.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在干，所述氣壓平衡管路包括至少一條低速氣壓平衡管路，以及至少一條高速氣壓平衡管路； 將連通預真空進樣腔和真空傳送腔的氣壓平衡管路中的閥門開啟，使預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過所述氣壓平衡管路流入真空傳送腔中，包括 將至少一條低速氣壓平衡管路中的第一閥門開啟，使預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過所述至少一條低速氣壓平衡管路流入真空傳送腔中，并監(jiān)測所述第一氣壓值與所述第二氣壓值； 當監(jiān)測到所述第一氣壓值與所述第二氣壓值的差值的絕對值小于設定的第二閾值吋，將至少一條高速氣壓平衡管路中的第二閥門開啟，使預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過所述至少一條低速氣壓平衡管路，以及至少一條高速氣壓平衡管路繼續(xù)流入所述真空傳送腔。
9.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，將真空傳送腔內(nèi)的氣體抽出時，將氣體送入預真空進樣腔，直至預真空進樣腔內(nèi)的氣壓達到標準大氣壓為止，將所述第一閘門開啟。
10.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，將真空傳送腔內(nèi)的氣體抽出之前，將所述氣壓平衡管路中的閥門關閉。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種傳送基板的系統(tǒng)及方法，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中傳送基板的系統(tǒng)嚴重的浪費了氣體資源的問題。該系統(tǒng)預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過氣壓平衡管路流入真空傳送腔中，當預真空進樣腔內(nèi)的第一氣壓值與真空傳送腔內(nèi)的第二氣壓值的差值的絕對值小于設定的第一閾值時，將基板傳送至真空傳送腔，并將真空傳送腔內(nèi)的氣體抽出，當?shù)诙鈮褐颠_到真空氣壓值時，將基板傳送至反應腔。由于本發(fā)明實施例中預真空進樣腔內(nèi)的氣體通過氣壓平衡管路流入真空傳送腔，當預真空進樣腔內(nèi)的氣壓值與真空傳送腔內(nèi)的氣壓值近似相等時，將基板傳送至真空傳送腔，從而使真空傳送腔在將基板傳送至反應腔時，抽出的氣體的較少，因此節(jié)省了氣體資源。
文檔編號B65G49/06GK102649509SQ20111020494
公開日2012年8月29日 申請日期2011年7月21日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月21日
發(fā)明者劉華鋒, 王志強, 肖紅璽 申請人:北京京東方光電科技有限公司