一種氧化硅拋光磨料的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種氧化硅拋光磨料，包括以下組分，各組分重量百分比：氧化硅30～40％；鉀長石20～30％；棕剛玉20～30％；高嶺土10～20％；石英1～5％；納米陶瓷粉透明液體5～15％；各組分重量百分比總和為100％。本發(fā)明的氧化硅拋光磨料可以同時得到硬度高、尺寸穩(wěn)定性好、致密性高、光潔度高、冷熱疲勞性好、斷裂韌性好、抗蠕變性能和耐磨性能優(yōu)異，其使用壽命比現(xiàn)有技術(shù)的拋光磨料長5～6倍，有效克服了現(xiàn)有技術(shù)中拋磨塊存在拋光質(zhì)量差、耐磨度差等缺點(diǎn)。
【專利說明】一種氧化硅拋光磨料

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明屬于拋磨材料【技術(shù)領(lǐng)域】，涉及一種氧化硅拋光磨料。

【背景技術(shù)】
[0002] 現(xiàn)有技術(shù)中，拋磨塊是以剛玉或碳化硅等粉末為磨料，用燒結(jié)或澆注的方法制造 的小型拋光磨具，主要用于拋光磨削各種金屬或非金屬物品的表面。用于金屬拋光的拋磨 塊通常是使用高溫?zé)Y(jié)棕剛玉制造的拋磨塊，由于現(xiàn)有工藝制作方法的影響，現(xiàn)有的拋磨 塊存在拋光質(zhì)量差、耐磨度差等缺點(diǎn)，使用效果不夠理想，因此很多高要求的拋光、磨削處 理仍然是采用進(jìn)口的拋磨塊，這樣大大提高了加工的生產(chǎn)成本。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題就是有效提高拋磨塊的耐磨度，并且使拋光磨料的拋 光、磨削處理效果符合高要求而提供的一種氧化硅拋光磨料。
[0004] 為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案：一種氧化硅拋光磨料，包括以下 組分，各組分重量百分比為：
[0005] 氧化硅 30?40%; 鉀長石 20?30%; 棕剛玉 20?30%; 高嶺土 10?20%; 石英 1?5%; 納米陶瓷粉透明液體 5?15%;
[0006] 各組分重量百分比總和為100%，
[0007] 其中，所述納米陶瓷粉透明液體的固含量為20?50%。
[0008] -般情況下，拋光磨料采用氧化硅、鉀長石、棕剛玉和高嶺土為主要原料進(jìn)行燒結(jié) 而成，而且高嶺土的加入量太多，達(dá)到質(zhì)量百分比30?50 %甚至更多，雖然成本低，但是直 接導(dǎo)致拋光磨料的硬度下降，耐磨度明顯不足，使拋光磨料的使用壽命大大降低。
[0009] 本發(fā)明大大降低高嶺土的加入量，降至10?20%，并提高氧化硅的含量，達(dá)到 30?40%，同時加入1?5%石英和5?15%納米陶瓷粉透明液體，納米陶瓷粉透明液體 為無色透明，固含量為20?50%。該納米陶瓷粉液體使用的是5?10nm的陶瓷粉，該陶瓷 粉是將粒徑稍大的納米陶瓷粉經(jīng)過層層深加工篩選出來的，具有明顯的納米藍(lán)相。納米陶 瓷粉透明液體與其他配料攪拌均勻，可以大大提高拋光磨料的硬度、尺寸穩(wěn)定性、致密性、 光潔度、冷熱疲勞性、斷裂韌性、抗蠕變性能和耐磨性能，混合均勻的配料通過球磨機(jī)深度 粉碎和滾動成型而成，很好的保持拋光磨料硬度高、耐磨度高等優(yōu)異性能，避免傳統(tǒng)燒結(jié)工 藝得到的拋光磨料脆性高的缺點(diǎn)。
[0010] 優(yōu)選的，各組分重量百分比為：
[0011] 氧化硅 35%； 鉀長石 25%; 棕剛玉 22%； 尚嶺土 12%; 石英 1%; 納米陶瓷粉透明液體 5°/〇。
[0012] 優(yōu)選的，各組分重量百分比為：
[0013] 氧化硅 40%;
[0014] 鉀長石 20%; 棕剛玉 23%； _ 嶺土 10%; 石英 2%， 納米陶瓷粉透明液體 5%。
[0015] 當(dāng)氧化硅的含量增多時，拋光磨料的硬度明顯提高。
[0016] 優(yōu)選的，各組分重量百分比為：
[0017] 氧化硅 30%; 鉀長石 30%; 棕剛玉 20%; 高嶺土 10%; 石英 丨％， 納米陶瓷粉透明液體 9%。
[0018] 當(dāng)納米陶瓷粉透明液體的含量增多時，拋光磨料中各種成分明顯分布更加均勻， 并且其致密度明顯增加，耐磨度明顯大大提高。
[0019] 優(yōu)選的，各組分重量百分比為：
[0020] 氧化硅 30%; 鉀長石 20%, 棕剛玉 20%； 高嶺土 10%; 石央 5%; 納米陶瓷粉透明液體 15%。
[0021] 隨著納米陶瓷粉透明液體的含量加入更多時，成型時間需要適當(dāng)延長。
[0022] 優(yōu)選的，各組分重量百分比為：
[0023] 氧化硅 30.5%; 鉀長石 20.5%; 棕剛玉 23.4%； 高嶺土 11.8%; 石英 3.5%; 納米陶瓷粉透明液體 10.3%。
[0024] 合適的配比使得到的拋光磨料綜合性能達(dá)到較為理想的效果，而且球磨機(jī)滾動成 型的加工時間比較短，達(dá)到低成本，符合經(jīng)濟(jì)效應(yīng)。
[0025] 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是：該拋光磨料硬度高、尺寸穩(wěn)定性好、致密性高、 光潔度高、冷熱疲勞性好、斷裂韌性好、抗蠕變性能和耐磨性能優(yōu)異，其使用壽命比現(xiàn)有技 術(shù)的拋光磨料長5?6倍。
[0026] 下面結(jié)合【具體實(shí)施方式】對本發(fā)明作進(jìn)一步描述：

【具體實(shí)施方式】
[0027] 本發(fā)明一種氧化硅拋光磨料實(shí)施例1，包括以下組分，各組分重量百分比為：
[0028] 氧化硅 35%; 鉀長石 25%; 棕剛玉 22%; 高嶺土 12%; 石英 1 %， 納米陶瓷粉透明液體 5%;
[0029] 其中，所述納米陶瓷粉透明液體的固含量為20?50%。
[0030] 本發(fā)明一種氧化硅拋光磨料實(shí)施例2,包括以下組分，各組分重量百分比為：
[0031] 氧化硅 40%; 鉀長石 20%; 棕剛玉 23%； 高嶺土 10%; 石英 2%； 納米陶瓷粉透明液體 5%。
[0032] 本發(fā)明一種氧化硅拋光磨料實(shí)施例3,包括以下組分，各組分重量百分比為：
[0033] 氧化硅 30%; 鉀長石 30%; 掠剛玉 20%; 高嶺土 10%; 石英 1%; 納米陶瓷粉透明液體 9%。
[0034] 本發(fā)明一種氧化硅拋光磨料實(shí)施例4,包括以下組分，各組分重量百分比為：
[0035] 氧化硅 30%; 鉀長石 20%; 棕剛玉 20%； 尚嶺土 10%; 石英 5%; 納米陶瓷粉透明液體 15%
[0036] 本發(fā)明一種氧化硅拋光磨料實(shí)施例5,包括以下組分，各組分重量百分比為：
[0037] 氧化硅 30.5%; 鉀長石 20.5%;
[0038] 棕剛玉 23.4%; 高嶺土 11.8%; 石英 3.5%; 納米陶瓷粉透明液體 10.3%。
[0039] 對實(shí)施例1?5得到的氧化硅拋光磨料產(chǎn)物的抗壓強(qiáng)度和高溫蠕變值等進(jìn)行檢 測，同時與現(xiàn)有技術(shù)對比例進(jìn)行比較，檢測結(jié)果如表1所示。
[0040] 表 1
[0041]
【權(quán)利要求】
1. 一種氧化硅拋光磨料，其特征在于：包括以下組分，各組分重量百分比為： 氧化硅 30?40%; 鉀長石 20?30%; 棕剛玉 20?30%; 高嶺土 10?20%; 石英 1?5%; 納米陶瓷粉透明液體 5?15%; 各組分重量百分比總和為100%， 其中，所述納米陶瓷粉透明液體的固含量為20?50%。
2. 如權(quán)利要求1所述的一種氧化硅拋光磨料，其特征在于：各組分重量百分比為： 氧化硅 35%; 鉀長石 25%; 棕剛玉 22%； 高嶺土 12%; 石英 1%, 納米陶瓷粉透明液體 5%。
3. 如權(quán)利要求1所述的一種氧化硅拋光磨料，其特征在于：各組分重量百分比為： 氧化硅 40%; 鉀長石 20%; 棕剛玉 23%； 高嶺土 10%; 石英 2%; 納米陶瓷粉透明液體 5%。
4. 如權(quán)利要求1所述的一種氧化硅拋光磨料，其特征在于：各組分重量百分比為： 氧化硅 30%; 鉀長石 30%; 棕剛玉 20%； 高嶺土 10%; 石英 1%; 納米陶瓷粉透明液體 9%。
5. 如權(quán)利要求1所述的一種氧化硅拋光磨料，其特征在于：各組分重量百分比為： 氧化硅 30%； 鉀長石 20%; 棕剛玉 20%； 尚嶺土 10%; 石英 5%; 納米陶瓷粉透明液體 15%。
6. 如權(quán)利要求1所述的一種氧化硅拋光磨料，其特征在于：各組分重量百分比為： 氧化硅 30.5%； 鉀長石 20.5%; 棕剛玉 23.4%; 高嶺土 11.8%; 石英 3.5%; 納米陶瓷粉透明液體 10.3%。
【文檔編號】C09K3/14GK104119836SQ201410339838
【公開日】2014年10月29日 申請日期:2014年7月17日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月17日
【發(fā)明者】吳來順 申請人:長興歐利雅磨具磨料廠