疊層體、導(dǎo)電性疊層體和觸摸面板、以及涂料組合物和使用該涂料組合物的疊層體的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明是一種疊層體，其在支撐基材的至少一面上依次具有折射率不同的第2層和第1層，第1層含有粒子X(粒子X是至少具有無機(jī)粒子部分的粒子)，第2層含有粒子Y(粒子Y是至少具有無機(jī)粒子部分的粒子)，其特征在于，上述粒子X的無機(jī)粒子部分的數(shù)均粒徑(以下稱為DX)為5nm以上25nm以下，且滿足式1和式2，1.4≤(LX/DX)≤3···式1SLX≤7···式2LX是指利用掃描型電子顯微鏡觀察第1層的表面時(shí)觀察到的、粒子X的無機(jī)粒子部分的平均粒子中心間距離，SLX是指利用掃描型電子顯微鏡觀察第1層的表面時(shí)觀察到的、粒子X的無機(jī)粒子部分的平均粒子中心間距離的標(biāo)準(zhǔn)偏差。
【專利說明】疊層體、導(dǎo)電性疊層體和觸摸面板、以及涂料組合物和使用 該涂料組合物的疊層體的制造方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及在各種電子設(shè)備中使用的觸摸面板、在觸摸面板的透明電極中使用的 導(dǎo)電性疊層體、在導(dǎo)電性疊層體的折射率調(diào)節(jié)中使用的疊層體、以及涂料組合物和使用該 涂料組合物的疊層體的制造方法。

【背景技術(shù)】
[0002] 近年來，靜電容量式的觸摸面板搭載于便攜電話、便攜音樂終端等的各種移動(dòng)機(jī) 器上的情況增加。在這樣的靜電容量式的觸摸面板中，具有在圖案化了的導(dǎo)體上疊層了電 介質(zhì)層的構(gòu)成，通過用手指等觸摸，經(jīng)由人體的靜電容量接地。此時(shí)，圖案化電極與接地點(diǎn) 之間的電阻值產(chǎn)生變化，識(shí)別位置輸入。但是，使用現(xiàn)有的透明導(dǎo)電性膜時(shí)，具有導(dǎo)電層的 部分和除去導(dǎo)電層的部分的光學(xué)特性之差大，因此圖案被突顯，在液晶顯示器等顯示體的 前面配置時(shí)存在可視性降低這樣的問題。
[0003] 提出了為了透明導(dǎo)電性膜的透射率、色調(diào)、進(jìn)而導(dǎo)電層的圖案不突顯，使在防反射 膜等中使用的折射率不同的層疊層，利用光的干涉的方法。即，提出了在透明導(dǎo)電性薄膜層 與基材膜之間設(shè)置折射率不同的層（也稱為折射率匹配層、折射率調(diào)節(jié)層、光學(xué)功能層、光 學(xué)調(diào)節(jié)層、防反射層），利用了光學(xué)干涉的方法，專利文獻(xiàn)1中記載了"透明導(dǎo)電性疊層膜， 其特征在于，具有在包含透明塑料膜的基材上依次疊層高折射率層、低折射率層和透明導(dǎo) 電性薄膜層的構(gòu)成，高折射率層的折射率為1. 70?2. 50,膜厚為4?20nm的范圍，低折射 率層的折射率為1. 30?1. 60,膜厚為20?50nm的范圍"。
[0004] 作為利用濕法涂層形成上述折射率調(diào)節(jié)層的例子，專利文獻(xiàn)2中記載了"透明導(dǎo) 電性疊層體，其在包含有機(jī)高分子的基板的至少一面的最表面疊層透明導(dǎo)電層而成，其特 征在于，從基板側(cè)依次將（Al)折射率為1. 7?透明導(dǎo)電層的折射率+0. 3的范圍、膜厚為 20?90nm的范圍的層（Hl層）、（BI)折射率為L 35?L 5的范圍、膜厚為30?IlOnm的 范圍的層（LI層）（C)膜厚為12?30nm的范圍的透明導(dǎo)電層疊層，⑶該3層的光學(xué)膜厚 之和為180?230nm的范圍，（F)該透明導(dǎo)電層的疊層面在波長為450?650nm時(shí)的平均 反射率為5. 5%以下，且（G)該疊層體的透射光的日本工業(yè)規(guī)格Z8729號(hào)中規(guī)定的L*a * b *表色系的色彩指數(shù)b *值為0?2的范圍"，"透明導(dǎo)電性疊層體，其特征在于，Hl層和/ 或Ll層主要是將烷醇金屬鹽進(jìn)行水解和縮合而成的層"。
[0005] 另外，作為著眼于透明電極層的下層（基底層）的最表面形狀的例子，專利文獻(xiàn)3 中記載了"帶有透明電極的基板，其是在基板上依次形成了一部分或全部以粒子狀的氧化 硅為主成分的基底層、含有以氧化銦或氧化鋅為主成分的透明導(dǎo)電性氧化物層的透明電極 層的帶有透明電極的基板，其特征在于，該基底層的算術(shù)平均粗糙度（Ra)為4nm以上IOnm 以下，且折射率為1. 34?1. 60的范圍"。
[0006] 另外，由透明導(dǎo)電性膜形成導(dǎo)電層圖案的步驟通常通過進(jìn)行蝕刻處理、由此除去 導(dǎo)電層的不需要部分來進(jìn)行。在該蝕刻步驟中使用堿溶液的情況多，要求透明導(dǎo)電性膜的 折射率調(diào)節(jié)層具有耐堿性。作為對該折射率調(diào)節(jié)層這樣的疊層體賦予耐堿性的方法，作為 上述防反射層的耐堿性優(yōu)異的例子，專利文獻(xiàn)4記載了"防反射膜，其是在包含雙軸拉伸聚 對苯二甲酸乙二醇酯的基材膜上具有硬涂層、進(jìn)而在上述硬涂層上具有低折射率層的防反 射膜，其特征在于，上述硬涂層的厚度為〇. 5?5 y m，上述硬涂層是在電離放射線固化型樹 脂100質(zhì)量份中配合了五氧化銻200?600質(zhì)量份，并將其固化而形成的層，所述電離放射 線固化型樹脂由在分子內(nèi)具有2個(gè)以上（甲基）丙烯酰基的多官能（甲基）丙烯酸酯80? 97質(zhì)量％和N-乙烯基己內(nèi)酰胺20?3質(zhì)量％構(gòu)成"。
[0007] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0008] 專利文獻(xiàn)
[0009] 專利文獻(xiàn)1:日本特開2010-15861號(hào)公報(bào)
[0010] 專利文獻(xiàn)2:專利3626624號(hào)公報(bào)
[0011] 專利文獻(xiàn)3:日本特開2011-183567號(hào)公報(bào)
[0012] 專利文獻(xiàn)4:日本特開2009-51045號(hào)公報(bào)


【發(fā)明內(nèi)容】

[0013] 以上的現(xiàn)有技術(shù)具有下述課題。
[0014] 在專利文獻(xiàn)1、2中，在基材上將高折射率層、低折射率層和導(dǎo)電層疊層，根據(jù)專利 文獻(xiàn)1的說明書，低折射率層的疊層方法為利用了濺射的方法，在專利文獻(xiàn)2中，為利用了 烷氧基硅烷的水解物的方法，實(shí)施例中記載的折射率為1. 46左右，本發(fā)明人等確認(rèn)的結(jié)果 是在該折射率下，透射光的著色減少效果或不易發(fā)現(xiàn)導(dǎo)電層的圖案的效果不充分，在相同 構(gòu)成下單純地降低折射率時(shí)，存在不易發(fā)現(xiàn)導(dǎo)電層的圖案的效果的面內(nèi)均一性受到損害的 問題。
[0015] 在專利文獻(xiàn)4中，在基材上將高折射率層、低折射率層疊層，但本發(fā)明人等進(jìn)行確 認(rèn)的結(jié)果是耐堿性不充分。進(jìn)而對于實(shí)施例中記載的耐堿性的評價(jià)方法，在上述高折射率 層、低折射率層上設(shè)置導(dǎo)電層時(shí)，作為在導(dǎo)電層的圖案化步驟中要求的耐堿性，是不充分 的。
[0016] 在專利文獻(xiàn)3中，在以粒子狀的氧化硅為主成分的基底層上設(shè)置導(dǎo)電層，但本發(fā) 明人等確認(rèn)的結(jié)果是不易發(fā)現(xiàn)導(dǎo)電層的圖案的效果、透射光的防著色效果不充分。
[0017] 另外，專利文獻(xiàn)1?3的任一者中，在設(shè)置導(dǎo)電層后，為了提高導(dǎo)電性而進(jìn)行退火 處理，但其溫度高達(dá)170°C以上，存在支撐基材的變形、熱收縮、低聚物成分的析出等的問 題。
[0018] 公知例中存在以上這樣的幾個(gè)問題，因此本發(fā)明欲解決的課題有以下2個(gè)。
[0019] 第1課題是提供疊層體、該疊層體的制造方法、用于制造該疊層體的涂料組合物， 所述疊層體是在支撐基材的至少一面上具有包含折射率不同的第1層和第2層的疊層膜的 疊層體，其在疊層膜的最表面疊層導(dǎo)電層而形成導(dǎo)電性疊層體時(shí)，即使將用于提高導(dǎo)電率 和透光性的退火處理在更低的溫度下進(jìn)行，也可以得到目標(biāo)特性。
[0020] 第2課題是提供在疊層膜的最表面形成導(dǎo)電層時(shí)、或進(jìn)而將導(dǎo)電層利用蝕刻進(jìn)行 圖案化時(shí)，即使在圖案化步驟中使用了堿溶液的情況下也不受影響的耐堿性優(yōu)異的疊層 體、進(jìn)而可使透射光的著色減少效果、不易發(fā)現(xiàn)導(dǎo)電層的圖案的效果的面內(nèi)偏差、觀察角度 依賴性降低的疊層體、該疊層體的制造方法、用于制造該疊層體的涂料組合物。
[0021] 為了解決上述課題，本發(fā)明人等進(jìn)行了努力研究，結(jié)果完成了以下發(fā)明。即，本發(fā) 明如以下所述。
[0022] [第1組發(fā)明（疊層體的發(fā)明）]
[0023] 1)疊層體，其在支撐基材的至少一面上依次具有折射率不同的第2層和第1層，第 1層含有粒子X (粒子X是至少具有無機(jī)粒子部分的粒子），第2層含有粒子Y (粒子Y是至 少具有無機(jī)粒子部分的粒子），
[0024] 其特征在于，上述粒子X的無機(jī)粒子部分的數(shù)均粒徑（以下稱為Dx) [nm]為5nm以 上25nm以下，且滿足式1和式2，
[0025] 1. 4 彡（Lx/Dx)彡 3 ? --式 1
[0026] Slx 彡 7 ? --式 2
[0027] Lx是指利用掃描型電子顯微鏡觀察第1層的表面時(shí)觀察到的、粒子X的無機(jī)粒子 部分的平均粒子中心間距離[nm]。
[0028] Su是指利用掃描型電子顯微鏡觀察第1層的表面時(shí)觀察到的、粒子X的無機(jī)粒子 部分的平均粒子中心間距離[nm]的標(biāo)準(zhǔn)偏差。
[0029] 2)根據(jù)1)所述的疊層體，其特征在于，上述第1層的平均膜厚為20nm以上40nm 以下，第2層的平均膜厚為30nm以上65nm以下。
[0030] 3)根據(jù)1)或2)所述的疊層體，其特征在于，利用掃描型電子顯微鏡觀察上述第 1層的表面時(shí)，每m2有5個(gè)以下的開口部，所述開口部具有上述Dx的3倍以上的內(nèi)接直 徑。
[0031] 4)根據(jù)1)?3)中任一項(xiàng)所述的疊層體，其特征在于，由上述第1層與第2層形成 的界面滿足式3和式4。
[0032] 0? 3 彡（A12/Dx)彡 I. 1 ? --式 3
[0033] 3 彡（F12/Dx)彡 15 ? --式 4
[0034] A12[nm]是指由第1層與第2層形成的界面的輪廓曲線的振幅。
[0035] F12[nm]是指由第1層與第2層形成的界面的輪廓曲線的波長。
[0036] 5)根據(jù)權(quán)利要求1?4的任一項(xiàng)所述的疊層體，其特征在于，上述第1層的表面 的、pHIO時(shí)的4電位為-60mV以下。
[0037] 6) -種導(dǎo)電性疊層體，其特征在于，在1)?5)的任一項(xiàng)所述的疊層體的第1層上 具有導(dǎo)電層。
[0038] 7)觸摸面板，其含有6)所述的導(dǎo)電性疊層體。
[0039] [第2組發(fā)明（涂料組合物的發(fā)明）]
[0040] 8)涂料組合物，其含有具有源于氟化合物A的部分的聚合物（以下設(shè)為氟聚合物 A)、具有無機(jī)粒子部分和源于氟聚合物A的部分的粒子（以下設(shè)為粒子a)、具有無機(jī)粒子部 分、不具有源于氟聚合物A的部分的粒子（以下設(shè)為粒子b)、粘合劑原料、和有機(jī)溶劑，
[0041] 其特征在于，滿足全部的條件1?3，
[0042] 條件1 :粒子a中的源于氟聚合物A的部分、氟化合物A、和氟聚合物A的合計(jì)與粘 合劑原料的質(zhì)量比為25 :75?55 :45，
[0043] 條件2 :氟聚合物A和粒子a中的源于氟聚合物A的部分的合計(jì)與粒子a中的源 于氟聚合物A的部分的質(zhì)量比為10 :90?87 :13，
[0044] 條件3 :氟聚合物A和粒子a中的源于氟聚合物A的部分的合計(jì)與氟聚合物A中 的源于氟化合物A的部分的質(zhì)量比為20 :80?92 :8，
[0045] 其中，氟化合物A是指以下通式（1)所示的化合物，
[0046] R1-R2-Rfl ? --通式（1)
[0047] Rfl是指選自氟烷基、氟氧基烷基、氟烯基、氟烷烴二基、和氟氧基烷烴二基中的至 少1個(gè)取代基，
[0048] R1是指反應(yīng)性部分，
[0049] R2是指碳原子數(shù)為1?9的任一者的亞烷基、或碳原子數(shù)為1?9的任一者的亞 烷基醚基，
[0050] 并且，Rfl、R1、R2可在結(jié)構(gòu)中具有側(cè)鏈，
[0051] 其中，氟聚合物A是指具有上述源于氟化合物A的部分和源于以下通式（2)所示 的化合物D的部分的聚合物，
[0052] R3-R4-SiR5nl (OR6) 3_nl ? --通式（2)
[0053] R3是指反應(yīng)性部分，
[0054] R4是指碳原子數(shù)為1?6的任一者的亞烷基、或碳原子數(shù)為1?6的任一者的亞 烷基醚基，
[0055] R5、R6是指氫、或碳原子數(shù)為1?4的任一者的烷基，
[0056] nl是指0?2的整數(shù)。
[0057] 9)根據(jù)8)所述的涂料組合物，其特征在于，上述氟化合物A是以下通式⑶所示 的化合物，
[0058] Rf2-X-OCOCH = CH2 ? --通式（3)
[0059] Rf2是指碳原子數(shù)為4?6的任一者的直鏈狀的全氟烷基，
[0060] X是指碳原子數(shù)為4?8的任一者的亞烷基。
[0061] 10)根據(jù)8)或9)所述的涂料組合物，其特征在于，上述氟聚合物A是進(jìn)而具有源 于以下通式（4)所示的化合物E的部分的聚合物，
[0062] (R7)n2-R8n3 ? --通式（4)
[0063] R7是指反應(yīng)性部分，
[0064] R8是指碳原子數(shù)為1?6的任一者的亞烷基、碳原子數(shù)為1?6的任一者的羥基 烷基、碳原子數(shù)為1?6的任一者的烷氧基、碳原子數(shù)為1?3的任一者的亞烷基醚基、碳 原子數(shù)為1?5的任一者的多元醇衍生物、碳原子數(shù)為1?12的任一者的羧酸衍生物、碳 原子數(shù)為1?6的任一者的酰胺衍生物、或雙酚衍生物，其中，n2是指1?3的整數(shù)，n3是 指1?10的整數(shù)。
[0065] 11)根據(jù)10)所述的涂料組合物，其特征在于，上述化合物E的R8為內(nèi)酯環(huán)。
[0066][第3組發(fā)明（疊層體的制造方法的發(fā)明）]
[0067] 12)疊層體的制造方法，所述疊層體是在支撐基材的至少一面上依次具有折射率 不同的第2層和第1層，第1層含有粒子A，第2層含有粒子B的疊層體，
[0068] 在所述疊層體的制造方法中，在支撐基材的至少一面上涂布1次上述8)?11)的 任一項(xiàng)所述的涂料組合物，接著進(jìn)行干燥，
[0069] 其中，將源于粒子a的粒子稱為粒子A、源于粒子b的粒子稱為粒子B。
[0070] 13)根據(jù)12)所述的制造方法，其特征在于，支撐基材的涂布涂料組合物的一側(cè)的 面的、在涂料組合物的pH的情況下的（電位為-12mV以下，支撐基材的涂布涂料組合物的 一側(cè)的面的表面自由能為52mN/m以下。
[0071] 通過使用本發(fā)明的涂料組合物和制造方法，在疊層膜的最表面疊層導(dǎo)電層而形成 導(dǎo)電性疊層體時(shí)，即使在更低的溫度下進(jìn)行用于提高導(dǎo)電率和透光性的退火處理，也能夠 得到可得到目標(biāo)特性的本發(fā)明的疊層體。
[0072] 進(jìn)而，本發(fā)明的疊層體具有優(yōu)異的耐堿性，在本發(fā)明疊層體的疊層膜側(cè)的最表面 形成導(dǎo)電層時(shí)，或進(jìn)行將導(dǎo)電層進(jìn)行蝕刻而圖案化時(shí)，透射光的著色減少效果、不易發(fā)現(xiàn)導(dǎo) 電層的圖案的效果、色調(diào)的面內(nèi)偏差、觀察角度依賴性可以降低。
[0073] 附圖的說明
[0074] [圖1]本發(fā)明優(yōu)選的疊層體的一個(gè)方式的概略截面圖
[0075] [圖2]現(xiàn)有技術(shù)的疊層體的一個(gè)方式的概略截面圖
[0076] [圖3]現(xiàn)有技術(shù)的疊層體的一個(gè)方式的概略截面圖
[0077] [圖4]粒子X的無機(jī)粒子部分的中心間距離的說明圖
[0078] [圖5]開口部的說明圖
[0079] [圖6]界面的輪廓曲線、振幅、波長的說明圖
[0080] [圖7]本發(fā)明優(yōu)選的疊層體的一個(gè)方式的界面的形式
[0081] [圖8]現(xiàn)有技術(shù)的疊層體的一個(gè)方式的界面的形式
[0082] [圖9]現(xiàn)有技術(shù)的疊層體的一個(gè)方式的界面的形式
[0083] [圖10]本發(fā)明的導(dǎo)電性疊層體的一個(gè)方式的概略截面圖
[0084] [圖11]本發(fā)明的導(dǎo)電性疊層體的一個(gè)方式的概略截面圖
[0085] [圖12]本發(fā)明的導(dǎo)電性疊層體的一個(gè)方式的概略截面圖

【具體實(shí)施方式】
[0086] [第1組發(fā)明]
[0087] 對于關(guān)于疊層體的發(fā)明的第1組發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明。
[0088] 首先，圖1表示本發(fā)明疊層體的優(yōu)選的一個(gè)方式。本發(fā)明的疊層體（1)在支撐基 材（2)的至少一面上疊層疊層膜（3)。疊層膜（3)包含折射率不同的第1層（4)和第2層 (5)。其中，疊層膜（3)只要第1層與第2層的折射率不同，就沒有限定，但優(yōu)選第1層（4) 與第2層（5)相比具有較低的折射率。應(yīng)予說明，在第1層和第2層中，將具有相對低的折 射率的層稱為低折射率層，將具有相對高的折射率的層稱為高折射率層。
[0089] 另外，在本說明書中，"疊層體"是指在支撐基材的至少一面上依次具有折射率不 同的第2層和第1層的構(gòu)件。
[0090] 本發(fā)明的疊層體在支撐基材（2)的至少一面上依次具有第2層（5)、第1層（4)， 第1層（4)含有粒子X (6)，第2層（5)含有粒子Y (7)。其中，粒子X是至少具有無機(jī)粒子 部分的粒子，進(jìn)而是滿足下述特定的條件的粒子。另外，粒子Y是至少具有無機(jī)粒子部分的 粒子。
[0091] 對于本發(fā)明中使用的支撐基材、粒子X和粒子Y，以下進(jìn)行說明。
[0092] [支撐基材]
[0093] 本發(fā)明的疊層體、和利用下述第3組發(fā)明（疊層體的制造方法的發(fā)明）得到的疊 層體、以及使用這些疊層體而成的導(dǎo)電性疊層體具有支撐基材，這是重要的。作為在這些發(fā) 明中使用的支撐基材，與玻璃板相比、較優(yōu)選塑料膜。塑料膜的材料的例子包含纖維素酯 (例如三乙?；w維素、二乙?；w維素、丙?；w維素、丁?；w維素、乙?；；w維 素、硝基纖維素）、聚酰胺、聚碳酸酯、聚酯（例如聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二 醇酯、聚-1，4-環(huán)己烷二亞甲基對苯二甲酸酯、聚亞乙基-1，2-二苯氧基乙烷_4,4' -二甲 酸酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯）、聚苯乙烯（例如間同立構(gòu)聚苯乙烯）、聚烯烴（例如聚丙 烯、聚乙烯、聚甲基戊烯）、聚砜、聚醚砜、聚芳酯、聚醚酰亞胺、聚甲基丙烯酸甲酯和聚醚酮 等，其中特別優(yōu)選三乙?；w維素、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯和聚萘二甲酸乙二醇 酯。
[0094] 支撐基材的透光率優(yōu)選為80%以上100%以下，進(jìn)而優(yōu)選為86%以上100%以下。 其中，透光率是指在照射光時(shí)透過試樣的光的比例，其是可根據(jù)JIS K 7361-1(1997)進(jìn)行 測定的透明材料的透明性的指標(biāo)。作為導(dǎo)電性疊層體，其值越大越良好，如果值小，則濁度 值升高，有時(shí)產(chǎn)生圖像劣化。濁度是JIS K 7136(2000)中規(guī)定的透明材料的渾濁的指標(biāo)。 濁度越小，表示透明性越高。
[0095] 支撐基材的濁度優(yōu)選為0. 01 %以上2. 0%以下，進(jìn)而優(yōu)選0. 05%以上1.0%以下。
[0096] 支撐基材的折射率優(yōu)選為1. 4?1. 7。應(yīng)予說明，這里所說的折射率是指光從空氣 中進(jìn)入某種物質(zhì)中時(shí)，在其界面改變前進(jìn)方向的角度的比例，可以利用JIS K 7142(1996) 中規(guī)定的方法測定。
[0097] 支撐基材可含有紅外線吸收劑或紫外線吸收劑。紅外線吸收劑的含量優(yōu)選在支撐 基材的全部成分100質(zhì)量％中為0. 01質(zhì)量％以上20質(zhì)量％以下，進(jìn)而優(yōu)選為0. 05質(zhì)量％ 以上10質(zhì)量％以下?？梢栽谕该髦误w中含有惰性無機(jī)化合物的粒子作為潤滑劑。惰性 無機(jī)化合物的例子包含3102、1102、8&504、0 &0)3、滑石和高嶺土。進(jìn)而可對支撐基材實(shí)施表 面處理。
[0098] 在支撐基材的表面上也可實(shí)施各種表面處理。表面處理的例子包含藥品處理、機(jī) 械處理、電暈放電處理、火焰處理、紫外線照射處理、高頻處理、輝光放電處理、活性等離子 體處理、激光處理、混酸處理和臭氧氧化處理。其中優(yōu)選是輝光放電處理、紫外線照射處理、 電暈放電處理和火焰處理,進(jìn)而優(yōu)選是輝光放電處理、電暈放電處理和紫外線處理。
[0099] 支撐基材可以具有易粘接層、硬涂層、抗粘連層、防靜電層、紫外線吸收層、低聚物 阻擋層等的層（將這些層稱為功能性層）。
[0100] 另外，只要沒有特別說明，上述支撐基材的說明也可適用于第2組和第3組發(fā)明。
[0101] [粒子 X]
[0102] 粒子X至少具有無機(jī)粒子部分，進(jìn)而只要滿足下述的式1和式2,就沒有特別限定。 因此，粒子X可以是僅包含無機(jī)粒子部分的粒子（所謂的通常的無機(jī)粒子），也可以是進(jìn)而 具有其它部分的粒子（可列舉"由有機(jī)化合物被覆的無機(jī)粒子"、下述的"具有源于聚合物 的部分的無機(jī)粒子"等）。
[0103] 作為粒子X的無機(jī)粒子部分，優(yōu)選是選自Si, Na, K，Ca, Mg和Al中的半金屬元 素或金屬元素的氧化物、氮化物、硼化物、氟化物、碳酸鹽、硫酸鹽，更優(yōu)選是二氧化硅粒子 (SiO2)、堿金屬氟化物類（NaF，KF，NaAlF6等）、和堿土類金屬氟化物（CaF 2、MgF2等），從耐 久性、折射率、成本等方面考慮，特別優(yōu)選是二氧化硅粒子。
[0104] 該二氧化硅粒子是指含有下述組合物的粒子，所述組合物包含硅化合物、或無機(jī)、 有機(jī)硅化合物的聚合（縮合）物的任一者，作為一般例，是由SiO2等的硅氧化物導(dǎo)出的粒 子的總稱。適于粒子X的無機(jī)粒子部分的形狀沒有特別限定，但由于粒子X在第1層的填 充狀態(tài)對疊層體的表面形狀有影響，因此近似于球的形狀對于制成本發(fā)明的表面形狀是更 優(yōu)選的。
[0105] 另外，第1組發(fā)明的疊層體中的第1層所含的粒子X只要至少具有無機(jī)粒子部分、 進(jìn)而無機(jī)粒子部分的數(shù)均粒徑Dx為5nm以上25nm以下，就沒有特別限定，粒子X優(yōu)選是下 述的粒子A (源于粒子a的粒子）和/或粒子a。
[0106] 特別地，第1組發(fā)明涉及的疊層體優(yōu)選利用使用了第2組發(fā)明涉及的涂料組合物 的第3組發(fā)明涉及的制造方法而得到，S卩，粒子X優(yōu)選是下述粒子A (源于粒子a的粒子）。
[0107] 在本發(fā)明的疊層體中，粒子X的無機(jī)粒子部分的數(shù)均粒徑（Dx)為5nm以上25nm 以下是重要的。粒子X的無機(jī)粒子部分的數(shù)均粒徑（Dx)更優(yōu)選為8nm以上20nm以下， 特別優(yōu)選為IOnm以上20nm以下。其中，粒子X的無機(jī)粒子部分的數(shù)均粒徑（Dx)是指 JISZ8819-2 (2001)記載的個(gè)數(shù)基準(zhǔn)算術(shù)平均長度直徑，其是利用透射電子顯微鏡（TEM)觀 察上述疊層體的截面而得的值，其具體測定方法如下所述。
[0108] 粒子X的無機(jī)粒子部分的數(shù)均粒徑（Dx)小于5nm時(shí)，不能得到下述的本發(fā)明疊層 體的特定的表面形狀（特定的表面形狀是指滿足下述式1和式2)，因此在疊層膜（3)的表 面形成導(dǎo)電層時(shí)的退火溫度的降低效果變得不充分。另一方面，粒子X的無機(jī)粒子部分的 數(shù)均粒徑大于25nm時(shí)，疊層體的第1層的表面起伏變大，因此產(chǎn)生透明性的降低、或在疊層 膜（3)的表面形成導(dǎo)電層時(shí)的導(dǎo)電率的降低（表面電阻值的升高）。
[0109] 圖2表示粒子X(13)的無機(jī)粒子部分的數(shù)均粒徑（Dx)大于25nm的、現(xiàn)有技術(shù)的 疊層體的一個(gè)方式。另外，圖3表示在第1層不存在粒子X的、現(xiàn)有技術(shù)的疊層體的一個(gè)方 式。
[0110] 進(jìn)而對于本發(fā)明的疊層體，滿足下式1和式2是重要的。
[0111] 1. 4 彡（Lx/Dx)彡 3 ? --式 1
[0112] Slx 彡 7 ? --式 2
[0113] 本發(fā)明的疊層體優(yōu)選滿足下式1-2和式2-2,特別優(yōu)選滿足式1-3和式2-3。
[0114] 1. 5 彡（Lx/Dx)彡 2. 8 ? --式 1-2
[0115] Slx 彡 5 ? --式 2-2
[0116] 1. 6 彡（Lx/Dx)彡 2. 6 ? --式 1-3
[0117] Slx < 4 ? --式 2-3
[0118] 其中，Lx是指利用掃描型電子顯微鏡觀察第1層的表面時(shí)觀察到的、粒子X的無機(jī) 粒子部分的平均粒子中心間距離。
[0119] 圖4表示粒子X的無機(jī)粒子部分的平均粒子中心間距離的說明圖。本發(fā)明中的粒 子中心間距離是指粒子X的無機(jī)粒子部分（26)的中心、與相鄰的粒子X的無機(jī)粒子部分 (27)的中心之間的距離（28)，將該中心間距離平均化了的距離為平均粒子中心間距離Lx。 詳細(xì)的算法如下所述。
[0120] Su是指利用掃描型電子顯微鏡觀察第1層的表面時(shí)觀察到的、粒子X的無機(jī)粒子 部分的平均粒子中心間距離的標(biāo)準(zhǔn)偏差。詳細(xì)的算法如下所述。
[0121] Su的值為正值，變小時(shí)沒有問題，但現(xiàn)實(shí)情況下，1左右為下限。另外，如果大 于7,則面內(nèi)的粒子A的存在狀態(tài)變得不均一，因此引起導(dǎo)電層的密合性的降低、開口部 (defect)的增大。
[0122] 通過滿足式1和式2,可以解決上述第1課題、第2課題。通過滿足式1和式2而 可解決第1課題的原因不明確，但認(rèn)為是由于疊層體的第1層側(cè)的表面被粒子X的無機(jī)粒 子部分面內(nèi)均一地覆蓋、同時(shí)可以設(shè)置微細(xì)且面內(nèi)均一的凹凸結(jié)構(gòu)、即上述本發(fā)明的疊層 體的特定表面形狀，該凹凸結(jié)構(gòu)在疊層體表面形成導(dǎo)電層時(shí)促進(jìn)結(jié)晶化，因此即使在低的 退火溫度下也可得到高的導(dǎo)電率（低的表面低效率）和高的透光性。
[0123] 另外，可解決上述第2課題的原因也不明確，但認(rèn)為是由于上述面內(nèi)均一的凹凸 結(jié)構(gòu)導(dǎo)致與疊層體表面的導(dǎo)電層的界面部的微小散射效果。
[0124] 利用掃描型電子顯微鏡的觀察方法、和平均粒子間中心距離測定的具體方法如下 所述。
[0125] Lx/Dx的值小于1. 4時(shí)，第1層中粒子X的無機(jī)粒子部分形成過剩地填充的狀態(tài)，其 結(jié)果是部分地形成在第1層的最表面不存在粒子X的無機(jī)粒子部分的開口部，另外使由粒 子X的無機(jī)粒子部分的存在產(chǎn)生的導(dǎo)電層形成時(shí)的退火溫度降低的效果有時(shí)變得不充分。 Lx/Dx的值大于3時(shí)，由粒子X的無機(jī)粒子部分的存在產(chǎn)生的導(dǎo)電層的密合性、使導(dǎo)電層形 成時(shí)的退火溫度降低的效果有時(shí)變得不充分。
[0126] 為了滿足式1和式2,優(yōu)選使用具有數(shù)均粒徑（Dx)為5nm以上25nm以下的無機(jī)粒 子部分的粒子作為粒子X，而且使用下述第2組發(fā)明涉及的涂料組合物，進(jìn)而用第3組發(fā)明 涉及的制造方法制造。
[0127] [粒子 Y]
[0128] 粒子Y是至少具有無機(jī)粒子部分的粒子。因此粒子Y可以是僅包含無機(jī)粒子部分 的粒子（所謂的通常的無機(jī)粒子），也可以是進(jìn)而具有其它部分的粒子（可以列舉"由有機(jī) 化合物被覆的無機(jī)粒子"、或下述的"具有源于聚合物的部分的無機(jī)粒子"等）。
[0129] 粒子Y的無機(jī)粒子部分優(yōu)選是與粒子X的無機(jī)粒子部分相比為不同種類的無機(jī)粒 子。
[0130] 在本說明書中，無機(jī)粒子部分的無機(jī)粒子的"種類"由構(gòu)成無機(jī)粒子的元素的種類 決定。例如，在氧化鈦（TiO2)和將氧化鈦的氧的一部分用作為陰離子的氮置換了的摻雜氮 的氧化鈦（Ti02_xNx)中，構(gòu)成無機(jī)粒子的元素不同，因此為不同種類的無機(jī)粒子。另外，如果 是同一元素、例如僅由Zn、0構(gòu)成的無機(jī)粒子（ZnO)，即使多種粒徑不同的粒子存在，另外即 使Zn與0的組成比不同，它們也是同一種類的無機(jī)粒子。另外即使多種氧化數(shù)不同的Zn 粒子存在，只要構(gòu)成粒子的元素相同（在該例子中，只要Zn以外的元素全部相同），它們也 是相同種類的粒子。
[0131] 粒子Y的無機(jī)粒子部分沒有特別限定，優(yōu)選是金屬元素、半金屬元素的氧化物、氮 化物、硼化物、碳酸鹽、硫酸鹽，進(jìn)而優(yōu)選是選自Ga、Zr, Ti, Al, In, Zn, Sb, Sn,和Ce中的至 少一種元素的氧化物粒子。
[0132] 另外，粒子Y的無機(jī)粒子部分優(yōu)選是與粒子X的無機(jī)粒子部分相比、折射率高的 無機(jī)粒子。粒子Y的無機(jī)粒子部分具體地是選自氧化鋯（ZrO2)、氧化鈦（TiO2)、氧化鋁 (Al2O3)、氧化銦（In2O3)、氧化鋅（ZnO)、氧化錫（SnO 2)、氧化鋪（Sb2O3)、和銦錫氧化物中的至 少一種、或它們之間的固溶體、和一部元素置換、或一部元素侵入晶格間、一部元素缺損的 固溶體、或種類不同的無機(jī)粒子接合的無機(jī)粒子。粒子Y的無機(jī)粒子部分特別優(yōu)選是含有 磷的氧化錫（PTO)、含有銻的氧化錫（ATO)、含有鎵的氧化鋅（GZO)或氧化鈦（TiO2)、氧化鋯 (ZrO2)。
[0133] 粒子Y的無機(jī)粒子部分的折射率優(yōu)選為1. 55?2. 80,更優(yōu)選為1. 58?2. 50。粒 子Y的無機(jī)粒子部分的折射率小于1. 55時(shí)，所得疊層體的含有粒子Y的第2層的折射率降 低，與含有粒子X的第1層的折射率差變小，因此透射光的著色抑制效果、導(dǎo)電層的圖案化 抑制效果變得不充分，粒子Y的無機(jī)粒子部分的折射率大于2. 80時(shí)，與在第1層上形成的 導(dǎo)電層的折射率差、和第2層與支撐基材的折射率差升高，因此同樣地透射光的著色抑制 效果、導(dǎo)電層的圖案化抑制效果變得不充分。
[0134] 進(jìn)而，粒子X的無機(jī)粒子部分為二氧化硅粒子時(shí)，粒子Y的無機(jī)粒子部分特別優(yōu)選 是與該二氧化硅粒子相比、折射率高的無機(jī)粒子，作為這樣的折射率高的無機(jī)粒子，優(yōu)選使 用數(shù)均粒徑為20nm以下、且折射率為1. 60?2. 80的無機(jī)化合物。作為這樣的無機(jī)化合物 的具體例，可以列舉銻氧化物、含銻的氧化鋅、含銻的氧化錫（ATO)、含磷的氧化錫（PTO)、 含鎵的氧化鋅（GZO)、氧化鋯（ZrO2)、和/或氧化鈦（TiO2),特別地，更優(yōu)選折射率高的氧化 鈦、氧化锫。
[0135] 另外，第1組發(fā)明涉及的疊層體中的第2層所含有的粒子Y只要至少具有無機(jī)粒 子部分，就沒有特別限定，但粒子X優(yōu)選是下述的粒子A (源于粒子a的粒子）和/或粒子 B 〇
[0136] 特別地，如下述那樣，第1組發(fā)明涉及的疊層體優(yōu)選利用使用了第2組發(fā)明涉及的 涂料組合物的第3組發(fā)明涉及的制造方法來得到，S卩，粒子Y優(yōu)選是下述的粒子B (源于粒 子b的粒子）。
[0137] 接著，對于本發(fā)明的疊層體的第1層和第2層進(jìn)行說明。
[0138] 上述第1層和第2層的平均膜厚具有優(yōu)選的范圍，第一層的平均膜厚優(yōu)選為20nm 以上40nm以下，更優(yōu)選為15nm以上38nm以下，特別優(yōu)選為20nm以上36nm以下。另外， 第2層的平均膜厚優(yōu)選為30nm以上65nm以下，更優(yōu)選為35nm以上63nm以下，特別優(yōu)選為 40nm以上60nm以下。
[0139] 第1層的膜厚比20nm薄、或第2層的膜厚比30nm薄的情況下，在將本發(fā)明的疊層 體形成為導(dǎo)電性疊層體時(shí)，不易觀察到導(dǎo)電層的圖案的效果有時(shí)變得不充分。另外，第1層 的膜厚比40nm厚、或第2層的膜厚比65nm厚的情況下，本發(fā)明的疊層體的透射光的防著色 效果有時(shí)變得不充分。
[0140] 另外，第1層的平均膜厚為20nm以上40nm以下的情況下，粒子的直徑接近于膜 厚，因此橫向（與層的表面方向平行的方向）的毛細(xì)管力易于作用于粒子。其結(jié)果是在第 1層，易于形成粒子過量被填充的狀態(tài)，因此Lx/Dx的值有時(shí)小于1. 4。因此，第1層的平均 膜厚為20nm以上40nm以下的情況下，控制Lx/Dx的值、使該值為L 4以上變得特別重要。
[0141] 關(guān)于這一點(diǎn)，通過使用下述第2組發(fā)明的涂料組合物，即使為平均膜厚為20nm以 上40nm以下的薄膜，也可以將Lx/Dx的值控制為上述優(yōu)選的范圍。
[0142] 接著，圖5示出了在第1層的表面存在的開口部（22)的例子。其中，開口部 (defect)是指：利用掃描型電子顯微鏡觀察第1層的表面時(shí)，沒有粒子X的無機(jī)粒子部分 (21)、觀察到凹狀的部分，或者，由于存在與粒子X的無機(jī)粒子部分構(gòu)成元素不同的無機(jī)粒 子、因此利用掃描型電子顯微鏡得到的圖像的濃度不同的部分，將其大小用該部分的內(nèi)接 圓（80)表示時(shí)，內(nèi)接圓的直徑（內(nèi)接直徑）（the diameter of an inscribed circle)是 指粒子X的無機(jī)粒子部分（21)的數(shù)均粒徑（Dx)的3倍以上的直徑。本發(fā)明的疊層體優(yōu)選 每4 ym2有5個(gè)以下的開口部，所述開口部具有3倍以上的內(nèi)接直徑，進(jìn)而優(yōu)選有3個(gè) 以下，特別優(yōu)選有1個(gè)以下，最優(yōu)選有〇個(gè)。該測定中的利用掃描型電子顯微鏡的測量方法 如下所述。
[0143] 具有上述DX的3倍以上的內(nèi)接直徑的開口部的數(shù)目每4 y m2大于5個(gè)時(shí)，產(chǎn)生透 射光的防著色效果、不易觀察到導(dǎo)電層的圖案的效果、透明性的下降、導(dǎo)電層的導(dǎo)電率的降 低（表面電阻值的升高）。
[0144] 本發(fā)明的疊層體的由第1層與第2層形成的界面具有優(yōu)選的方式，優(yōu)選滿足下式 3和式4。
[0145] 0? 3 彡（A12/Dx)彡 I. 1 ? --式 3
[0146] 3 彡（F12/Dx)彡 15 ? --式 4
[0147] 本發(fā)明的疊層體更優(yōu)選滿足式3-2和式4-2,特別優(yōu)選滿足式3-3和式4-3。
[0148] 0? 4 彡（A12/Dx)彡 0? 9 ? --式 3-2
[0149] 4 彡（F12/Dx)彡 13 ? --式 4-2
[0150] 0? 5 彡（A12/Dx)彡 0? 8 ? --式 3-3
[0151] 5 彡（F12/Dx)彡 11 ? --式 4-3
[0152] 其中，A12是指由第1層與第2層形成的界面的輪廓曲線的振幅。F12是指由第1層 與第2層形成的界面的輪廓曲線的波長。其中，界面的輪廓曲線是指疊層體的疊層膜的第 1層與第2層的邊界線，界面的輪廓曲線的振幅、波長是指捕捉輪廓曲線（圖6的29)作為 波形，將其波動(dòng)的振動(dòng)大小的一半設(shè)為振幅（圖6的30)，將波動(dòng)的反復(fù)周期（頻率）的倒 數(shù)設(shè)為波長（圖6的31)。
[0153] 本發(fā)明的疊層體通過滿足式3和式4,可以更為減少上述第2課題、特別是觀察角 度依賴性。通過滿足式3和式4,可以減少觀察角度依賴性的原因不明確，但認(rèn)為在第1層 與第2層之間的界面部形成的折射率傾斜（梯度）區(qū)域的控制、和界面部的微小散射效果 的控制產(chǎn)生影響。
[0154] A12/Dx小于0. 3時(shí)，第1層與第2層的界面部分的粒子X和粒子Y的厚度方向的混 在區(qū)域變小，因此層厚度方向的折射率傾斜區(qū)域變小，不易看到導(dǎo)電層的圖案的效果的面 內(nèi)均一性變得不充分。另外，F(xiàn)12/Dx小于3時(shí)，不易看到導(dǎo)電層的圖案的效果的觀察角度依 賴性變小。另外，A12/Dx大于I. 1時(shí)，或F12/Dx大于15時(shí)，疊層膜的透射率降低，疊層體的透 射率降低。
[0155] 圖7表示本發(fā)明的一個(gè)方式的界面的方式。由第1層和第2層形成的界面的輪廓 曲線（38)優(yōu)選不是直線、而形成緩和的凹凸。圖8、圖9表示現(xiàn)有技術(shù)的疊層體的一個(gè)方式 的界面的方式。在圖8中，由第1層和第2層形成的界面的輪廓曲線（46)的振幅A12、波長 F12均小于本發(fā)明優(yōu)選的范圍，在圖9中，由第1層和第2層形成的界面的輪廓曲線（54)的 振幅A12、波長F12均大于本發(fā)明優(yōu)選的范圍。
[0156] 本發(fā)明的疊層體的第1層的表面的、pHlO時(shí)的4電位具有優(yōu)選的范圍，第1層的 表面的（電位優(yōu)選為-60mV以下，特別優(yōu)選為-70mV以下。
[0157] 第1層的表面的？電位的值小于_60mV時(shí)，不易使帶有負(fù)電荷的堿溶液中的氫氧 化物離子接近第1層的表面，可以提高耐堿性。第1層的表面的（電位的值小時(shí)沒有問題， 但一般其下限為-150mV左右。第1層的表面的？電位的值大于-60mV時(shí)，堿溶液易于浸 透第1層的表面，有時(shí)耐堿性變得不充分。
[0158] 其中，本發(fā)明的疊層體的第1層表面的4電位被第1層中含有的粒子X的4電 位所影響。即，為了使第1層的表面的4電位為-60mV以下，優(yōu)選選擇4電位的值為負(fù)、 且該值小的粒子X。粒子X的4電位的值在pHIO時(shí)為OmV以下，且優(yōu)選該值盡可能小。
[0159] 作為用于使本發(fā)明疊層體的第1層的表面的4電位為_60mV以下的一個(gè)方法，可 以列舉作為粒子X，將無機(jī)粒子部分為氧化鈦電位：-20mV)的粒子、和作為氧化鋯 電位：-80mV)的粒子并用的方法。即使是具有氧化鈦這樣的、（電位的值不那么小的無機(jī) 粒子部分的粒子，通過與具有氧化鋯這樣的、（電位的值非常小的無機(jī)粒子部分的粒子并 用，也可以使第1層的表面的4電位為_60mV以下。這是因?yàn)榱Ｗ覺整體的4電位可以 用各粒子的（電位乘以體積比率的值之和來表示。即，使用多種具有不同（電位的粒子， 且調(diào)節(jié)它們的體積比率，由此可以將粒子X整體的（電位和第1層表面的（電位控制為 優(yōu)選的值。
[0160] 應(yīng)予說明，使用下述的第2組發(fā)明的涂布組合物得到第1組發(fā)明的疊層體時(shí)，本發(fā) 明疊層體的第1層表面的（電位被用于形成疊層體的涂料組合物中的粒子b的（電位所 影響。因此，為了使第1層的表面的4電位為_60mV以下，優(yōu)選在涂料組合物中含有至少 1種以上的粒子b，也可以在涂料組合物中含有（電位不同的2種以上的粒子b。
[0161] 本發(fā)明疊層體的第1層表面的4電位的值，通過使用4電位的值為負(fù)且其值小 的粒子b而變小（易于為-60mV以下），通過使用4電位的值為負(fù)、但其值不那么小的粒子 b而變大（易于大于_60mV)。另外，通過將具有不同的4電位的2種以上的粒子b混合， 可以將第1層表面的（電位調(diào)節(jié)為優(yōu)選的范圍。
[0162] 為了使本發(fā)明的疊層體的第1層的表面的4電位為-60mV以下，作為本發(fā)明的涂 料組合物中的粒子b，可以列舉例如將氧化鈦電位：-20mV)和氧化鋯電位：-80mV) 并用的方法。即使是氧化鈦這樣的、（電位的值為負(fù)、且不那么小的粒子b，通過與氧化鋯 這樣的、4電位的值為負(fù)、且非常小的粒子b混合，粒子b整體的4電位為各自的4電位 乘以體積比率的值，因此通過體積比率的調(diào)節(jié)，可以將（電位調(diào)節(jié)為優(yōu)選的值，能夠?qū)⑹?用了該涂料組合物的疊層體的第1層的表面的（電位調(diào)節(jié)為優(yōu)選的值。
[0163] 本發(fā)明的疊層體如上所述，第1層的表面為特定的表面形狀（特定的表面形狀是 指滿足上述式1和式2)是重要的，而且通過使第1層和第2層的平均膜厚、第1層的表面 的開口部的每單位面積的數(shù)量、進(jìn)而第1層與第2層的界面為特定的方式（振幅、波長），可 以進(jìn)一步提商其效果。
[0164] [第1組發(fā)明涉及的疊層體的制造方法]
[0165] 得到第1組發(fā)明的疊層體的方法沒有特別限定，第1組發(fā)明的疊層體可以通過使 用下述第2組發(fā)明涉及的涂料組合物來制造而有效地得到。
[0166] 進(jìn)而，第1組發(fā)明的疊層體可以通過使用下述的第2組發(fā)明涉及的涂料組合物、利 用第3組發(fā)明涉及的制造方法而更為有效地得到。
[0167] [第2組和第3組發(fā)明]
[0168] 第2組發(fā)明是關(guān)于涂料組合物的發(fā)明。本發(fā)明的涂料組合物含有具有源于氟化合 物A的部分的聚合物（以下設(shè)為氟聚合物A)、具有無機(jī)粒子部分和源于氟聚合物A的部分 的粒子（以下設(shè)為粒子a)、具有無機(jī)粒子部分、不具有源于氟聚合物A的部分的粒子（以下 設(shè)為粒子b)、粘合劑原料、和有機(jī)溶劑，這是重要的。
[0169] 另外，本發(fā)明的涂料組合物滿足下述條件1?3是重要的。
[0170] 通過使用該涂料組合物，可以有效地得到具有優(yōu)異的特性的疊層體（例如第1組 發(fā)明涉及的疊層體）。特別地，通過使用本發(fā)明的涂料組合物、且使用下述的第3組發(fā)明的 制造方法（在支撐基材的至少一面上涂布1次后，進(jìn)行干燥的本發(fā)明的制造方法），可以有 效地得到在支撐基材上形成了具有上述特性的疊層膜的疊層體（第1組發(fā)明的疊層體）。
[0171] 另一方面，第3組發(fā)明是關(guān)于使用作為第2組發(fā)明的涂料組合物而成的疊層體的 制造方法的發(fā)明。
[0172] 作為第3組發(fā)明的疊層體的制造方法，是在上述支撐基材的至少一面上僅涂布1 次上述涂料組合物（第2組發(fā)明涉及的涂布組合物）、接著進(jìn)行干燥，由此形成包含折射率 不同的2層的疊層膜的方法。更詳細(xì)地，疊層體的制造方法，其是在支撐基材的至少一面上 依次具有折射率不同的第2層和第1層，第1層含有粒子A，第2層含有粒子B的疊層體的 制造方法，其中，在支撐基材的至少一面上涂布1次第2組發(fā)明涉及的涂料組合物，接著進(jìn) 行干燥（其中，粒子A是源于粒子a的粒子，粒子B是源于粒子b的粒子）。
[0173] S卩，通過使用第2組的涂布組合物、第3組的制造方法，盡管涂布次數(shù)為1次，但可 在支撐基材上形成疊層膜，該疊層膜具有含有粒子A或源于其的粒子a的第1層、和含有粒 子B或源于其的粒子b的第2層。
[0174] 這里，對于粒子a與粒子A的關(guān)系、和粒子b與粒子B的關(guān)系進(jìn)行說明。
[0175] 利用使用了第2組發(fā)明涉及的涂料組合物的、第3組發(fā)明的制造方法所得的疊層 體中的第1層中所含有的粒子A，是源于涂料組合物中的粒子a的粒子。即，通過將涂料組 合物中的粒子a在支撐基材上涂布、干燥，涂料組合物中所含的粘合劑原料和/或氟聚合物 A、和粒子a之間進(jìn)行反應(yīng)，形態(tài)改變等，形成粒子A。在使用不具有與粘合劑原料和/或氟 聚合物A反應(yīng)的部分的粒子作為粒子a的情況下，或在粒子a不與粘合劑原料、氟聚合物A 反應(yīng)的情況下，粒子a與粒子A完全相同。但是，如下所述，本發(fā)明中使用的粒子a具有源 于氟聚合物A的部分，因此在支撐基材上干燥時(shí)，通常與粘合劑原料反應(yīng)。
[0176] 另外，利用使用了第2組發(fā)明涉及的涂料組合物的、第3組發(fā)明的制造方法得到的 疊層體中的第2層中所含有的粒子B，是源于涂料組合物中的粒子b的粒子。即，通過將涂 料組合物中的粒子b在支撐基材上涂布、干燥，在涂料組合物中所含的粘合劑原料、和/或 粒子b之間反應(yīng)，形態(tài)改變等，形成粒子B。在使用不具有與粘合劑原料反應(yīng)的部分的粒子 作為粒子b的情況下、或在粒子b不與粘合劑原料反應(yīng)的情況下，粒子b與粒子B完全相同。 但是，如下所述，粒子b不具有源于氟聚合物A的部分，因此在支撐基材上干燥時(shí)，通常不與 粘合劑原料反應(yīng)。
[0177] [第2組和第3組發(fā)明中使用的涂料組合物]
[0178] 以下詳細(xì)地說明第2組和第3組發(fā)明中使用的涂料組合物的構(gòu)成要素。
[0179] [氟聚合物A]
[0180] 氟聚合物A是含有下述的源于氟化合物A的部分和源于化合物D的部分的聚合 物。即，氟聚合物A是可以通過使氟化合物A與化合物D反應(yīng)而得到的聚合物。
[0181] 另外，從使用本發(fā)明的涂料組合物形成的疊層體的耐堿性提高的角度考慮，氟聚 合物A優(yōu)選是進(jìn)而具有源于化合物E的部分的聚合物。即，更優(yōu)選的氟聚合物A是通過使 氟化合物A、化合物D、和化合物E反應(yīng)而得的聚合物，這樣的氟聚合物A是具有源于氟化合 物A的部分、源于化合物D的部分、和源于化合物E的部分的聚合物。
[0182] [氟化合物A]
[0183] 接著對于氟化合物A進(jìn)行說明。氟化合物A是以下通式（1)所示的化合物。
[0184] 氟化合物 A A1-R2-Rfl 通式（1)
[0185] 其中，Rf 1是指選自氟烷基、氟氧基烷基、氟烯基、氟烷烴二基、和氟氧基烷烴二基中 的至少1種取代基。R1是指反應(yīng)性部分（reaction group)。R2是指碳原子數(shù)為1?9的 任一者的亞烷基、或碳原子數(shù)為1?9的任一者的亞烷基醚基。應(yīng)予說明，Rfl、R1、R 2可在 結(jié)構(gòu)中具有側(cè)鏈。
[0186] 其中，Rfl表不的氣燒基、氣氧基燒基、氣稀基、氣燒煙-基、氣氧基燒煙-基是指燒 基、氧基燒基、稀基、燒煙-基、氧基燒煙-基所具有的氧的一部分、或全部取代為氣的取代 基，均是主要由氟原子和碳原子構(gòu)成的取代基，在結(jié)構(gòu)中可以具有分支，也可以形成這些部 分多個(gè)連接的二聚物、三聚物、低聚物、聚合物結(jié)構(gòu)。
[0187] 其中，R1表示的反應(yīng)性部分是指利用熱或光等的外部能量與其它成分反應(yīng)的部 分。作為這樣的反應(yīng)性部分，從反應(yīng)性的角度考慮，可以列舉烷氧基甲硅烷基和烷氧基甲硅 烷基水解了的硅醇基、或羧基、羥基、環(huán)氧基、乙烯基、烯丙基、丙烯酰基、甲基丙烯?；?、丙 烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基等，從反應(yīng)性、操作性的角度考慮，優(yōu)選是烷氧基甲硅烷基、甲硅 烷基醚基或硅醇基、環(huán)氧基、丙烯酰基、甲基丙烯?；?、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基。
[0188] 作為氟化合物A的具體例，可以列舉3, 3, 3-三氟丙基三甲氧基硅烷、3, 3, 3-三 氣丙基二乙氧基娃燒、3, 3, 3-二氣丙基二異丙氧基娃燒、3, 3, 3-二氣丙基二氣娃燒、3, 3， 3-二氟丙基二異氰酸酯基娃燒、2-全氟半基二甲氧基娃燒、2-全氟半基乙基二乙氧基娃 燒、全氟半基乙基二異丙氧基娃燒、2-全氟半基乙基二氯娃燒、2-全氟半基異氰酸酯基 硅烷、丙烯酸2, 2, 2-三氟乙酯、丙烯酸2, 2, 3, 3, 3-五氟丙酯、丙烯酸2-全氟丁基乙酯、丙 烯酸3-全氟丁基-2-羥基丙酯、丙烯酸2-全氟己基乙酯、丙烯酸3-全氟己基-2-羥基丙 酯、丙烯酸2-全氟辛基乙酯、丙烯酸3-全氟辛基-2-羥基丙酯、丙烯酸2-全氟癸基乙酯、丙 烯酸2-全氟-3-甲基丁基乙酯、丙烯酸3-全氟-3-甲氧基丁基-2-羥基丙酯、丙烯酸2-全 氟-5-甲基己基乙酯、丙烯酸3-全氟-5-甲基己基-2-羥基丙酯、丙烯酸2-全氟-7-甲 基辛基-2-羥基丙酯、丙烯酸四氟丙酯、丙烯酸八氟戊酯、丙烯酸十二氟庚酯、丙烯酸十六 氟壬酯、丙烯酸六氟丁酯、甲基丙烯酸2, 2, 2-三氟乙酯、甲基丙烯酸2, 2, 3, 3, 3-五氟丙酯、 甲基丙烯酸2-全氟丁基乙酯、甲基丙烯酸3-全氟丁基-2-羥基丙酯、甲基丙烯酸2-全氟 辛基乙酯、甲基丙烯酸3-全氟辛基-2-羥基丙酯、甲基丙烯酸2-全氟癸基乙酯、甲基丙烯 酸2-全氟-3-甲基丁基乙酯、甲基丙烯酸3-全氟-3-甲基丁基-2-羥基丙酯、甲基丙烯 酸2-全氟-5-甲基己基乙酯、甲基丙烯酸3-全氟-5-甲基己基-2-羥基丙酯、甲基丙烯 酸2-全氟-7-甲基辛基乙酯、甲基丙烯酸3-全氟-7-甲基辛基乙酯、甲基丙烯酸四氟丙 酯、甲基丙烯酸八氟戊酯、甲基丙烯酸八氟戊酯、甲基丙烯酸十二氟庚酯、甲基丙烯酸十六 氟壬酯、甲基丙烯酸1-三氟甲基三氟乙酯、甲基丙烯酸六氟丁酯、三丙烯酰基-十七氟壬烯 基-季戊四醇等。
[0189] 進(jìn)而，氟化合物A從不會(huì)由環(huán)境中的分解、或代謝而生成下述PFOA等的環(huán)境影響 的方面考慮，優(yōu)選是通式（1)所示的化合物、且通式（3)所示的化合物。
[0190] Rf2-X-OCOCH = CH2 ? --通式（3)
[0191] 其中，Rf2是指碳原子數(shù)為4?6的任一者的直鏈狀的全氟烷基。X是指碳原子數(shù) 為4?8的任一者的亞烷基。通式（3)所示的氟化合物A更優(yōu)選Rf2是碳數(shù)為6的直鏈狀 的全氟烷基、X是碳數(shù)為6的直鏈狀的亞烷基。
[0192] 應(yīng)予說明，PFOA是PerFluoroOctanoic Acid的簡寫，該物質(zhì)根據(jù)最近的研究 結(jié)果（EPA 。一卜 "PREUMINARY RISK ASSESSMENT OF THE DEVELOPMENTAL TOXICITY ASSOCIATED WITH EXPOSURE TO PERFLU0R00CTAN0IC ACID AND ITS SALTS"（http ://www. epa. gov/opptintr/pfoa/pfoara.pdf))等，對環(huán)境產(chǎn)生負(fù)荷的擔(dān)心是清楚的，發(fā)表了 2003 年4月14日EPA(美國環(huán)境保護(hù)局）強(qiáng)化科學(xué)的調(diào)查。
[0193] 另一方面，F(xiàn)ederal Register (FR Vol. 68, No. 73/April 16, 2003 [FRL-2303-8]) (http://www.epa.gov/opptintr/pfoa/pfoafr.pdfhEPA Environmental News FOR RELEASE :M0NDAY APRIL 14,2003EPA INTENSIFIES SCIENTIFIC INVESTIGATION OF A CHEMICAL PROCESSING AID(http://www. epa.gov/opptintr/pfoa/pfoaprs. pdf)或 EPA OPPT FACT SHEET April 14,2003(http://www. epa.gov/opptintr/pfoa/pfoafacts. pdf) 公布了具有PerFluoroOctanoic部分的"于口 7-"通過分解或代謝，具有形成PFOA的可能 性，由此不含有具有PerFluoroOctanoic部分的"亍口 7-"在氟化合物的使用中被要求。
[0194] 滿足通式⑴和通式（3)這兩者的氟化合物A的具體例有丙烯酸4-全氟丁基-丁 酯、丙烯酸4-全氟己基-丁酯、丙烯酸6-全氟丁基-己酯、丙烯酸6-全氟己基-己酯、丙 烯酸8-全氟丁基-辛酯、丙烯酸8-全氟己基-辛酯等。
[0195] [化合物D]
[0196] 接著對于化合物D進(jìn)行說明?；衔顳是上述通式（2)所示的化合物。另外，化 合物D是指不含氟化合物A中的特征的Rfl、至少具有可與氟化合物A反應(yīng)的反應(yīng)性部分、 和可與二氧化硅粒子等粒子反應(yīng)的部分（通式（2)中的"Si-OR6"）的化合物。
[0197] R3-R4-SiR5nl (OR6) 3_nl. --通式（2)
[0198] 其中，R3是指反應(yīng)性部分，其定義與R1同樣。R 4是指碳原子數(shù)為1?6的任一者 的亞烷基、或碳原子數(shù)為1?6的任一者的亞烷基醚基。R5、R6表示氫、或碳原子數(shù)為1? 4的任一者的烷基。nl是指0?2的整數(shù)。
[0199] 該化合物D的具體例可以列舉包含丙烯酰氧基乙基三甲氧基硅烷、丙烯酰氧基丙 基三甲氧基硅烷、丙烯酰氧基丁基三甲氧基硅烷、丙烯酰氧基戊基三甲氧基硅烷、丙烯酰氧 基己基三甲氧基硅烷、丙烯酰氧基庚基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基乙基三甲氧基硅烷、 甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丁基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基 己基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基庚基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧 基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷和這些化合物中的甲氧基被其它的烷氧基 和羥基置換了的化合物等。
[0200][化合物E]
[0201] 接著對于化合物E進(jìn)行說明。化合物E為通式（4)所示的化合物。即，是指具有 可與氟化合物A反應(yīng)的反應(yīng)性部分、和可與化合物D反應(yīng)的反應(yīng)性部分的化合物。
[0202] (R7)n2-(R8)n3* --通式（4)
[0203] 其中，R7是指反應(yīng)性部分，其定義與R1同樣。
[0204] R8是指碳原子數(shù)為1?6的任一者的亞烷基、碳原子數(shù)為1?6的任一者的羥基 烷基、碳原子數(shù)為1?6的任一者的烷氧基、碳原子數(shù)為1?3的任一者的亞烷基醚基、碳 原子數(shù)為1?5的任一者的多元醇衍生物、碳原子數(shù)為1?12的任一者的羧酸衍生物、碳 原子數(shù)為1?6的任一者的酰胺衍生物、或雙酚衍生物。其中，n2是指1?3的整數(shù)，n3是 指1?10的整數(shù)。
[0205] 該化合物E的具體例可以列舉季戊四醇（單、二、三）（甲基）丙烯酸酯、二季戊四 醇（單、二、三）（甲基）丙烯酸酯、三羥甲基丙烷（單、二、三）（甲基）丙烯酸酯、新戊二醇 二（甲基）丙烯酸酯聚丙二醇（單、二）（甲基）丙烯酸酯、聚乙二醇（單、二）（甲基）丙 烯酸酯、2-羥基乙基（甲基）丙烯酸酯、2-羥基丙基（甲基）丙烯酸酯、2-羥基丁基（甲 基）丙烯酸酯、丙烯?；鶈徇?、二甲基丙烯酰胺、羥基乙基丙烯酰胺、二乙基丙烯酰胺
[0206] 改性雙酚A(F)二（甲基）丙烯酸酯、2_(甲基）丙烯酰氧基乙基琥珀酸、2-丙烯 酰氧基乙基六氫苯二甲酸、2-丙烯酰氧基乙基鄰苯二甲酸、2-丙烯酰氧基乙基-2-羥基乙 基鄰苯二甲酸、S-戊內(nèi)酯（甲基）丙烯酸酯、Y-丁內(nèi)酯（甲基）丙烯酸酯、￠-丙內(nèi)酯 (甲基）丙烯酸酯等。
[0207] 應(yīng)予說明，如下述這樣，利用第1組?第3組發(fā)明得到的疊層體通過在疊層體的第 1層上形成導(dǎo)電層，可以得到下述的導(dǎo)電性疊層體。該導(dǎo)電性疊層體的用途多種多樣，但多 數(shù)用途中需要將導(dǎo)電層加工為需要形狀的圖案化。一般地，導(dǎo)電層的圖案化可通過將在導(dǎo) 電性疊層體的第1層上均一形成的導(dǎo)電層進(jìn)行蝕刻處理，由此除去導(dǎo)電層的不需要部分來 進(jìn)行。在該蝕刻步驟中，多數(shù)情況下使用堿溶液，因此在除去導(dǎo)電層的不需要部分時(shí)，經(jīng)歷 了疊層體的表面暴露于堿溶液中的步驟，從而疊層體優(yōu)選具有充分的耐堿性。
[0208] 相對于此，本發(fā)明的涂料組合物如上所述含有氟聚合物A、粒子a，因此，使用本發(fā) 明的涂料組合物、利用本發(fā)明的制造方法形成的疊層體由于氟聚合物A和粒子A形成在第1 層內(nèi)均一分散的層，從而可得到牢固的疊層體。因此，可得到需要的耐堿性，但為了對應(yīng)于 蝕刻處理步驟的高度化，有時(shí)要求進(jìn)一步高度的耐堿性。因此，本發(fā)明的涂料組合物優(yōu)選氟 聚合物A是進(jìn)而具有源于化合物E的部分的聚合物。
[0209] 另外，化合物E優(yōu)選下述定義的堿緩沖能力為2ml以上。其中，堿緩沖能力是指對 于使用異丙基醇=H2O = 9 :1 (質(zhì)量基準(zhǔn)）的混合液將化合物E稀釋為5質(zhì)量％的溶液100g， 使利用JIS Z8802(2011)中記載的使用了玻璃電極的pH測定方法測定的25°C的pH為pH9 時(shí)所需要的NaOH (0. lmol/1)的需要量（ml)。化合物E優(yōu)選堿緩沖能力為2ml以上，特別優(yōu) 選為3ml以上。如果化合物E的堿緩沖能力為2ml以上，則是高的，沒有特別的問題，但一 般來說，50ml左右為上限?；衔顴的堿緩沖能力為2ml以上時(shí)，可以賦予使用本發(fā)明的涂 料組合物形成的疊層體堿緩沖能力，其結(jié)果是疊層體的耐堿性提高，所述本發(fā)明的涂料組 合物由含有具有源于這樣的化合物E的部分的氟聚合物A的本發(fā)明涂料組合物形成。
[0210] 應(yīng)予說明，優(yōu)選上述化合物E的通式（4)的R8為碳原子數(shù)為1?12的任一者的 羧酸衍生物，其中特別優(yōu)選內(nèi)酯環(huán)。內(nèi)酯環(huán)是指羥基酸在分子內(nèi)存在的羧基與羥基之間進(jìn) 行脫水縮合而形成了環(huán)狀酯的物質(zhì)。內(nèi)酯環(huán)在堿存在下開環(huán)而形成羥基酸。因此，通過使 化合物E的R8為內(nèi)酯環(huán)，由于開環(huán)時(shí)的堿消耗和作為羥基酸的功能，顯示高的堿緩沖能力。
[0211] 堿緩沖能力為2ml以上的化合物E的具體例可以列舉季戊四醇（單、二、三）（甲 基）丙烯酸酯、2-羥基乙基（甲基）丙烯酸酯、2-羥基丙基（甲基）丙烯酸酯、2-羥基丁 基（甲基）丙烯酸酯、2_(甲基）丙烯酰氧基乙基琥珀酸、2-丙烯酰氧基乙基六氫鄰苯二甲 酸、2-丙烯酰氧基乙基鄰苯二甲酸、2-丙烯酰氧基乙基-2-羥基乙基鄰苯二甲酸、S -戊內(nèi) 酯（甲基）丙烯酸酯、Y-丁內(nèi)酯（甲基）丙烯酸酯、￠-丙內(nèi)酯（甲基）丙烯酸酯等，進(jìn)而 優(yōu)選的化合物E的具體例可以列舉S-戊內(nèi)酯（甲基）丙烯酸酯、Y-丁內(nèi)酯（甲基）丙 烯酸酯、￠-丙內(nèi)酯（甲基）丙烯酸酯等。
[0212] [粒子a和粒子A]
[0213] 粒子a是具有無機(jī)粒子部分和源于氟聚合物A的部分的粒子。作為粒子a的無機(jī) 粒子部分，優(yōu)選是選自Si,Na,K，Ca,Mg和Al中的半金屬元素或金屬元素的氧化物、氮化物、 硼化物、氟化物、碳酸鹽、硫酸鹽，更優(yōu)選是二氧化硅粒子（SiO2)、堿金屬氟化物類（NaF，KF， NaAlF6等）、和堿土類金屬氟化物（CaF2、MgF2等），從耐久性、折射率、成本等的角度考慮，特 別優(yōu)選是二氧化硅粒子。
[0214] 該二氧化硅粒子是指含有包含硅化合物、或無機(jī)、有機(jī)硅化合物的聚合（縮合）物 的任一者的組合物的粒子，作為一般例，是由SiO2等的硅氧化物衍生的粒子的總稱。適合于 粒子a的無機(jī)粒子部分的形狀沒有特別限定，粒子A (如果是第1組發(fā)明，為粒子X)在第1 層中的填充狀態(tài)影響到疊層體的表面形狀，因此接近于球的形狀對于制成本發(fā)明的表面形 狀是更優(yōu)選的。
[0215] 接著，對于本發(fā)明涂料組合物中的粒子a和氟聚合物A進(jìn)行說明。粒子a不僅具 有無機(jī)粒子部分、而且具有源于氟聚合物A的部分，這是重要的。因此，粒子a可以通過使 上述無機(jī)粒子、特別是二氧化硅等的無機(jī)粒子、與氟聚合物A反應(yīng)等、引入源于氟聚合物A 的部分而得到。
[0216] 這里，"引入"是指源于氟聚合物A的部分與無機(jī)粒子部分進(jìn)行了化學(xué)鍵合（含有 共價(jià)鍵、氫鍵、離子鍵、范德華鍵、疏水鍵等）、吸附（含有物理吸附、化學(xué)吸附）的狀態(tài)，特別 優(yōu)選進(jìn)行共價(jià)鍵合。
[0217] 另外，粒子A是指源于粒子a的粒子，因此只要不特別說明，粒子a的說明對于粒 子A也成立。
[0218] [氟聚合物A的制造方法、和粒子a的制造方法]
[0219] 接著，對于氟聚合物A的制造方法、和利用了使氟聚合物A與無機(jī)粒子反應(yīng)的粒子 a的制造方法進(jìn)行說明。
[0220] 氟聚合物A的制造方法、和粒子a的制造方法沒有特別限定，可以是以下1)或2) 的方法、或兩者的組合的任一者。
[0221] 1)將氟化合物A與化合物D進(jìn)行聚合而制作氟聚合物A，進(jìn)行使該氟聚合物A與 無機(jī)粒子反應(yīng)的操作，得到粒子a。
[0222] 2)在無機(jī)粒子的存在下將氟化合物A與化合物D聚合而得到氟聚合物A，由此一 邊將氟聚合物A聚合，一邊同時(shí)地使氟聚合物A的一部分與無機(jī)粒子反應(yīng)，由此也得到粒子 B 〇
[0223] 對于1)的情況，利用與反應(yīng)性部分的結(jié)構(gòu)相適應(yīng)的方法，將氟化合物A的反應(yīng)性 部分和化合物D的反應(yīng)性部分進(jìn)行聚合。例如氟化合物A的反應(yīng)性部分和化合物D的反應(yīng) 性部分都為（甲基）丙烯酸酯時(shí)，使用自由基聚合引發(fā)劑進(jìn)行自由基加成聚合；氟化合物A 的反應(yīng)性部分和化合物D的反應(yīng)性部分都為烷氧基甲硅烷基時(shí)，使用酸或堿催化劑進(jìn)行硅 醇縮合反應(yīng)。接著將氟聚合物A引入無機(jī)粒子。具體地，使用氟聚合物A中的源于化合物 D的部分具有的、可與粒子反應(yīng)的部分（即，是指通式（2)中的"Si-OR6"），適當(dāng)根據(jù)需要添 加催化劑，或根據(jù)需要使用機(jī)械分散等的工序，在粒子的表面引入。
[0224] 對于2)的情況，需要在無機(jī)粒子的存在下將氟化合物A和化合物D聚合，但對于 各自的添加順序，沒有特別限定。即，可使無機(jī)粒子和化合物D反應(yīng)后，添加氟化合物A并 使其反應(yīng)，或可以一邊使氟化合物A和化合物D反應(yīng)、一邊同時(shí)地與無機(jī)粒子反應(yīng)。
[0225] 另外，作為更優(yōu)選的氟聚合物A的制造方法、和更優(yōu)選的粒子a的制造方法，可以 列舉例如以下3)或4)的方法、或兩者的組合。
[0226] 3)將氟化合物A、化合物D、和化合物E聚合而制作氟聚合物A，進(jìn)行使該氟聚合物 A與無機(jī)粒子反應(yīng)的操作，得到粒子a。
[0227] 4)在無機(jī)粒子的存在下、將氟化合物A、化合物D、和化合物E聚合而得到氟聚合物 A，由此一邊將氟聚合物A聚合、一邊同時(shí)地使氟聚合物A的一部分與無機(jī)粒子反應(yīng)，從而也 可得到粒子a。
[0228] 對于3)的情況，利用與各反應(yīng)性部分的結(jié)構(gòu)相適合的方法，將氟化合物A的反應(yīng) 性部分、化合物D的反應(yīng)性部分、和化合物E的反應(yīng)性部分聚合。例如氟化合物A的反應(yīng)性 部分、化合物D的反應(yīng)性部分、和化合物E的反應(yīng)性部分都為（甲基）丙烯酸酯時(shí)，可以使 用利用自由基聚合引發(fā)劑進(jìn)行自由基加成聚合的方法。氟化合物A的反應(yīng)性部分、化合物 D的反應(yīng)性部分、和化合物E的反應(yīng)性部分都為烷氧基甲硅烷基時(shí)，可以使用利用酸或堿催 化劑進(jìn)行硅醇縮合反應(yīng)的方法。另外，可使氟化合物A、化合物D、和化合物E同時(shí)反應(yīng)，或者 可先使任意的2種化合物反應(yīng)，然后再與剩余的化合物反應(yīng)。進(jìn)而即使在氟化合物A的反 應(yīng)性部分、化合物D的反應(yīng)性部分、和化合物E的反應(yīng)性部分完全不同的情況下，利用與各 反應(yīng)性部分的結(jié)構(gòu)相適合的方法，也可以使其同時(shí)反應(yīng)，或者先使任意的2種化合物反應(yīng)、 然后再使剩余的化合物反應(yīng)。
[0229] 接著，將氟聚合物A引入無機(jī)粒子。具體地，使用氟聚合物A中的源于化合物D的 部分具有的、可與粒子反應(yīng)的部分（即、是指通式（2)中的"Si-OR6"），適當(dāng)根據(jù)需要添加 催化劑、或根據(jù)需要使用機(jī)械分散等的工序，引入到粒子的表面。
[0230] 對于4)的情況，在無機(jī)粒子的存在下，需要將氟化合物A、化合物D、和化合物E聚 合，但對于各自的添加順序，沒有特別限定。即，可以使無機(jī)粒子和化合物D反應(yīng)后，添加氟 化合物A和化合物E進(jìn)行反應(yīng)，或者一邊使氟化合物A、化合物D、和化合物E反應(yīng)、一邊同 時(shí)地還與無機(jī)粒子反應(yīng)。
[0231 ][粒子b和粒子B]
[0232] 粒子b的無機(jī)粒子部分優(yōu)選是與粒子a的無機(jī)粒子部分不同種類的無機(jī)粒子。粒 子b的無機(jī)粒子部分沒有特別限定，優(yōu)選是金屬元素、半金屬元素的氧化物、氮化物、硼化 物、碳酸鹽、硫酸鹽，進(jìn)而優(yōu)選是選自Ga、Zr，Ti, Al, In, Zn, Sb, Sn,和Ce中的至少一種元素 的氧化物粒子。
[0233] 另外，粒子b的無機(jī)粒子部分優(yōu)選是與粒子a的無機(jī)粒子部分相比，折射率高的 無機(jī)粒子。粒子b的無機(jī)粒子部分具體地是選自氧化鋯（ZrO2)、氧化鈦（TiO2)、氧化鋁 (Al2O3)、氧化銦（In2O3)、氧化鋅（ZnO)、氧化錫（SnO 2)、氧化鋪（Sb2O3)、和銦錫氧化物中的至 少一種、或它們之間的固溶體、和將一部分元素置換、或一部分元素侵入晶格間、一部分元 素缺損了的固溶體、或種類不同的無機(jī)粒子接合了的無機(jī)粒子。粒子b特別優(yōu)選是含磷的 氧化錫（PTO)、含銻的氧化錫（ATO)、含鎵的氧化鋅（GZO)、氧化鈦（TiO2)、氧化鋯（ZrO2)。
[0234] 粒子b的無機(jī)粒子部分的折射率優(yōu)選為1. 55?2. 80,更優(yōu)選為1. 58?2. 50。粒 子b的無機(jī)粒子部分的折射率小于1. 55時(shí)，所得疊層體的含有粒子B (如果是第1組發(fā)明， 則含有粒子Y)的第2層的折射率降低，與含有粒子X或粒子A的第1層的折射率差變小， 因此透射光的著色抑制效果、或?qū)щ妼拥膱D案化抑制效果變得不充分，粒子b的無機(jī)粒子 部分的折射率大于2. 80時(shí)，與第1層上形成的導(dǎo)電層的折射率差、和第2層與支撐基材的 折射率差升高，因此同樣地，透射光的著色抑制效果、或?qū)щ妼拥膱D案化抑制效果變得不充 分。
[0235] 進(jìn)而，在利用本發(fā)明的制造方法得到的疊層體中，粒子a的無機(jī)粒子部分為二氧 化硅粒子時(shí)，粒子b的無機(jī)粒子部分特別優(yōu)選是折射率比該二氧化硅粒子高的無機(jī)粒子， 作為這樣的折射率高的無機(jī)粒子，優(yōu)選使用數(shù)均粒徑為20nm以下、且折射率為1. 60?2. 80 的無機(jī)化合物。作為那樣的無機(jī)化合物的具體例，可列舉銻氧化物、含銻的氧化鋅、含銻的 氧化錫（ATO)、含有磷的氧化錫（PTO)、含有鎵的氧化鋅（GZO)、氧化鋯（ZrO2)、和/或氧化 鈦（TiO2)，特別地，更優(yōu)選是折射率高的氧化鈦、氧化鋯。
[0236] 另外，粒子B是指源于粒子b的粒子，因此只要沒有特別的說明，粒子b的說明對 于粒子B也成立。例如，粒子B的無機(jī)粒子部分優(yōu)選是與粒子A的無機(jī)粒子不同種類的無 機(jī)粒子，粒子B的無機(jī)粒子部分優(yōu)選是與粒子A的無機(jī)粒子部分相比、折射率較高的無機(jī)粒 子。
[0237] [粘合劑原料]
[0238] 本發(fā)明的涂料組合物需要含有粘合劑原料。其中，在本說明書中，將涂料組合物中 所含的粘合劑表示為"粘合劑原料"、將疊層體的疊層膜中所含的粘合劑表示為"粘合劑"， 作為粘合劑，也有粘合劑原料直接作為粘合劑存在的情況（即，也包含涂料組合物的粘合 劑原料以其原有的形式作為疊層膜中的粘合劑存在的方式）。
[0239] 作為粘合劑原料，沒有特別限定，從制造性的角度考慮，優(yōu)選是可利用熱和/或 活性能量射線等而固化的粘合劑原料，粘合劑原料可以是一種，也可以將兩種以上混合使 用。另外從將粒子保持在膜中的角度考慮，優(yōu)選是具有上述的反應(yīng)性部位、即分子中具有烷 氧基甲娃燒基、燒氧基甲娃燒基水解的娃醇基、竣基、輕基、環(huán)氧基、乙稀基、稀丙基、丙稀醜 基、甲基丙烯?；⒈Ｑ趸?、甲基丙烯酰氧基的粘合劑原料。
[0240] 作為這樣的粘合劑原料，成分中優(yōu)選使用多官能（甲基）丙烯酸酯，代表性的物質(zhì) 列舉如下。對于在1分子中具有3個(gè)以上（更優(yōu)選4個(gè)以上6個(gè)以下）的（甲基）丙烯酰 氧基的多官能丙烯酸酯和其改性聚合物、低聚物，作為具體例子，可以使用季戊四醇三（甲 基）丙烯酸酯、季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、二季戊四 醇四（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基）丙烯酸 酯、三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯己烷亞甲基二異氰酸酯聚氨酯 聚合物等。這些單體可以使用1種或?qū)?種以上混合使用。另外，作為市售的多官能丙烯 酸系組合物，可以列舉三菱b < 3 >株式會(huì)社；（商品名"夕\匕一 ^ "系列等）、長瀨產(chǎn) 業(yè)株式會(huì)社；（商品名"r于=一系列等）、新中村株式會(huì)社；（商品名"NK $ 7 T >"系 列等）、大日本4 >々化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社；（商品名"UNIDIC"等）、東亞合成化學(xué)工業(yè)株式 會(huì)社；（" 7 口 = 77，，系列等）、日本油脂株式會(huì)社；（" b ^ -，，系列等）、日本化藥 株式會(huì)社；（商品名"KAYARAD"系列等）、共榮社化學(xué)株式會(huì)社；（商品名" 7 4卜$ 7 T 系列等）等，可以利用這些產(chǎn)品。
[0241] [有機(jī)溶劑]
[0242] 本發(fā)明的涂料組合物除了上述氟聚合物A、粒子a、粒子b、粘合劑原料之外、還需 要含有有機(jī)溶劑。通過含有有機(jī)溶劑，涂布時(shí)形成合適的流動(dòng)性，由此可以使涂膜的膜厚均 勻，另外可以確保粒子的運(yùn)動(dòng)性，從而表面移行性變得優(yōu)良，可表現(xiàn)良好的特性，從而是優(yōu) 選的。
[0243] 有機(jī)溶劑只要是氟聚合物A、粒子a、粒子b、粘合劑原料均一地溶解、或分散的溶 齊U，就沒有特別限定，通常優(yōu)選是常壓下的沸點(diǎn)為250°C以下的有機(jī)溶劑。具體地，可以使用 醇類、酮類、醚類、酯類、烴類、酰胺類、含氟化合物類等。這些有機(jī)溶劑可以使用1種或?qū)? 種以上組合使用。
[0244] 作為醇類，可以列舉例如甲醇、乙醇、異丙醇、異丁醇、正丁醇、叔丁醇、乙氧基乙 醇、丁氧基乙醇、二甘醇單乙醚、芐醇、苯乙醇等。作為酮類，可以列舉例如丙酮、甲基乙基 酮、甲基異丁基酮、環(huán)己酮等。作為醚類，可以列舉例如乙二醇單乙醚、乙二醇單丁醚、丙二 醇單乙醚乙酸酯等。作為酯類，可以列舉例如乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、乙酰乙酸甲 酯、乙酰乙酸乙酯等。作為芳香族類，可以列舉例如甲苯、二甲苯等。作為酰胺類，可以列舉 例如N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等。
[0245] 另外，本發(fā)明的涂料組合物滿足以下全部的條件1至條件3是重要的。
[0246] (條件1):粒子a中的源于氟聚合物A的部分、氟化合物A、和氟聚合物A的合計(jì)、 與粘合劑原料的質(zhì)量比為25 :75?55 :45。
[0247] 應(yīng)予說明，關(guān)于條件1，本發(fā)明的涂料組合物可含有氟化合物A，另外也可不含有， 兩者都可以，但從涂膜的流平的角度考慮，優(yōu)選本發(fā)明的涂料組合物含有氟化合物A。
[0248] 條件1的、粒子a中的源于氟聚合物A的部分、氟化合物A、和氟聚合物A的合計(jì)、 與粘合劑原料的質(zhì)量比優(yōu)選為28 :72?53 :47,更優(yōu)選為30 :70?51 :49。粒子a中的源 于氟聚合物A的部分、氟化合物A、和氟聚合物A的合計(jì)比25小時(shí)，與粒子a相容的成分少， 因此有時(shí)不能充分產(chǎn)生粒子a在干燥步驟中自發(fā)地向表面?zhèn)纫苿?dòng)的現(xiàn)象（以下將其稱為表 面移行性）。粒子a中的源于氟聚合物A的部分、氟化合物A、和氟聚合物A的合計(jì)大于55 時(shí)，由于源于氟化合物A的部分之間的凝集力，導(dǎo)致有時(shí)不能充分形成均一的膜。
[0249] (條件2):氟聚合物A和粒子a中的源于氟聚合物A的部分的合計(jì)、與粒子a中的 源于氟聚合物A的部分的質(zhì)量比為10 :90?87 :13。
[0250] 其中，條件2的氟聚合物A和粒子a中的源于氟聚合物A的部分的合計(jì)、與粒子a 中的源于氟聚合物A的部分的質(zhì)量比優(yōu)選為12 :88?85 :15,更優(yōu)選為15 :85?80 :20。對 于條件2,粒子a中的源于氟聚合物A的部分的比例小于13時(shí)、或粒子a中的源于氟聚合物 A的部分的比例大于90時(shí)，有表面移行性降低的情況，有不能充分形成均勻的膜的情況。
[0251] (條件3):氟聚合物A和粒子a中的源于氟聚合物A的部分的合計(jì)、與氟聚合物A 中的源于氟化合物A的部分的質(zhì)量比為20 :80?92 :8。
[0252] 其中，條件3的、氟聚合物A和粒子a中的源于氟聚合物A的部分的合計(jì)、與氟聚 合物A中的源于氟化合物A的部分的質(zhì)量比優(yōu)選為25 :75?85 :15,更優(yōu)選為30 :70?82 : 18。氟聚合物A中的源于氟化合物A的部分的比例小于8時(shí)，有表面移行性降低的情況。氟 聚合物A中的源于氟化合物A的部分的比例大于80時(shí)，引入到粒子a中的氟化合物A變得 過量，有時(shí)產(chǎn)生氟化合物之間的凝集，不能充分地形成均一的膜。
[0253] 另外，在上述（條件1)?條件（3)中，"粒子a中的源于氟聚合物A的部分"表示 存在于涂料組合物中的粒子a中的源于氟聚合物A的部分。
[0254] 另外，"氟化合物A"表示在涂料組合物中游離、存在的氟化合物A。
[0255] 另外，"氟聚合物A"表示在涂料組合物中游離、存在的氟聚合物A。
[0256] 另外，"氟聚合物A中的氟化合物A"表示"氟聚合物A"（在涂料組合物中游離、存 在的氟聚合物A)中的源于氟化合物A的部分、和"粒子a中的源于氟聚合物A的部分"（涂 料組合物中存在的粒子a中的源于氟聚合物A的部分）中的源于氟化合物A的部分的合計(jì)。
[0257] 對于氟化合物A、氟聚合物A的質(zhì)量，可以通過將制備涂料組合物時(shí)的各成分的加 料量來求得，或者，可以通過從作為涂料組合物的制備時(shí)的中間材料的含有粒子a和氟聚 合物A的混合液、或涂料組合物中將粒子a、粒子b用離心分離等進(jìn)行分離，將液體成分進(jìn)行 氣相色譜分析，求得氟化合物A的質(zhì)量，進(jìn)而可以利用重量分析、凝膠滲透色譜（GPC)法求 得氟聚合物A的質(zhì)量。
[0258] 即，氟化合物A的質(zhì)量可以利用以下的任一方法求得。
[0259] 由制備涂料組合物時(shí)的各成分的加料量，求得氟化合物A的質(zhì)量的方法。
[0260] 利用離心分離等將粒子a從作為制備涂料組合物時(shí)的中間材料的、含有粒子a和 氟聚合物A的混合液中分離，并將液體成分進(jìn)行氣相色譜分析，由此求得氟化合物A的質(zhì)量 的方法。
[0261] 利用離心分離等將粒子a和粒子b從涂料組合物中分離，將液體成分進(jìn)行氣相色 譜分析，由此求得氟化合物A的質(zhì)量的方法。
[0262] 另外，氟聚合物A的質(zhì)量可以利用以下的任一方法求得。
[0263] 將粒子a利用離心分離等從作為制備涂料組合物時(shí)的中間材料的、含有粒子a和 氟聚合物A的混合液中分離，利用液體成分的重量分析或凝膠滲透色譜（GPC)法求得氟聚 合物A的質(zhì)量的方法。
[0264] 將粒子a和粒子b利用離心分離等從涂料組合物中分離，利用液體成分的重量分 析或凝膠滲透色譜（GPC)法求得氟聚合物A的質(zhì)量的方法。
[0265] 進(jìn)而，粒子a中的源于氟聚合物A的部分的質(zhì)量可以利用以下的方法求得。
[0266] 將粒子a利用離心分離等從作為制備涂料組合物時(shí)的中間材料的含有粒子a和氟 聚合物A的混合液中分離，對于所得的粒子a，利用熒光X射線分析（XRF)求得構(gòu)成的元素 的濃度，由此可以算出源于氟聚合物A的部分的質(zhì)量。
[0267] 涂料組合物中的氟聚合物A、和粒子a中的源于氟聚合物A的部分滿足上述氟聚合 物A的條件，S卩，為至少具有氟聚合物A中的源于氟化合物A的部分和源于化合物D的部分 的聚合物是重要的。
[0268] 另外，涂料組合物中的氟聚合物A、和涂料組合物中的粒子a (的源于氟聚合物A的 部分）優(yōu)選均使用相同的（分子結(jié)構(gòu)的）氟化合物A來得到。即，涂料組合物中的氟聚合 物A、和涂料組合物中的粒子a(的源于氟聚合物A的部分）優(yōu)選均具有源于相同的（分子 結(jié)構(gòu)的）氟化合物A的部分。
[0269] 另一方面，雖然涂料組合物中的氟聚合物A、和為了得到涂料組合物中的粒子a而 使用的氟聚合物A優(yōu)選使用相同的（分子結(jié)構(gòu)的）氟化合物A而得到，但各自的氟聚合物A 中的源于氟化合物A的部分的量沒有特別限定。因此，涂料組合物中的氟聚合物A和為了 得到涂料組合物中的粒子a而使用的氟聚合物A，不需要它們的數(shù)均分子量、重均分子量、 分子量分布相同，可以任意地選擇。
[0270] 氟聚合物A的數(shù)均分子量優(yōu)選為5000以上20000以下，更優(yōu)選為6000以上18000 以下，特別優(yōu)選為8000以上17000以下。氟聚合物A的數(shù)均分子量超過20000時(shí)，氟聚合 物A的體積變大，因此在將氟聚合物A的一部分導(dǎo)入無機(jī)粒子而得到粒子a時(shí)，氟聚合物A 與無機(jī)粒子的反應(yīng)性減低，表面移行性變得不好。進(jìn)而，通過使氟聚合物A的數(shù)均分子量變 高，溶解性降低，由此局部形成表面自由能低的部分，其結(jié)果是開口部的數(shù)目增加。數(shù)均分 子量小于5000時(shí)，引入無機(jī)粒子中的源于氟化合物A的部分為少量（即，粒子a中的源于 氟聚合物的部分為少量），因此表面移行性有時(shí)變得不好。
[0271] 另外，本發(fā)明的涂料組合物中的粒子b整體的（電位優(yōu)選為_60mV以下，特別優(yōu) 選為-70mV以下?？梢哉J(rèn)為，使用粒子b整體的4電位為-60mv以下的涂料組合物而得的 疊層體的、第1層表面的PHlO時(shí)的4電位的值為負(fù)、且變小，因此可以控制為-60mv以下， 不易將帶有負(fù)電荷的堿溶液中的氫氧化物離子靠近第1層的表面，能夠提高耐堿性。
[0272] S卩，這是因?yàn)橥ㄟ^使用粒子b整體的4電位為_60mV以下的涂料組合物，可以使 疊層體的、第1層表面的PHlO時(shí)的4電位的值為負(fù)且為小的值。S卩，通過使用粒子b整體 的4電位為-60mV以下的涂料組合物，可以將疊層體的、第1層表面的pHIO時(shí)的4電位 的值容易地控制為-60mV以下。
[0273] 通過使疊層體的、第1層表面的pHIO時(shí)的4電位的值為_60mV以下，可以提高疊 層體的耐堿性。這是因?yàn)槿缟纤觯?層表面的PHlO時(shí)的4電位的值為-60mV以下時(shí)， 在堿溶液中存在的、帶有負(fù)電荷的氫氧化物離子不易接近于疊層體的第1層的表面。
[0274] 粒子b整體的4電位的值為負(fù)且小的情況沒有問題，但一般其下限為_150mV左 右。粒子b整體的電位的值大于-60mV時(shí)，在第1層的表面堿溶液易于浸透，耐堿性有 時(shí)變得不充分。
[0275] 在本發(fā)明的涂料組合物中，粒子b優(yōu)選至少含有1種以上，可以將（電位不同的 2種粒子b混合來使用。涂料組合物中的粒子b為1種時(shí)，將粒子b的（電位設(shè)為粒子b 整體的（電位。另外，在涂料組合物中混合2種以上的粒子b來使用時(shí)，將2種以上的粒 子b各自的4電位乘以體積比率的值設(shè)為粒子b整體的4電位。
[0276] 作為4電位不同的粒子b的具體例，可以列舉氧化鈦U電位：-20mV)、氧化鋯 U電位：-80mV)等。即使如氧化鈦這樣的、4電位的值為負(fù)、且其值不那么小的粒子，通 過與氧化鋯這樣的4電位的值為負(fù)且其值非常小的粒子混合，利用體積比率的調(diào)節(jié)可以 將4電位調(diào)節(jié)為優(yōu)選的值。這是因?yàn)槿缟纤?，粒子b整體的（電位是各自的（電位乘 以體積比率的值。應(yīng)予說明，對于粒子b、和粒子b整體的（電位的測定方法，在后面敘述。
[0277] [涂料組合物中的各成分的含量]
[0278] 本發(fā)明的涂料組合物優(yōu)選粒子a/粒子b (質(zhì)量比率）為1/30?1/1。通過粒子a/ 粒子b = 1/30?1/1，可以使所得的疊層體的第1層的厚度與第2層的厚度之比為一定。 因此，易于用1次涂布使第1層和第2層的厚度同時(shí)為需要的厚度，從而是優(yōu)選的。
[0279] 作為粒子a/粒子b (質(zhì)量比率），為1/28?1/1，進(jìn)而優(yōu)選為1/26?1/2,特別優(yōu) 選為1/23?1/3。
[0280] 另外優(yōu)選是下述方案，即在涂料組合物100質(zhì)量％中，粒子a的含量為0. 03質(zhì) 量％以上26. 3質(zhì)量％以下、粒子b的含量為0. 06質(zhì)量％以上57. 5質(zhì)量％以下、氟聚合物A 的含量為〇. 003質(zhì)量％以上27. 2質(zhì)量％以下、粘合劑原料的含量為0. 02質(zhì)量％以上43. 2 質(zhì)量％以下、有機(jī)溶劑的含量為40質(zhì)量％以上98質(zhì)量％以下、引發(fā)劑、固化劑和催化劑等 其它成分的含量為〇. 1質(zhì)量％以上20質(zhì)量％以下。更優(yōu)選下述方案，S卩，在涂料組合物100 質(zhì)量％中，粒子a的含量為0. 04質(zhì)量％以上14質(zhì)量％以下、粒子b的含量為0. 18質(zhì)量％ 以上56. 8質(zhì)量％以下、氟聚合物A的含量為0. 004質(zhì)量％以上、24. 0質(zhì)量％以下、粘合劑 原料的含量為〇. 02質(zhì)量％以上40. 6質(zhì)量％以下、有機(jī)溶劑的含量為40質(zhì)量％以上98質(zhì) 量％以下、引發(fā)劑、固化劑和催化劑等其它成分的含量為1質(zhì)量％以上15質(zhì)量％以下。
[0281] [涂料組合物中的其它成分]
[0282] 本發(fā)明的涂料組合物優(yōu)選進(jìn)而含有聚合引發(fā)劑、固化劑。聚合引發(fā)劑和固化劑用 于促進(jìn)粒子與粘合劑原料的反應(yīng)、或用于促進(jìn)粘合劑原料間的反應(yīng)。
[0283] 該聚合引發(fā)劑和固化劑根據(jù)涂料組合物中所含的粘合劑原料的反應(yīng)性部位，可以 使用各種物質(zhì)。另外，可以同時(shí)使用多種聚合引發(fā)劑，也可以單獨(dú)使用。進(jìn)而，可以并用酸 性催化劑、熱聚合引發(fā)劑、光聚合引發(fā)劑。作為酸性催化劑的例子，可以列舉鹽酸水溶液、甲 酸、乙酸等。作為熱聚合引發(fā)劑的例子，可以列舉過氧化物、偶氮化合物。另外，作為光聚合 引發(fā)劑的例子，可以列舉烷基苯酮系化合物、含硫系化合物、?；趸⑾祷衔?、胺系化 合物等，但不限于這些，從固化性的角度考慮，優(yōu)選是烷基苯酮系化合物，作為具體例，可以 列舉2. 2-二甲氧基-1. 2-二苯基乙烷-1-酮、2-甲基-1- (4-甲基硫代苯基）-2-嗎啉代丙 烷-1-酮、2-芐基-2-二甲基氨基-1-(4-苯基）-1- 丁烷、2-(二甲基氨基）-2-[ (4-甲基 苯基）甲基]-1- (4-苯基）-1- 丁烷、2-芐基-2-二甲基氨基-1- (4-嗎啉代苯基）-1- 丁 烷、2-(二甲基氨基）-2-[(4_甲基苯基）甲基]-l-[4-(4-嗎啉基）苯基]-1-丁烷、1-環(huán) 己基-苯基酮、2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-[4-(2_乙氧基）-苯基]-2-羥基-2-甲 基-1-丙烷-1-酮、等。
[0284] 應(yīng)予說明，該聚合引發(fā)劑、固化劑、催化劑的含有比例優(yōu)選相對于涂料組合物中的 粘合劑原料1〇〇質(zhì)量份為〇. 001質(zhì)量份?30質(zhì)量份，更優(yōu)選為0. 05質(zhì)量份?20質(zhì)量份， 進(jìn)而優(yōu)選為〇. 1質(zhì)量份?10質(zhì)量份。
[0285] 另外，在本發(fā)明的涂料組合物中進(jìn)而可以根據(jù)需要適當(dāng)含有表面活性劑、增稠劑、 流平劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、阻聚劑、PH調(diào)節(jié)劑、穩(wěn)定劑等的添加劑。
[0286] [第3組發(fā)明（疊層體的制造方法）]
[0287] 接著，對于本發(fā)明的制造方法進(jìn)行說明。
[0288] 本發(fā)明的疊層體的制造方法是下述方法，即在支撐基材的至少一面僅涂布1次本 發(fā)明（第2組發(fā)明）的涂料組合物，接著進(jìn)行干燥，由此在支撐基材的至少一面上依次具有 折射率不同的第2層和第1層，形成第1層含有粒子A、第2層含有粒子B的疊層體。
[0289] 在支撐基材的至少一面將涂料組合物涂布1次，是指對于支撐基材、利用1次的 涂布步驟形成包含1種涂料組合物的1層涂膜（液膜）。因此，不包含：利用1次的涂布步 驟將包含多層的涂膜同時(shí)進(jìn)行1次涂布的多層同時(shí)涂布；或在1次涂布時(shí)具有將1層的涂 膜多次涂布、干燥步驟的連續(xù)逐次涂布；在1次涂布時(shí)多次涂布1層涂膜、接著進(jìn)行干燥的 濕-濕（wet on wet)涂布等。
[0290] 另外，干燥是指減少或除去涂布于支撐基材上的涂料組合物中所含的有機(jī)溶劑。 為了進(jìn)行該干燥，優(yōu)選進(jìn)行利用了對流傳熱、傳導(dǎo)傳熱、輻射傳熱等方法的加熱。
[0291] 應(yīng)予說明，在本發(fā)明的疊層體的制造方法中，對于通過在支撐基材的至少一面將 涂料組合物涂布1次而形成的1層涂膜，經(jīng)過進(jìn)行加熱等而減少有機(jī)溶劑的干燥步驟，由此 可以得到本發(fā)明的疊層體。
[0292] 接著，以下列舉第3組發(fā)明涉及的制造方法的優(yōu)選的實(shí)施方式之一。
[0293] 利用浸涂法、氣刀涂布法、幕簾涂布法、輥涂法、線棒涂布法、凹版印刷涂布法或模 涂法（參照美國專利2681294號(hào)說明書）等將涂料組合物涂布在支撐基材上。
[0294] 接著，將在支撐基材上涂布的涂膜進(jìn)行干燥。從由所得的疊層體的疊層膜中完全 除去有機(jī)溶劑、而且促進(jìn)涂膜中的粒子的運(yùn)動(dòng)而使表面移行性提高的角度考慮，優(yōu)選在干 燥步驟中伴有涂膜的加熱。在干燥初期，如果得到〇. lgAm2.s)以上1.4gAm2.s)以下的范 圍的干燥速度，則特別不限定于特定的風(fēng)速、溫度。
[0295] 進(jìn)而，可進(jìn)行通過對于干燥步驟后形成的支撐基材上的疊層膜、照射熱或能量射 線而進(jìn)行的進(jìn)一步的固化操作（固化步驟）。該固化步驟是指促進(jìn)上述涂料組合物中的粘 合劑原料等的具有的反應(yīng)性部位間的反應(yīng)的步驟。在固化步驟中，用熱進(jìn)行固化時(shí)，也依賴 于支撐基材的種類，支撐基材為塑料膜時(shí)，優(yōu)選室溫至200°C，從固化反應(yīng)的活化能量的角 度考慮，更優(yōu)選l〇〇°C以上200°C以下、進(jìn)而優(yōu)選130°C以上200°C以下。
[0296] 另外，利用能量射線進(jìn)行固化時(shí)，從通用性的角度考慮，優(yōu)選電子束（EB線）和/ 或紫外線（UV射線）。另外利用紫外線固化時(shí)，從防止氧阻礙的角度考慮，優(yōu)選氧分壓盡可 能低，更優(yōu)選在氮?dú)夥障拢ǖ獌艋┻M(jìn)行固化。
[0297] 利用熱進(jìn)行固化時(shí)，可同時(shí)進(jìn)行干燥步驟和固化步驟。
[0298] 除了上述以外，在第3組發(fā)明中，優(yōu)選使用表面的4電位被控制了的支撐基材。以 下詳細(xì)地說明。
[0299] 優(yōu)選支撐基材的涂布涂料組合物的一側(cè)的面的、涂料組合物的pH時(shí)的（電位 (以下稱為支撐基材的（電位）為-12mV以下，支撐基材的涂布涂料組合物的一側(cè)的面的 表面自由能（以下稱為支撐基材的表面自由能）為52mN/m以下。更優(yōu)選支撐基材的？電 位為-16mV以下，支撐基材的表面自由能為48mN/m以下。
[0300] 支撐基材的表面自由能和支撐基材的（電位優(yōu)選都是低的，但支撐基材的表面 自由能和支撐基材的4電位不能完全獨(dú)立地控制，因此為了使支撐基材的4電位為_12mV 以下、同時(shí)使支撐基材的表面自由能為52mN/m以下，支撐基材的表面自由能的下限為 40mN/m左右，支撐基材的4電位的下限為-30mV左右。
[0301] 在本發(fā)明的制造方法中，支撐基材的？電位大于_12mV、或支撐基材的表面自由 能大于52mN/m時(shí)，所得的疊層體的第1層與第2層的界面的形狀有時(shí)產(chǎn)生混亂。
[0302] 具體地，在本發(fā)明的制造方法中，支撐基材的表面自由能大于52mN/m時(shí)，在涂膜 干燥過程中，由涂膜中的粒子b與支撐基材的范德華力產(chǎn)生的引力變得過大，在支撐基材 的表面束縛了粒子b，由此阻礙了粒子的均勻排列，所得疊層體的第1層和第2層的界面的 混亂有時(shí)變大。
[0303] 另外，在本發(fā)明的制造方法中，支撐基材的4電位大于_12mV時(shí)，在涂膜干燥過程 中，涂膜中的粒子b與支撐基材的靜電斥力變小，在支撐基材的表面束縛了粒子b，由此阻 礙了粒子的均勻排列，因此所得疊層體的第1層與第2層的界面的混亂有時(shí)變大。
[0304] 進(jìn)而，在本發(fā)明的制造方法中，對于支撐基材的涂布涂料組合物的一側(cè)的面的算 術(shù)表面粗糙度Ra、和表面自由能，也有優(yōu)選的值。即，在本發(fā)明的制造方法中，對于支撐基材 的涂布涂料組合物的一側(cè)的面的算術(shù)表面粗糙度Ra、表面自由能、（電位，優(yōu)選Ra為40nm 以下、表面自由能為52mN/m以下、電位為-12mV以下。
[0305] 應(yīng)予說明，支撐基材具有上述功能性層，在上述功能性層上涂布本發(fā)明的涂料組 合物而形成疊層體時(shí)，功能性層的表面優(yōu)選是算術(shù)表面粗糙度Ra、表面自由能、（電位的 優(yōu)選值（Ra40nm以下、表面自由能52mN/m以下、？電位-12mV以下）。
[0306] 如上所述，在本發(fā)明的制造方法中，支撐基材的涂布涂料組合物的一側(cè)的面的基 于JIS R 1683(2007)的算術(shù)平均粗糙度Ra優(yōu)選為40nm以下。表面粗糙度進(jìn)而優(yōu)選為35nm 以下，特別優(yōu)選為30nm以下。算術(shù)表面粗糙度Ra大于40nm時(shí)，粒子a的表面移行性變得 不充分，在膜中凝集、或第2層浸入第1層中等，不能得到透射光的著色降低效果、導(dǎo)電層的 圖案化的可視性下降效果，或不能在疊層膜上面內(nèi)均勻地形成導(dǎo)電層、表面電阻值升高，或 涂膜的透明性降低。
[0307] 將支撐基材的形成疊層膜的一側(cè)的面的表面自由能設(shè)為52mN/m以下、進(jìn)而將支 撐基材的形成疊層膜的一側(cè)的面的4電位設(shè)為_12mV以下的方法沒有特別限定，可以通過 改變支撐基材的表面的功能性層的配方、即用于形成功能性層的涂料組合物中所含的低聚 物、單體的種類、或?qū)嵤┥鲜霰砻嫣幚韥韺?shí)現(xiàn)。
[0308] [利用第1?3組的發(fā)明得到的疊層體和疊層膜]
[0309] 作為疊層體，為了顯示良好的性質(zhì)，優(yōu)選透明性高。如果透明性低，則用作圖像顯 示裝置時(shí)，有時(shí)產(chǎn)生由圖像彩度的降低等導(dǎo)致的畫質(zhì)下降。
[0310] 本發(fā)明的疊層體的透明性的評價(jià)中可以使用濁度值、和全光線透射率。濁度是 JIS-K 7136(2000)中規(guī)定的透明性材料的渾濁的指標(biāo)。濁度越小，顯示透明性越高。作為 疊層體的濁度值，優(yōu)選為1. 2%以下，更優(yōu)選為1. 0%以下，進(jìn)而優(yōu)選為0. 8%以下，值越小， 在透明性方面越良好，但難以為〇%，現(xiàn)實(shí)的下限值為0. 01%左右。如果濁度值為2. 0%以 上，則產(chǎn)生圖像劣化的可能性有時(shí)變高。
[0311] 全光線透射率是JIS-K 7361-1(1997)中規(guī)定的透明性材料的透光性的指標(biāo)，其 越高，顯示透明性越高。作為疊層體的全光線透射率，優(yōu)選為85%以上，更優(yōu)選為89%以 上，進(jìn)而優(yōu)選為91%以上?，F(xiàn)實(shí)的上限值為94%左右。如果全光線透射率為85%以下，則 有時(shí)圖像變暗。
[0312] 另外，第1組發(fā)明的疊層體、和利用第3組的制造方法得到的疊層體的疊層膜優(yōu)選 含有粘合劑。粘合劑原料直接作為粘合劑存在時(shí)，優(yōu)選的粘合劑的種類可以列舉在[粘合 劑原料]的項(xiàng)目中記載的化合物。另一方面，粘合劑原料不直接作為粘合劑存在時(shí)，作為涂 料組合物的粘合劑原料，優(yōu)選使用在[粘合劑原料]的項(xiàng)目中記載的化合物。
[0313] 另外，使用第2組發(fā)明涉及的涂布組合物所得的疊層體、和利用第3組發(fā)明涉及的 制造方法得到的疊層體優(yōu)選滿足上述[第1組發(fā)明]的項(xiàng)目中記載的構(gòu)成、特性。
[0314] 因此，例如利用第2組和第3組發(fā)明得到的疊層體優(yōu)選第1層的表面的pHIO時(shí)的 (電位為_60mV以下。
[0315] 疊層體的第1層表面的（電位被為了形成疊層體而使用的涂料組合物中的粒子 b的4電位所影響。因此，為了使第1層的表面的4電位為_60mV以下，優(yōu)選在涂料組合 物中至少含有1種以上的粒子b，在涂料組合物中可以含有（電位不同的2種以上的粒子 b〇
[0316] 對于本發(fā)明的疊層體的第1層表面的（電位，通過使用（電位在負(fù)側(cè)大的粒子 b，負(fù)變大（易于變?yōu)開60mV以下），通過使用4電位在負(fù)側(cè)小的粒子b，負(fù)變?。ㄒ子谧?yōu)?大于-60mV)。另外，通過將具有不同的4電位的2種以上的粒子b混合，可以將第1層表 面的4電位調(diào)節(jié)為優(yōu)選的范圍。
[0317] 為了使本發(fā)明疊層體的第1層的表面的4電位為_60mV以下，作為本發(fā)明的涂料 組合物中的粒子b，可以列舉例如將氧化鈦（4電位：-20mV)和氧化鋯（4電位：-80mV)并 用的方法。即使是氧化鈦這樣的、（電位在負(fù)側(cè)小的粒子b，通過與氧化鋯這樣的、（電位 在負(fù)側(cè)大的粒子b混合，粒子b整體的（電位為各自的（電位乘以體積比率的值，因此通 過體積比率的調(diào)節(jié)，可以將（電位調(diào)節(jié)為優(yōu)選的值，可以將使用了該涂料組合物的疊層體 的第1層的表面的（電位調(diào)節(jié)為優(yōu)選的值。
[0318] [利用第1?3組的發(fā)明得到的疊層體、疊層體的稱呼或用途]
[0319] 應(yīng)予說明，構(gòu)成疊層體的支撐基材為塑料膜時(shí)，有時(shí)稱為折射率調(diào)節(jié)膜、折射率匹 配膜、防反射膜，供于用于調(diào)節(jié)折射率的用途、用于調(diào)合折射率的用途、用于防止反射的用 途。
[0320] 另外，支撐基材上形成的"疊層膜"從其功能考慮，有時(shí)也稱為折射率匹配層、反射 率調(diào)節(jié)層、光學(xué)功能層、光學(xué)調(diào)節(jié)層、或防反射層。
[0321] [使用利用第1?3組的發(fā)明得到的疊層體而成的導(dǎo)電性疊層體]
[0322] 通過在疊層體的第1層上形成導(dǎo)電層，可以得到本發(fā)明的導(dǎo)電性疊層體。該導(dǎo)電 性疊層體是指至少在支撐基材上依次疊層了第2層、第1層、和導(dǎo)電層的構(gòu)成、即在上述疊 層體的第1層上疊層了導(dǎo)電層的構(gòu)成。
[0323] 該導(dǎo)電層可以為含有透明導(dǎo)電性氧化物的層。本發(fā)明中的透明導(dǎo)電性氧化物是以 氧化銦或氧化鋅為主成分的物質(zhì)，以氧化銦為主成分的物質(zhì)也可以單獨(dú)使用氧化銦，但出 于賦予導(dǎo)電性的目的，也可以進(jìn)行摻雜。摻雜劑例如有錫、鋅、鈮、鎢、鈦、鋯、鑰等，其中，摻 雜了錫的物質(zhì)（ITO)被廣泛使用。以氧化鋅為主成分的物質(zhì)也可以單獨(dú)使用氧化鋅，但出 于賦予導(dǎo)電性的目的，也可以進(jìn)行摻雜。摻雜劑中例如有銦、錫、鋁、硼、鎵、硅等。這些透明 導(dǎo)電性氧化物層可以列舉公知的手法、例如濺射法、有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積法（MOCVD)、熱 CVD法、等離子體CVD法、分子束外延法（MBE)、或脈沖激光沉積法（PLD)等，但從可大面積、 均一地成膜的角度考慮，優(yōu)選是濺射法。
[0324] 為了提高導(dǎo)電性和光線透射率，優(yōu)選對在支撐基材上形成了導(dǎo)電層的導(dǎo)電性疊層 體進(jìn)行退火處理。退火氣氛優(yōu)選在真空或惰性氣體氣氛下進(jìn)行，如果在氧氣氛退火，則有時(shí) 透明導(dǎo)電性氧化物被熱氧化，導(dǎo)電率降低（表面電阻值的升高）。退火溫度需要是結(jié)晶性 提高的溫度以上，但另一方面，如果從支撐基材的角度來看，則低的溫度從熱收縮、褶皺、卷 曲、低聚物的析出、密合性的降低、著色等角度考慮，越低越是優(yōu)選的，因此優(yōu)選在可得到導(dǎo) 電性、透光率的范圍下、在盡可能低的溫度下進(jìn)行。
[0325] 導(dǎo)電性疊層體的用途有各種各樣。本發(fā)明的導(dǎo)電性疊層體例如可以作為含有其的 觸摸面板而合適地使用。在含有觸摸面板的多種用途中，需要將導(dǎo)電層加工為需要形狀的 圖案化。一般地，導(dǎo)電層的圖案化如下來進(jìn)行：通過將在導(dǎo)電性疊層體的第1層上均一形成 的導(dǎo)電層進(jìn)行蝕刻處理，除去導(dǎo)電層的不需要的部分。在該蝕刻步驟中多使用堿溶液，因此 在除去導(dǎo)電層的不需要的部分時(shí)，經(jīng)過疊層體的表面暴露于堿溶液中的步驟，因此優(yōu)選疊 層體的耐堿性充分。
[0326] 其中，上述耐堿性表示疊層體對于堿溶液的耐久性，對于具體的耐堿性的評價(jià)方 法，如下所述。
[0327] 導(dǎo)電性疊層體的表面電阻值根據(jù)使用的用途而不同，特別地，如果是需要圖案化 的靜電容量型觸摸面板用，可以通過使表面電阻值為優(yōu)選50?500 Q / □、進(jìn)而優(yōu)選100? 300 Q/ □來使用。表面電阻值小于50 Q/ □、或超過500 Q/ □時(shí)，觸摸面板的識(shí)別精度有 時(shí)變差。
[0328] 導(dǎo)電性疊層體的導(dǎo)電層的膜厚優(yōu)選為4?50nm的范圍，進(jìn)而優(yōu)選為10?40nm。 導(dǎo)電層的膜厚小于4nm時(shí)，難以形成連續(xù)的薄膜，難以得到良好的導(dǎo)電性。另一方面，導(dǎo)電 層的膜厚比50nm厚時(shí)，在將透明導(dǎo)電性薄膜層圖案化時(shí)，使具有導(dǎo)電層的部分和不具有的 部分的光學(xué)特性接近變得困難。
[0329] 其中，導(dǎo)電層雖然根據(jù)其用途而不同，但在本說明書中是指表面電阻值小于 IO6Q/ □的層。特別地，如果其用途是作為本發(fā)明主要用途的觸摸面板、特別是需要圖案化 的靜電容量型觸摸面板用途，則可以通過使導(dǎo)電層的表面電阻值優(yōu)選為50?500 Q/ □、進(jìn) 而優(yōu)選為100?300 Q / □來使用。
[0330] 本發(fā)明的導(dǎo)電性疊層體的一個(gè)方式不于圖10。本發(fā)明的導(dǎo)電性疊層體（56)在本 發(fā)明的疊層體（57)的疊層膜（59)上（第1層上）具有導(dǎo)電層￠0)。進(jìn)而，圖11表示本發(fā) 明的導(dǎo)電性疊層體的其它方式，該方式的導(dǎo)電性疊層體￠3)具有部分地具有導(dǎo)電層的部 分（67)、和由于不存在導(dǎo)電層、第1層在最表面露出的部分（70)。另外，圖12表示導(dǎo)電性 疊層體的其它方式，可以使用在疊層膜（72)的與具有導(dǎo)電性層（75)的一側(cè)相反的側(cè)，具有 硬涂層和/或易粘接層（78)，進(jìn)而在導(dǎo)電性疊層體的與導(dǎo)電層（75)相反的側(cè)具有硬涂層和 /或易粘接層、抗粘連層（79)的支撐基材（73)。
[0331] [導(dǎo)電性疊層體的制造方法]
[0332] 本發(fā)明的導(dǎo)電性疊層體可以在本發(fā)明疊層體的第1層上，根據(jù)需要的膜厚適當(dāng)使 用真空蒸鍍法、濺射法、CVD法、離子電鍍法、噴霧法等來得到。例如對于濺射法的情況，可 以使用使用了氧化物靶的普通的濺射法、或使用了金屬靶的反應(yīng)性濺射法等。此時(shí)，作為反 應(yīng)性氣體，可以引入氧、氮等、或并用臭氧添加、等離子體照射、離子輔助等的手段。另外，在 不損害本發(fā)明目的的范圍下，可以在基板上外加直流、交流、高頻等的偏壓。進(jìn)而，優(yōu)選為了 導(dǎo)電性、透光性的增加而進(jìn)行退火處理。
[0333] 實(shí)施例
[0334] 接著，基于實(shí)施例而說明本發(fā)明，但本發(fā)明未必被這些實(shí)施例而限定。
[0335] [氟聚合物A的制備]
[0336] [氟聚合物A (1)的制備]
[0337] 添加甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷I. 9g和C6F13-(CH2)6-OCO-CH = CH2O. 75g 和2,2_偶氮雙（2,4_二甲基戊腈）0.096g、異丙基醇（也記為IPA)llg后，在80°C加熱攪 拌60分鐘，形成固形成分為25質(zhì)量％的氟聚合物A(I)。
[0338] [氟聚合物A (2)的制備]
[0339] 添加甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷2. Ig和C6F13-(CH2)6-OCO-CH = CH2L 9g和 2,2-偶氮雙（2,4-二甲基戊腈）0.13§、異丙基醇16.5§后，在801：加熱攪拌60分鐘，形成 固形成分為25質(zhì)量％的氟聚合物A (2)。
[0340] [含有粒子a和氟聚合物A的混合液的制備]
[0341] [含有粒子a和氟聚合物A的混合液（1-1)的制備]
[0342] 在固形成分為25質(zhì)量％的氟聚合物A (1)1 Ig和IPA分散膠體二氧化硅（日產(chǎn)化 學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制IPA-ST :固形成分濃度20質(zhì)量％、數(shù)均粒徑12nm) IOg中，混合10質(zhì)量％ 甲酸水溶液〇. 17g、水0. 3g，在70°C攪拌1小時(shí)。然后，加入甲基乙基酮進(jìn)行稀釋，形成固形 成分為3. 5質(zhì)量％的"含有粒子a和氟聚合物A的混合液（1-1) "。制備后，利用下述方法 研究氟聚合物A、無機(jī)粒子、粒子a中的源于氟聚合物A的部位的成分比率。將其在表1中 記載。
[0343] [含有粒子a和氟聚合物A的混合液（2-1)的制備]
[0344] 在IPA分散膠體二氧化硅（日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制膠體二氧化硅溶膠：固形成 分20質(zhì)量％、數(shù)均粒徑12nm) IOg中混合甲基丙稀醜氧基丙基二甲氧基娃燒I. 9g和10質(zhì) 量％甲酸水溶液0. 17g、水0. 3g，在70°C攪拌1小時(shí)。接著，添加 C6F13-(CH2)6-OCO-CH = CH2O. 75g和2,2_偶氮雙（2,4_二甲基戊腈）0. 096g后，在80°C加熱攪拌60分鐘。然后， 添加甲基乙基酮進(jìn)行稀釋，形成固形成分為3. 5質(zhì)量％的"含有粒子a和氟聚合物A的混合 液（2-1)，，。
[0345] [含有粒子a和氟聚合物A的混合液（2-2)?（2-11)、（5-1)、（6-1)?（6-4)、 (7-1)?（7-3)的制備]
[0346] 用與含有粒子a和氟聚合物A的混合液（2-1)同樣的方法，以表1中記載的配方 制備。
[0347] [含有粒子a和氟聚合物A的混合液（3-1)的制備]
[0348] 在IPA分散膠體二氧化硅（日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制膠體二氧化硅溶膠：固形成 分濃度20質(zhì)量％、數(shù)均粒徑12nm) IOg中，混合甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷I. 9g和 10質(zhì)量％甲酸水溶液0. 17g、水0. 3g，在70°C攪拌1小時(shí)。接著，添加 C6F13-(CH2)6-OCO-CH =〇120.75§和2,2-偶氮雙（2,4-二甲基戊腈）0.029§后，在701：加熱攪拌60分鐘。然 后，添加甲基乙基酮進(jìn)行稀釋，形成固形成分為3. 5質(zhì)量％的"含有粒子a和氟聚合物A的 混合液（3-1) "。
[0349] [含有粒子a和氟聚合物A的混合液（3-2)的制備]
[0350] 用與含有粒子a和氟聚合物A的混合液（3-1)同樣的方法，以表1中記載的配方 進(jìn)行制備。
[0351] [含有粒子a和氟聚合物A的混合液（4-1)的制備]
[0352] 在IPA分散膠體二氧化硅（日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制膠體二氧化硅溶膠：固形成 分濃度20質(zhì)量％、數(shù)均粒徑12nm) IOg中，混合甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷I. 9g和 10質(zhì)量％甲酸水溶液0. 17g、水0. 3g，在70°C攪拌1小時(shí)。接著，添加 C6F13-(CH2)6-OCO-CH =CH2O. 75g和2，2-偶氮雙異丁腈0. 075g后，在90°C加熱攪拌60分鐘。然后，添加甲基乙 基酮進(jìn)行稀釋，形成固形成分為3. 5質(zhì)量％的"含有粒子a和氟聚合物A的混合液（4-1) "。
[0353] [含有粒子a和氟聚合物A的混合液（4-2)的制備]
[0354] 用與含有粒子a和氟聚合物A的混合液（4-1)同樣的方法，以表1中記載的配方 進(jìn)行制備。
[0355] [含有粒子a和氟聚合物A的混合液（8-1)的制備]
[0356] 在IPA分散膠體二氧化硅（日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制膠體二氧化硅溶膠：固形成 分濃度20質(zhì)量％、數(shù)均粒徑12nm) IOg中，混合甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷I. 15g和 10質(zhì)量％甲酸水溶液0. 17g、水0. 3g，在70°C攪拌1小時(shí)。接著，添加 C6F13-(CH2)6-OCO-CH =CH2O. 75g和Y _ 丁內(nèi)酯丙烯酸酯0. 75g、2, 2-偶氮雙異丁腈0. 096g后，在80°C加熱攪拌 60分鐘。然后，添加甲基乙基酮進(jìn)行稀釋，形成固形成分為3. 5質(zhì)量％的"含有粒子a和氟 聚合物A的混合液（8-1) "。
[0357] [含有粒子a和氟聚合物A的混合液（8-2)?（8-15)的制備]
[0358] 用與含有粒子a和氟聚合物A的混合液（8-1)同樣的方法，以表1中記載的配方 進(jìn)行制備。
[0359] [含有粒子a和氟聚合物A的混合液（9-1)的制備]
[0360] 在IPA分散膠體二氧化硅（日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制膠體二氧化硅溶膠：固形成 分濃度20質(zhì)量％、數(shù)均粒徑12nm) IOg中，混合甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷I. 53g和 10質(zhì)量％甲酸水溶液0. 17g、水0. 3g，在70°C攪拌1小時(shí)。接著，添加 C6F13-(CH2)6-OCO-CH =CH2O. 75g和Y _ 丁內(nèi)酯丙烯酸酯0. 37g、2, 2-偶氮雙異丁腈0. 096g后，在80°C加熱攪拌 60分鐘。然后，添加甲基乙基酮進(jìn)行稀釋，形成固形成分為3. 5質(zhì)量％的"含有粒子a和氟 聚合物A的混合液（9-1) "。
[0361] [含有粒子a和氟聚合物A的混合液（9-2)、（9-3)的制備]
[0362] 用與含有粒子a和氟聚合物A的混合液（9-1)同樣的方法，以表1中記載的配方 進(jìn)行制備。
[0363] [粒子b的選擇]
[0364] 將下述材料分別作為粒子b。
[0365] [粒子 b(l)]
[0366] 二氧化鈦粒子分散物（粒子b的4電位：-20mV)
[0367] (ELC0M日揮催化劑化成株式會(huì)社制：固形成分30質(zhì)量％、數(shù)均粒徑8nm)。
[0368] [粒子 b (2)]
[0369] 氧化鋯粒子分散物（粒子b的4電位：-80mV)
[0370] (日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制：固形成分30質(zhì)量％、數(shù)均粒徑IOnm)。
[0371] [粒子 b (3)]
[0372] 將下述材料混合，而得到粒子b (3)。
[0373] 二氧化鈦粒子分散物（粒子b的4電位：-20mV) 50. 0質(zhì)量份
[0374] (ELC0M日揮催化劑化成株式會(huì)社制：固形成分30質(zhì)量％、數(shù)均粒徑8nm)
[0375] 氧化鋯粒子分散物（粒子b的4電位：-80mV) 50. 0質(zhì)量份
[0376] (日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制：固形成分30質(zhì)量％、數(shù)均粒徑IOnm)
[0377] 粒子b整體的4電位：-50mV。
[0378] [粒子b⑷]
[0379] 將下述材料混合，而得到粒子b (4)。
[0380] 二氧化鈦粒子分散物（粒子b的4電位：-20mV) 30. 0質(zhì)量份
[0381] (ELC0M日揮催化劑化成株式會(huì)社制：固形成分30質(zhì)量％、數(shù)均粒徑8nm)
[0382] 氧化鋯粒子分散物（粒子b的4電位：-80mV) 70. 0質(zhì)量份
[0383] (日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制：固形成分30質(zhì)量％、數(shù)均粒徑IOnm)
[0384] 粒子b整體的4電位：_62mV。
[0385] [涂料組合物的制備]
[0386] [涂料組合物（1)的制備]
[0387] 將下述材料混合，而得到涂料組合物（1)。
[0388] 含有粒子a和氟聚合物A的混合液（2-1) 50. 3質(zhì)量份
[0389] 氟聚合物A(I)(利用甲基乙基酮（MEK)稀釋為固形成分濃度3. 5質(zhì)量％ ) 2. 7質(zhì) 量份
[0390] 粒子b (1)7. 8質(zhì)量份
[0391] 粘合劑原料（季戊四醇三丙烯酸酯：PETA) 1. 56質(zhì)量份
[0392] 光聚合引發(fā)劑（方今二了 127 :Irgl27子八7?\ US力卟文'社 制）0.26質(zhì)量份
[0393] 有機(jī)溶劑
[0394] 甲基乙基酮（MEK) 26. 4質(zhì)量份
[0395] 乙二醇單丁基醚乙酸酯（EGMBA) 11. 0質(zhì)量份。
[0396] [涂料組合物⑵?（17)、（19)?（25)、（28)、（30)、和（36)?（55)的制備]
[0397] 用與涂料組合物（1)的制備同樣的方法，以表1中記載的配方進(jìn)行制備。
[0398] [涂料組合物（18)的制備]
[0399] 將下述材料混合，而得到涂料組合物（18)。
[0400] 含有粒子a和氟聚合物A的混合液（2-1) 53. 0質(zhì)量份
[0401] 氟化合物 A (C6F13- (CH2) 6-0C0-CH = CH2) 0? 15 質(zhì)量份
[0402] 粒子b (1)7. 8質(zhì)量份
[0403] 粘合劑原料（季戊四醇三丙烯酸酯：PETA) 1. 56質(zhì)量份
[0404] 光聚合引發(fā)劑（方今二了 I27 :Irgl27子八7?\ U^S力卟文'社 制）0.26質(zhì)量份
[0405] 有機(jī)溶劑甲基乙基酮（MEK) 26. 4質(zhì)量份
[0406] 乙二醇單丁基醚乙酸酯（EGMBA) 11. 0質(zhì)量份。
[0407][涂料組合物（26)的制備]
[0408] 對于上述涂料組合物（1)，將粘合劑原料（PETA)改變?yōu)檎澈蟿┰希ǘ疚焖拇?五丙烯酸酯：DPPA)，除此以外同樣地得到涂料組合物（26)。
[0409][涂料組合物（27)的制備]
[0410] 對于上述涂料組合物（1)，將粘合劑原料（PETA)改變?yōu)檎澈蟿┰希ň郯滨ケ?酸酯低聚物UA-306T共榮社化學(xué)株式會(huì)社），除此以外同樣地得到涂料組合物（27)。
[0411] [涂料組合物（29)的制備]
[0412] 將下述材料混合，而得到涂料組合物（29)。
[0413] 含有粒子a和氟聚合物A的混合液（6-2) 50. 0質(zhì)量份
[0414] 氟化合物 A (C8F17- (CH2) 2-〇C〇-CH = CH2) 3. 0 質(zhì)量份
[0415] 粒子b (2) 27.0質(zhì)量份
[0416] 粘合劑原料（季戊四醇三丙烯酸酯：PETA) 6. 7質(zhì)量份
[0417] 光聚合引發(fā)劑（方今二了 I27 :Irgl27子八7?\ U^S力卟文'社 制）0.34質(zhì)量份
[0418] 有機(jī)溶劑甲基乙基酮（MEK) 7. 6質(zhì)量份
[0419] 乙二醇單丁基醚乙酸酯（EGMBA) 8. 3質(zhì)量份。
[0420] [涂料組合物（31)的制備]
[0421] 對于上述涂料組合物（1)，將粒子a (2-1)更改為粒子a (2-8)，除此以外同樣地得 到涂料組合物（31)。
[0422] [涂料組合物（32)的制備]
[0423] 對于上述涂料組合物（1)，將粒子a (2-1)更改為粒子a (2-9)，除此以外同樣地得 到涂料組合物（32)。
[0424] [涂料組合物（33)的制備]
[0425] 對于上述涂料組合物（1)，將粒子a(2_l)更改為粒子a(2_10)，除此以外同樣地得 到涂料組合物（33)。
[0426] [涂料組合物（34)的制備]
[0427] 對于上述涂料組合物（1)，將粒子a(2_l)更改為粒子a(2_ll)，除此以外同樣地得 到涂料組合物（34)。
[0428] [涂料組合物（35)的制備]
[0429] 對于上述涂料組合物（1)，將粒子a (2-1)更改為粒子a (6-4)，除此以外同樣地得 到涂料組合物（35)。
[0430] [硬涂涂料組合物1的制備]
[0431] 將下述材料混合而得到硬涂涂料組合物1。
[0432] 季戊四醇三丙烯酸酯（PETA) 30. 0質(zhì)量份
[0433] 4卟方今二了 9〇7 (子八7?\ US力卟文社制）1. 5質(zhì)量份
[0434] 甲基異丁基酮（MIBK 73. 5質(zhì)量份。
[0435] [硬涂涂料組合物2的制備]
[0436] 將下述材料混合而得到硬涂涂料組合物2。
[0437] 聚氨酯丙烯酸酯低聚物（EBECRYL8655夕M七斤寸^7々社制）30. 0質(zhì)量份
[0438] 4卟方今二了 907 (子八7?\ U^ S力卟文社制）I. 5質(zhì)量份
[0439] 甲基異丁基酮（MIBK) 73. 5質(zhì)量份。
[0440] [硬涂涂料組合物3的制備]
[0441] 將下述材料混合而得到硬涂涂料組合物3。
[0442] PVA系丙烯酸酯（丙烯酸改性聚乙烯醇）30. 0質(zhì)量份
[0443] 4卟方今二了 9〇7 (子八7?\ US力卟文社制）1. 5質(zhì)量份
[0444] 甲基異丁基酮（MIBK) 73. 5質(zhì)量份。
[0445] [抗粘連涂料組合物的制備]
[0446] 將下述材料混合而得到抗粘連涂料組合物。
[0447] 7 4力7 4卜口 > Z-739 ( 7 ^力工業(yè)株式會(huì)社）36. 4質(zhì)量份
[0448] 甲基乙基酮（MEK) 36. 4質(zhì)量份。
[0449] [涂料組合物的評價(jià)]
[0450] [使用了含有粒子a和氟聚合物A的混合液的粒子A中的無機(jī)粒子部分、和氟聚合 物A、和粒子a中的源于氟聚合物A的部分的定量方法]
[0451] 用下述方法進(jìn)行定量。
[0452] 氟聚合物A的定量：
[0453] 對于由上述制備方法得到的[含有粒子a和氟聚合物A的混合液]，大量過剩地添 加己烷，使粒子a凝聚，利用離心分離機(jī)進(jìn)行5000rpm/30分鐘處理，由此使其沉降，進(jìn)而用 己烷洗滌沉淀物，將固體成分作為粒子a、溶解在液體中的成分作為氟聚合物A進(jìn)行分離。 由該質(zhì)量比求得粒子a與氟聚合物A的比率。
[0454] 粒子a中的無機(jī)粒子部分和源于氟聚合物A的部分的定量：
[0455] 對于用上述方法分離的粒子a，使用波長分散型熒光X射線裝置，進(jìn)行硅、氟、碳、 其它原子的定量分析。接著，由利用分析得到的氟原子的量和使用的氟化合物A的結(jié)構(gòu)，求 得源于氟聚合物的部分的氟化合物A的含量。進(jìn)而通過從利用分析得到的碳原子的量中減 去氟化合物A中的碳量，求得源于氟聚合物的部分的化合物D的含量。由這些氟化合物A和 化合物D的含量，求得粒子a中的源于氟聚合物A的部位的質(zhì)量。無機(jī)粒子含有特征的其 他元素時(shí)，由其量求得粒子A中的無機(jī)粒子部分的質(zhì)量。另外，無機(jī)粒子為二氧化硅時(shí)，進(jìn) 而通過從利用分析得到的硅原子的量中，減去由化合物D的結(jié)構(gòu)和含量求得的化合物D中 的硅原子的量，可以求得粒子A中的無機(jī)粒子部分的質(zhì)量。
[0456] [氟聚合物A的數(shù)均分子量]
[0457] 氟聚合物A的數(shù)均分子量使用分子量已知的單分散聚苯乙烯作為標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)、使用 以下的裝置來測定。應(yīng)予說明，氟聚合物A可以使用利用上述方法分離的物質(zhì)。
[0458] 裝置：島津制作所社制/LC-10
[0459] 分離柱：Shodex 制：K-804+K-805L
[0460] 柱溫度：35 °C
[0461] 溶劑：四氫呋喃。
[0462] [涂料組合物的pH]
[0463] 求得下述支撐基材的4電位所需要的涂料組合物的pH可以根據(jù)JIS Z8802(2011)中記載的使用了玻璃電極的pH測定方法來測定。具體地，使用堀場制作所制 pH計(jì)D50來測定。
[0464] [化合物E的堿緩沖能力]
[0465] 化合物E的堿緩沖能力可以通過測定Na0H(0. lmol/1)的消耗量（ml)而得到，所 述NaOH (0. lmol/1)的消耗量（ml)是在使用異丙基醇=H2O = 9 :1(質(zhì)量基準(zhǔn)）的混合液將 化合物E稀釋為5質(zhì)量％的溶液IOOg中添加 Na0H(0. lmol/1)，利用JIS Z8802(2011)中記 載的使用了玻璃電極的pH測定方法測定的25°C下的pH顯示為pH9時(shí)所需要的NaOH的消 耗量。具體地，使用堀場制作所制PH計(jì)D50進(jìn)行測定。
[0466] [粒子b的4電位]
[0467] 粒子b的4電位如下求得，S卩，使用使大塚電子株式會(huì)社制4電位?粒徑測定系 統(tǒng)ELSZ-1、和聚苯乙烯制的膠乳粒子（監(jiān)測粒子：Standard particles for solid sample cell/大塚電子株式會(huì)社制）分散在含有l(wèi)Ommol/dm3的NaCl電解質(zhì)的水溶液中的標(biāo)準(zhǔn)粒 子，測定25°C /pH7時(shí)的電滲流。
[0468] 應(yīng)予說明，在涂料組合物中將2種以上的粒子b混合并使用時(shí)，將2種以上的粒子 b各自的（電位乘以體積比率而得的值設(shè)為粒子b整體的（電位。
[0469] [支撐基材的制作]
[0470] 以下不出了支撐基材的制作方法。對于各樣品的構(gòu)成，統(tǒng)一不于表4。
[0471] [支撐基材1?3的制作]
[0472] 作為支撐基材1?3,使用在PET樹脂膜上形成了易粘接層的U48、U46、U34(東麗 株式會(huì)社制）。
[0473] [支撐基材4的制作]
[0474] 在支撐基材1的涂布了易粘接涂料的面上，使用繞線棒刮涂器（#10)涂布上述的 硬涂涂料組合物1后，進(jìn)行下述所示的干燥。
[0475] 熱風(fēng)溫度7〇°C
[0476] 熱風(fēng)風(fēng)速3m/s
[0477] 風(fēng)向與涂布面平行
[0478] 干燥時(shí)間1.5分鐘。
[0479] 接著，使用160W/cm2的高壓水銀燈（7 4夕'' 7 777 (株）制）在氧濃度0? 1 體積％下照射照度600W/cm2、累積光量800mJ/cm2的紫外線，進(jìn)行固化，將其設(shè)為支撐基材 4。
[0480] [支撐基材7的制作]
[0481] 在支撐基材4的沒有涂布硬涂涂料組合物的面上，使用繞線棒刮涂器（#10)涂布 上述的抗粘連涂料組合物后，進(jìn)行下述所示的干燥。
[0482] 熱風(fēng)溫度7〇°C
[0483] 熱風(fēng)風(fēng)速3m/s
[0484] 風(fēng)向與涂布面平行
[0485] 干燥時(shí)間1.5分鐘。
[0486] 接著，使用160W/cm2的高壓水銀燈（7 ^夕'' 7 777 (株）制），在氧濃度 0. 1體積％下照射照度600W/cm2、累積光量800mJ/cm2的紫外線，進(jìn)行固化。將其設(shè)為支撐 基材7。
[0487] [支撐基材8的制作]
[0488] 在支撐基材4的制作方法中，將硬涂涂料組合物1改變?yōu)橛餐客苛辖M合物2,除此 以外同樣地制作硬涂層，接著在沒有涂布硬涂涂料組合物的面上，利用與支撐基材7同樣 的制作方法制成抗粘連層，將其設(shè)為支撐基材8。
[0489] [支撐基材9的制作]
[0490] 在支撐基材4的制作方法中，將硬涂涂料組合物1改變?yōu)橛餐客苛辖M合物3,除此 以外同樣地制作硬涂層，接著在沒有涂布硬涂涂料組合物的面上，利用與支撐基材7同樣 的制作方法制成抗粘連層，將其設(shè)為支撐基材9。
[0491] [支撐基材的評價(jià)]
[0492] 對于支撐基材，進(jìn)行形成疊層膜的一側(cè)的面的（電位和表面自由能的測定，所得 的結(jié)果示于表中。除非有特別的說明，測定是在各實(shí)施例?比較例中，對于1個(gè)樣品，改變 地方進(jìn)行3次測定，使用其平均值。
[0493] [支撐基材的4電位]
[0494] 支撐基材的形成疊層膜的一側(cè)的面的（電位使用大塚電子株式會(huì)社制4電 位?粒徑測定系統(tǒng)ELSZ-I的平板試樣用單元，使用將Na2SO4作為緩沖劑混合，利用HCl和 NaOH將pH調(diào)節(jié)為涂料組合物的pH的水溶液進(jìn)行測定。
[0495] [支撐基材的表面自由能]
[0496] 支撐基材的形成疊層膜一側(cè)的面的表面自由能使用協(xié)和界面科學(xué)制自動(dòng)接觸角 計(jì)DM-501來測定水、乙二醇、甲酰胺、二碘甲烷的接觸角，使用其平均值并用在同一裝置 中附帶的解析軟件"FAMAS"算出。算出原理基于Owens的方法（J.Appl.Polym. Sci.，13， 1741 (1969)。測定對于各樣品進(jìn)行4處，進(jìn)行平均。
[0497] [疊層體的制造方法]
[0498] 以下表示疊層體的制作方法。各疊層體的構(gòu)成示于表4。
[0499] 在使用形成了硬涂層的支撐基材的情況下，在硬涂層上，用繞線棒刮涂器（#3)涂 布上述的涂料組合物后，進(jìn)行下述所示的第一階段的干燥，接著進(jìn)行第二階段的干燥；在使 用形成了易粘接層的支撐基材的情況下，在易粘接層上，用繞線棒刮涂器（#3)涂布上述的 涂料組合物后，進(jìn)行下述所示的第一階段的干燥，接著進(jìn)行第二階段的干燥。
[0500] 第一階段
[0501] 熱風(fēng)溫度50 °C
[0502] 熱風(fēng)風(fēng)速1.5m/s
[0503] 風(fēng)向與涂布面平行
[0504] 干燥時(shí)間0. 5分鐘
[0505] 第二階段
[0506] 熱風(fēng)溫度100°C
[0507] 熱風(fēng)風(fēng)速5m/s
[0508] 風(fēng)向與涂布面垂直
[0509] 干燥時(shí)間1分鐘
[0510] 應(yīng)予說明，熱風(fēng)的風(fēng)速是由吹出部的動(dòng)壓測定值換算為風(fēng)速的值。
[0511] 干燥后，使用160W/cm2的高壓水銀燈（7 4夕'' 7 7 ^ 77 (株）制），在氧濃度 0. 1體積％下照射照度600W/cm2、累積光量800mJ/cm2的紫外線，進(jìn)行固化。
[0512] 利用表4所示的支撐基材與涂料組合物處方的組合，制作實(shí)施例1?32、比較例 1?8的疊層體。
[0513] [疊層體的評價(jià)]
[0514] 對于疊層體，實(shí)施以下所示的性能評價(jià)，所得的結(jié)果示于表中。除非有特別說明， 測定在各實(shí)施例?比較例中，對于1個(gè)樣品，改變地方進(jìn)行3次測定，使用其平均值。
[0515] 另外，在導(dǎo)電性疊層體的濁度、導(dǎo)電性疊層體的表面電阻值、導(dǎo)電層的密合性、導(dǎo) 電層圖案化的可視性的評價(jià)中，利用以下述的要點(diǎn)在疊層體的第1層上形成導(dǎo)電層、接著 進(jìn)行了圖案化處理的樣品進(jìn)行。
[0516] [第1層表面的4電位]
[0517] 疊層體的第1層的表面的pHIO時(shí)的4電位通過下述這樣求得，S卩，使用大塚電子 株式會(huì)社制（電位?粒徑測定體系ELSZ-I的平板試樣用單元，使用利用NaOH調(diào)節(jié)至pHIO 的水溶液作為電解質(zhì)，將聚苯乙烯膠乳作為監(jiān)測粒子（Standard particles for solid sample cell/大塚電子株式會(huì)社制）測定電滲流來求得。
[0518] [疊層體的耐堿性]
[0519] 對于疊層體的耐堿性，使疊層體在加熱至60°C的2質(zhì)量％的NaOH水溶液中浸漬5 分鐘后，用純水洗滌，對于干燥后的堿浸漬部分和未浸漬部分，利用反射分光光度計(jì)（島津 制作所制、商品名：[UV-3000])在200nm?800nm的范圍測定反射率，將其差作為反射率差 (A R)求得，將A R為1. 2以下（A和B)的情況設(shè)為合格。
[0520] AR I. 〇 以下 A
[0521] AR L 2 以下 B
[0522] AR L 3 以上 C。
[0523] [導(dǎo)電層的形成]
[0524] [導(dǎo)電層的形成1]
[0525] 在上述疊層體的第1層上，將包含銦-錫復(fù)合氧化物的導(dǎo)電層成膜。此時(shí)，將濺射 前的壓力設(shè)為l〇_5Pa，用于作為靶的含有36質(zhì)量％氧化錫的氧化銦（住友金屬鉱山株式會(huì) 社制、密度6.9g/cm3)，外加2W/cm2的DC功率。另外，以13〇SCCm流過Ar氣體、以使表面電 阻值為最小的流速流過O2氣體，在〇. 67Pa的氣氛下使用DC磁控濺射法進(jìn)行成膜。
[0526] 其中，不是普通的DC，而是為了防止電弧放電、使用日本^ 一$ 3 4制 RPG-100,以50kHz周期外加5 ii s寬度的脈沖。另外，中心輥溫度設(shè)為KTC，進(jìn)行濺射。
[0527] 此時(shí)，一邊用濺射進(jìn)程監(jiān)視器（LEYBOLD INFIC0N社制、XPR2)時(shí)常觀測氣氛的氧 分壓、一邊以使包含銦-錫復(fù)合氧化物的導(dǎo)電層中的氧化度為一定的方式向氧氣的流量計(jì) 和DC電源反饋。
[0528] 濺射后，在真空度0. OlPa以下、溫度160°C的條件下進(jìn)行10分鐘退火，使厚度 30nm、折射率1. 96的包含銦-錫復(fù)合氧化物的導(dǎo)電層堆積，制成導(dǎo)電性疊層體。
[0529] [導(dǎo)電層的形成2]
[0530] 除了對于上述導(dǎo)電層的形成1、將退火時(shí)溫度改變?yōu)?30°C以外，其它同樣地制作 導(dǎo)電性疊層體。
[0531] [導(dǎo)電性疊層體的導(dǎo)電層的圖案化]
[0532] 在利用上述導(dǎo)電層的形成1制作的導(dǎo)電性疊層體上印刷抗蝕劑后，浸漬在IN鹽酸 中，接著利用堿浸漬，形成lX3cm的導(dǎo)電層的圖案（以下將其設(shè)為形成了圖案的導(dǎo)電性疊 層體）。
[0533] [第1層、第2層的折射率]
[0534] 作為第1層、第2層的各折射率，對于疊層體的疊層膜、利用反射分光膜厚計(jì)（大 塚電子制、商品名[FE-3000])測定300?SOOnm范圍下的反射率，使用該裝置附帶的軟件 [FE-Analysis]，按照大塚電子株式會(huì)社制[膜厚測定裝置的総合力夕a夕''?6(非線性最小 二乘法）]中記載的方法，求得550nm時(shí)的折射率。
[0535] 作為折射率的波長分散的近似式，使用Cauchy的分散式（數(shù)學(xué)式1)，利用最小二 乘法（曲線擬合法）計(jì)算光學(xué)常數(shù)（CpC2J3)，測定550nm時(shí)的折射率。
[0536] [數(shù) 1]
[0537]

【權(quán)利要求】
1. 一種疊層體，其在支撐基材的至少一面上依次具有折射率不同的第2層和第1層，第 1層含有粒子X，粒子X是至少具有無機(jī)粒子部分的粒子，第2層含有粒子Y，粒子Y是至少 具有無機(jī)粒子部分的粒子， 其特征在于，上述粒子X的無機(jī)粒子部分的數(shù)均粒徑即Dx[nm]為5nm以上25nm以下， 且滿足式1和式2， 1. 4 < (Lx/Dx) < 3 ? --式 1 SLX 彡 7 ? --式 2 Lx是指利用掃描型電子顯微鏡觀察第1層的表面時(shí)觀察到的、粒子X的無機(jī)粒子部分 的平均粒子中心間距離[nm]， Su是指利用掃描型電子顯微鏡觀察第1層的表面時(shí)觀察到的、粒子X的無機(jī)粒子部分 的平均粒子中心間距離[nm]的標(biāo)準(zhǔn)偏差。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的疊層體，其特征在于，上述第1層的平均膜厚為20nm以上 40nm以下，第2層的平均膜厚為30nm以上65nm以下。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的疊層體，其特征在于，利用掃描型電子顯微鏡觀察上述第 1層的表面時(shí)，每4 pm2有5個(gè)以下的開口部，所述開口部具有上述化的3倍以上的內(nèi)接直 徑。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1?3的任一項(xiàng)所述的疊層體，其特征在于，由上述第1層與第2層形 成的界面滿足式3和式4， 0? 3 彡（A12/Dx)彡 1. 1 ? --式 3 3 彡（F12/Dx)彡 15 ? --式 4 A12是指由第1層與第2層形成的界面的輪廓曲線的振幅[nm]， F12是指由第1層與第2層形成的界面的輪廓曲線的波長[nm]。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1?4的任一項(xiàng)所述的疊層體，其特征在于，上述第1層的表面的、 pHIO時(shí)的4電位為-60mV以下。
6. -種導(dǎo)電性疊層體，其特征在于，在權(quán)利要求1?5的任一項(xiàng)所述的疊層體的第1層 上具有導(dǎo)電層。
7. -種觸摸面板，其含有權(quán)利要求6所述的導(dǎo)電性疊層體。
8. -種涂料組合物，其含有 具有源于氟化合物A的部分的聚合物即氟聚合物A、 具有無機(jī)粒子部分和源于氟聚合物A的部分的粒子即粒子a、 具有無機(jī)粒子部分、不具有源于氟聚合物A的部分的粒子即粒子b、 粘合劑原料、和 有機(jī)溶劑， 其特征在于，滿足全部的條件1?3， 條件1 :粒子a中的源于氟聚合物A的部分、氟化合物A、和氟聚合物A的合計(jì)與粘合劑 原料的質(zhì)量比為25 :75?55 :45， 條件2 :氟聚合物A和粒子a中的源于氟聚合物A的部分的合計(jì)與粒子a中的源于氟 聚合物A的部分的質(zhì)量比為10 :90?87 :13， 條件3 :氟聚合物A和粒子a中的源于氟聚合物A的部分的合計(jì)與氟聚合物A中的源 于氟化合物A的部分的質(zhì)量比為20 :80?92 :8， 其中，氟化合物A是指以下通式（1)所示的化合物， Rl_R2_R? ? --通式 Q) Rfl是指選自氟烷基、氟氧基烷基、氟烯基、氟烷烴二基、和氟氧基烷烴二基中的至少1 個(gè)取代基， R1是指反應(yīng)性部分， R2是指碳原子數(shù)為1?9的任一者的亞烷基、或碳原子數(shù)為1?9的任一者的亞烷基 醚基， 并且，Rfl、R1、R2可在結(jié)構(gòu)中具有側(cè)鏈， 其中，氟聚合物A是指具有上述源于氟化合物A的部分和源于以下通式（2)所示的化 合物D的部分的聚合物， R3-R4-SiR5nl(OR6)3_ nl ? --通式（2) R3是指反應(yīng)性部分， R4是指碳原子數(shù)為1?6的任一者的亞烷基、或碳原子數(shù)為1?6的任一者的亞烷基 醚基， R5、R6是指氫、或碳原子數(shù)為1?4的任一者的烷基， nl是指0?2的整數(shù)。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的涂料組合物，其特征在于，上述氟化合物A為以下通式（3)所 示的化合物， Rf2-X_OCOCH = CH2 ? --通式（3) Rf2是指碳原子數(shù)為4?6的任一者的直鏈狀的全氟烷基， X是指碳原子數(shù)為4?8的任一者的亞烷基。
10. 根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的涂料組合物，其特征在于，上述氟聚合物A是進(jìn)而具有 源于以下通式（4)所示的化合物E的部分的聚合物， (R7)n2_R8n3 ? --通式⑷ R7是指反應(yīng)性部分， R8是指碳原子數(shù)為1?6的任一者的亞烷基、碳原子數(shù)為1?6的任一者的羥基烷基、 碳原子數(shù)為1?6的任一者的烷氧基、碳原子數(shù)為1?3的任一者的亞烷基醚基、碳原子數(shù) 為1?5的任一者的多元醇衍生物、碳原子數(shù)為1?12的任一者的羧酸衍生物、碳原子數(shù) 為1?6的任一者的酰胺衍生物、或雙酚衍生物， 其中，n2是指1?3的整數(shù)，n3是指1?10的整數(shù)。
11. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的涂料組合物，其特征在于，上述化合物E的R8為內(nèi)酯環(huán)。
12. -種疊層體的制造方法，所述疊層體是在支撐基材的至少一面上依次具有折射率 不同的第2層和第1層，第1層含有粒子A，第2層含有粒子B的疊層體， 在所述疊層體的制造方法中，在支撐基材的至少一面上涂布1次權(quán)利要求8?11的任 一項(xiàng)所述的涂料組合物，接著進(jìn)行干燥， 其中，將源于粒子a的粒子稱為粒子A、源于粒子b的粒子稱為粒子B。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的制造方法，其特征在于，支撐基材的涂布涂料組合物的一 側(cè)的面的、在涂料組合物的pH的情況下的4電位為-12mV以下，支撐基材的涂布涂料組合 物的一側(cè)的面的表面自由能為52mN/m以下。
【文檔編號(hào)】C09D127/14GK104334342SQ201380028425
【公開日】2015年2月4日 申請日期:2013年5月28日 優(yōu)先權(quán)日:2012年6月6日
【發(fā)明者】甲斐倫子, 石田康之, 巖谷忠彥, 高田育 申請人:東麗株式會(huì)社