本實(shí)用新型涉及保護(hù)膜技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種抗靜電抗磁防刮高透保護(hù)膜。
背景技術(shù):
目前的抗磁膜通常采用貼金屬箔或者鍍金屬層的方法進(jìn)行生產(chǎn),難以得到透明性好的抗磁保護(hù)膜。而且現(xiàn)在市面上的普通保護(hù)膜功能比較單一,難以同時(shí)滿足消費(fèi)者日益增長(zhǎng)的各種功能需求。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點(diǎn)和不足,本實(shí)用新型的目的在于提供一種抗靜電抗磁防刮高透保護(hù)膜,該抗靜電抗磁防刮高透保護(hù)膜同時(shí)具有抗靜電、抗電磁和防刮花的優(yōu)點(diǎn),在保持高透過(guò)率的同時(shí),具有良好的抗電磁效果。
本實(shí)用新型的目的通過(guò)下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):一種抗靜電抗磁防刮高透保護(hù)膜,包括從上往下依次貼合的保護(hù)膜層、使用膜層和剝離膜,保護(hù)膜層包括保護(hù)膜和貼合于保護(hù)膜下表面的剝離膠層;使用膜層包括貼合于剝離膠層下表面的抗靜電硬化層、貼合于抗靜電硬化層下表面的基材、貼合于基材下表面的粘結(jié)層、貼合于粘結(jié)層下表面的抗磁薄膜、以及貼合于抗磁薄膜下表面的粘膠層,粘膠層的下表面與剝離膜的上表面貼合。
進(jìn)一步的,所述保護(hù)膜、剝離膜均為PET薄膜、PVC薄膜、PC薄膜、OPP薄膜和PE薄膜中的任意一種。
進(jìn)一步的,所述剝離膠層、粘結(jié)層和粘膠層均為硅膠層、亞克力膠層、壓敏膠層和OCA膠水層中的任意一種。
進(jìn)一步的,所述抗靜電硬化層為添加有抗靜電劑的丙烯酸膠層、聚氨酯膠層和環(huán)氧聚酯膠層中的任意一種。
進(jìn)一步的,所述基材為光透過(guò)率在92%以上的PET薄膜、PVC薄膜、PC薄膜和OPP薄膜中的任意一種。
進(jìn)一步的,所述抗磁薄膜為光透過(guò)率在92%以上的聚苯胺薄膜、聚吡咯薄膜和聚噻吩薄膜中的任意一種。
進(jìn)一步的,所述保護(hù)膜、剝離膜的厚度均為25-75μm。
進(jìn)一步的,所述剝離膠層、粘結(jié)層、抗磁薄膜和粘膠層的厚度均為5-20μm。
進(jìn)一步的,所述抗靜電硬化層的厚度為2-8μm。
進(jìn)一步的,所述基材的厚度為25-50μm。
本實(shí)用新型的有益效果在于:本實(shí)用新型的抗靜電抗磁防刮高透保護(hù)膜通過(guò)采用抗靜電硬化層和抗磁薄膜,使得保護(hù)膜同時(shí)具有抗靜電、抗電磁和防刮花的優(yōu)點(diǎn),在保持高透過(guò)率的同時(shí),具有良好的抗電磁效果。
附圖說(shuō)明
圖1是本實(shí)用新型的局部剖視圖。
附圖標(biāo)記為:1—保護(hù)膜層、11—保護(hù)膜、12—?jiǎng)冸x膠層、2—使用膜層、21—抗靜電硬化層、22—基材、23—粘結(jié)層、24—抗磁薄膜、25—粘膠層、3—?jiǎng)冸x膜。
具體實(shí)施方式
為了便于本領(lǐng)域技術(shù)人員的理解,下面結(jié)合實(shí)施例及附圖1對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說(shuō)明,實(shí)施方式提及的內(nèi)容并非對(duì)本實(shí)用新型的限定。
見(jiàn)圖1,一種抗靜電抗磁防刮高透保護(hù)膜,包括從上往下依次貼合的保護(hù)膜層1、使用膜層2和剝離膜3,保護(hù)膜層1包括保護(hù)膜11和貼合于保護(hù)膜11下表面的剝離膠層12;使用膜層2包括貼合于剝離膠層12下表面的抗靜電硬化層21、貼合于抗靜電硬化層21下表面的基材22、貼合于基材22下表面的粘結(jié)層23、貼合于粘結(jié)層23下表面的抗磁薄膜24、以及貼合于抗磁薄膜24下表面的粘膠層25,粘膠層25的下表面與剝離膜3的上表面貼合。
本實(shí)用新型的抗靜電抗磁防刮高透保護(hù)膜通過(guò)采用抗靜電硬化層21和抗磁薄膜24,使得保護(hù)膜同時(shí)具有抗靜電、抗電磁和防刮花的優(yōu)點(diǎn),在保持高透過(guò)率的同時(shí),具有良好的抗電磁效果。
本實(shí)施例中,所述保護(hù)膜11、剝離膜3均為PET薄膜、PVC薄膜、PC薄膜、OPP薄膜和PE薄膜中的任意一種。本實(shí)用新型通過(guò)采用上述薄膜作為保護(hù)膜11和剝離膜3,其光透過(guò)率高。
本實(shí)施例中,所述剝離膠層12、粘結(jié)層23和粘膠層25均為硅膠層、亞克力膠層、壓敏膠層和OCA膠水層中的任意一種。本實(shí)用新型通過(guò)采用上述粘結(jié)材料層作為剝離膠層12、粘結(jié)層23和粘膠層25,其粘結(jié)效果好,環(huán)保。
本實(shí)施例中,所述抗靜電硬化層21為添加有抗靜電劑的丙烯酸膠層、聚氨酯膠層和環(huán)氧聚酯膠層中的任意一種。本實(shí)用新型通過(guò)采用添加有抗靜電劑的粘結(jié)材料層作為抗靜電硬化層21,其抗靜電效果好。具體的,所述抗靜電劑為胺的衍生物、季銨鹽、硫酸酯、磷酸酯和聚乙二醇的衍生物中的任意一種。
本實(shí)施例中,所述基材22為光透過(guò)率在92%以上的PET薄膜、PVC薄膜、PC薄膜和OPP薄膜中的任意一種。本實(shí)用新型通過(guò)采用上述光透過(guò)率在92%以上的薄膜作為基材22,其光透過(guò)率高。
本實(shí)施例中,所述抗磁薄膜24為光透過(guò)率在92%以上的聚苯胺薄膜、聚吡咯薄膜和聚噻吩薄膜中的任意一種。本實(shí)用新型通過(guò)采用上述光透過(guò)率在92%以上的薄膜作為抗磁薄膜24,其導(dǎo)電率高,抗電磁效果好。
本實(shí)施例中,所述保護(hù)膜11、剝離膜3的厚度均為25-75μm。優(yōu)選的,所述保護(hù)膜11、剝離膜3的厚度均為25μm、25μm、45μm、50μm、65μm或75μm。更為優(yōu)選的,所述保護(hù)膜11、剝離膜3的厚度均為50μm。
本實(shí)施例中,所述剝離膠層12、粘結(jié)層23、抗磁薄膜24和粘膠層25的厚度均為5-20μm。優(yōu)選的,所述剝離膠層12、粘結(jié)層23、抗磁薄膜24和粘膠層25的厚度均為5μm、8μm、12μm、16μm或20μm。更為優(yōu)選的,所述剝離膠層12、粘結(jié)層23、抗磁薄膜24和粘膠層25的厚度均為12μm。
本實(shí)施例中,所述抗靜電硬化層21的厚度為2-8μm。優(yōu)選的,所述抗靜電硬化層21的厚度為2μm、4μm、5μm、6μm或8μm。更為優(yōu)選的,所述抗靜電硬化層21的厚度為5μm。
本實(shí)施例中,所述基材22的厚度為25-50μm。優(yōu)選的,所述基材22的厚度為25μm、20μm、25μm、40μm、45μm或50μm。更為優(yōu)選的,所述基材22的厚度為40μm。
上述實(shí)施例為本實(shí)用新型較佳的實(shí)現(xiàn)方案,除此之外,本實(shí)用新型還可以其它方式實(shí)現(xiàn),在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下任何顯而易見(jiàn)的替換均在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。