一種浸漬提拉鍍膜設(shè)備以及浸漬提拉鍍膜方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種浸漬提拉鍍膜設(shè)備以及浸漬提拉鍍膜方法，其特征在于，所述浸漬提拉鍍膜設(shè)備包括全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)、驅(qū)動電機、儀器外殼、樣品夾持機構(gòu)和精密直線傳動裝置，所述驅(qū)動電機帶動所述精密直線傳動裝置，所述儀器外殼保護各部件，并在全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)的控制下，由樣品夾持機構(gòu)夾持待鍍膜樣品對樣品提拉鍍膜。與現(xiàn)有技術(shù)諸如鋼線卷繞垂吊式提拉法和液壓驅(qū)動方式相比，本發(fā)明采用具有對提拉設(shè)備保護的儀器外殼，精密直線傳動裝置以及全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)，不僅實現(xiàn)一體化全自動提拉鍍膜，極大提高了工作效率，而且有效避免了提拉鍍膜過程中因傳動造成鍍膜溶液的振動使鍍膜不均勻的現(xiàn)象，較大幅度提高了鍍膜效果。
【專利說明】一種浸漬提拉鍍膜設(shè)備以及浸漬提拉鍍膜方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及對鍍膜樣品提拉鍍膜領(lǐng)域，特別涉及一種浸潰提拉鍍膜設(shè)備以及浸潰提拉鍍膜方法。
[0002]
【背景技術(shù)】
[0003]目前，在納米材料的研究及應(yīng)用領(lǐng)域中，納米薄膜材料作為重點研究對象，正在被應(yīng)用于光學(xué)器件、半導(dǎo)體、太陽能光伏等領(lǐng)域。作為納米薄膜材料制備的方法之一，溶膠-凝膠浸潰提拉法以其簡單的工藝、低廉的成本優(yōu)勢，被廣達研究者普遍采用。但是，由于這一類設(shè)備在關(guān)鍵的鍍膜環(huán)節(jié)中存在諸多缺點，且目前市場上的鍍膜設(shè)備主要有兩類，一類是國外進口設(shè)備，價格高昂；另一類為國產(chǎn)設(shè)備如鋼線卷繞垂吊式提拉法，提拉過程中樣品易振動，極大影響了鍍膜效果，而且長期使用會導(dǎo)致鋼線磨損、疲勞斷裂，對樣品造成損壞；又如液壓驅(qū)動方式可以實現(xiàn)直線提拉運動，但是運行不平穩(wěn)，速度精度更無法精密控制，導(dǎo)致速度波動大，鍍膜厚度不均勻。
[0004]浸潰提拉鍍膜設(shè)備出現(xiàn)了很多這一類的技術(shù)上的改進，btia,專利號為“201010515528.4”，名稱為“一種數(shù)控提拉式鍍膜機”的中國專利提出了一種數(shù)控提拉式鍍膜機，其包括機架和旋轉(zhuǎn)平臺，旋轉(zhuǎn)平臺對應(yīng)四個工位設(shè)置，其中第三工位為提拉鍍膜工位，機架上設(shè)有與第三工位匹配的溶液提拉裝置，溶液提拉裝置設(shè)有提升進給單元，提升進給單元上連接有拖板，拖板上設(shè)有固定溶液容器的料桶架，提升進給單元還連接有驅(qū)動機構(gòu)；鍍膜時提升進給單元再緩慢下降進行鍍膜。
[0005]上述專利采用載體不動而鍍膜溶液向下運動離開載體方式進行鍍膜。然而該專利提供的數(shù)控提拉式鍍膜機不能進行全自動多參數(shù)設(shè)置，并達到較優(yōu)的鍍膜效果。
[0006]因此，研究一種由全自動多參數(shù)控制的高精度的浸潰提拉鍍膜設(shè)備，來提高樣品表面的鍍膜效果已為急需。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]為了克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，本發(fā)明旨在提供一種在提拉鍍膜過程垂直無偏移、液面無振動，且納米薄膜膜層更均勻且無條紋的浸潰提拉鍍膜設(shè)備。
為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種浸潰提拉鍍膜設(shè)備，包括:提拉機構(gòu)，包括驅(qū)動電機以及精密直線傳動裝置，所述精密直線傳動裝置與所述驅(qū)動電機相連；樣品夾持機構(gòu)，其一端與所述提拉機構(gòu)相連，另一端與一待鍍膜的樣品相連；以及全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)，與所述提拉機構(gòu)相連；其中，所述驅(qū)動電機的轉(zhuǎn)動帶動所述精密直線傳動裝置在垂直方向的直線運動，所述精密直線傳動裝置在垂直方向的直線運動帶動所述樣品夾持機構(gòu)在垂直方向的直線運動，進而實現(xiàn)將待鍍膜樣品進入或脫離鍍膜溶液；所述全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)控制所述待鍍膜樣品的鍍膜參數(shù)。
[0008]較佳地，所述精密直線傳動裝置包括: 基座;
直線滑動導(dǎo)軌，固定在所述基座上，所述直線滑動導(dǎo)軌包括導(dǎo)軌及滑塊，所述滑塊在所述導(dǎo)軌上滑動；
高精度絲桿裝置，包括絲桿及螺母，所述螺母與所述滑塊相連，且所述絲桿的一端與所述驅(qū)動電機相連；
絲桿支撐座，安裝在所述基座上，并置于所述絲桿的兩端，通過所述絲桿支撐座固定并支撐所述絲桿轉(zhuǎn)動；
其中，所述驅(qū)動電機的轉(zhuǎn)動帶動所述絲桿轉(zhuǎn)動，所述絲桿的轉(zhuǎn)動帶動所述螺母和所述滑塊在垂直方向的直線運動。所述螺母和所述滑塊在驅(qū)動電機的帶動下將高精度絲桿的旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)換成直線下降或提拉運動。
[0009]較佳地，所述精密直線傳動裝置還包括第一連接塊，所述螺母與所述滑塊通過所述第一連接塊連接。
[0010]較佳地，所述精密直線傳動裝置還可以設(shè)置為另外一種方式，且該精密直線傳動裝置包括:
兩個支撐座；
兩塊端板，且所述兩塊端板分別設(shè)置在所述精密直線傳動裝置的兩端；
一帶有絲桿螺母的研磨級精密靜音絲桿，所述研磨級精密靜音絲桿垂直固定在所述精密直線傳動裝置的中間位置，所述研磨級精密靜音絲桿的兩端通過所述支撐座分別固定在所述兩塊端板上；所述研磨級精密靜音絲桿兩側(cè)等距離各安裝一條直線光軸，所述直線光軸分別與所述兩塊端板連接，且所述直線光軸上分別設(shè)置有一直線軸承；
其中，通過一第二連接塊將所述絲桿螺母和兩側(cè)的直線軸承連接并固定在一起，所述研磨級精密靜音絲桿的末端連接一驅(qū)動電機；通過所述驅(qū)動電機的轉(zhuǎn)動帶動所述研磨級精密靜音絲桿的轉(zhuǎn)動，并通過所述絲桿螺母和連接固定的直線軸承在垂直方向的直線運動。
[0011]較佳地，所述浸潰提拉鍍膜設(shè)備還包括儀器外殼和安裝底座，所述安裝底座安裝固定驅(qū)動電機和精密直線傳動裝置，且所述提拉機構(gòu)以及全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)，設(shè)置在所述儀器外殼內(nèi)；該儀器外殼避免所述提拉機構(gòu)以及全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)暴露于空氣中，防止被化學(xué)氣氛腐蝕。
[0012]較佳地，所述儀器外殼上設(shè)置有垂直提拉孔槽，所述第一連接塊或所述第二連接塊通過所述垂直提拉孔槽伸展至所述儀器外殼外部。
[0013]較佳地，所述樣品夾持機構(gòu)包括水平懸臂、垂直提拉桿以及樣品夾具；其中，所述水平懸臂與所述第一連接塊或所述第二連接塊伸展至所述儀器外殼外部的一端相連，所述垂直提拉桿垂直固定于所述水平懸臂上，且所述垂直提拉桿的下端固定所述樣品夾具，待鍍膜的樣品與所述樣品夾具相連。
[0014]較佳地，所述浸潰提拉鍍膜設(shè)備整體為“L”型結(jié)構(gòu)，所述“L”型浸潰提拉鍍膜設(shè)備的豎直部分放置所述提拉機構(gòu)和所述樣品夾持機構(gòu)，所述“L”型浸潰提拉鍍膜設(shè)備的水平部分為所述安裝底座和所述全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)；所述樣品夾具為夾口可調(diào)型夾具或一體式“Π ”型夾具，且所述浸潰提拉鍍膜設(shè)備的樣品夾具為單樣品夾具或多樣品夾具，所述垂直提拉桿的數(shù)量與所述樣品夾具的數(shù)量一致。
[0015]較佳地，所述全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)包括電路系統(tǒng)和觸摸屏，且所述電路系統(tǒng)控制所述待鍍膜樣品的鍍膜參數(shù)，所述觸摸屏顯示控制界面并進行參數(shù)選擇控制；且所述全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)采用PLC實現(xiàn)對提拉鍍膜流程的控制，完成提拉鍍膜步驟。
[0016]較佳地，所述鍍膜參數(shù)包括所述提拉鍍膜流程中的下降速度、浸潰時間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數(shù)、不同次數(shù)的間隔時間；且所述提拉鍍膜流程中的各個參數(shù)均連續(xù)可調(diào)，實現(xiàn)整個提拉鍍膜過程對不同鍍膜需求的控制。
[0017]本發(fā)明還提供了一種浸潰提拉鍍膜設(shè)備的浸潰提拉鍍膜方法，其具體步驟包括:
(1)、將待鍍膜樣品固定在樣品夾持機構(gòu)上，并將盛有鍍膜溶液的器皿放置在待鍍膜樣品的正下方；
(2)、啟動提拉機構(gòu)，通過控制提拉機構(gòu)的升降調(diào)節(jié)樣品夾持機構(gòu)的起始位置；
(3)、通過所述全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)設(shè)置鍍膜程序的參數(shù)；
(4)、鍍膜樣品自動鍍膜，鍍膜程序設(shè)定后，進入自動運行界面，待鍍膜樣品按照設(shè)定好的程序自動運行，完成鍍膜工藝的下降、浸潰、提拉鍍膜三個過程，鍍膜過程進行時，各個參數(shù)的實際運行值實時顯示在自動運行界面，整個鍍膜過程完成后，鍍膜樣品回到起始位置。
[0018]通過對全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)中所述的參數(shù)進行調(diào)節(jié)控制，可以調(diào)控鍍膜樣品表面納米薄膜材料的厚度。
[0019]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果如下:
1、采用高精度絲桿配合直線滑動導(dǎo)軌的精密直線傳動裝置，且高精度絲桿的安裝采用精密軸承支撐座支撐，鍍膜過程為垂直的下降、提拉運動，不會向任何方向偏移。
[0020]2、全自動多參數(shù)鍍膜系統(tǒng)采用PLC實現(xiàn)對提拉鍍膜流程的控制，且全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)為提拉鍍膜流程中的下降速度、浸潰時間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數(shù)、不同次數(shù)的間隔時間的參數(shù)進行全自動精密控制，且各參數(shù)均連續(xù)可調(diào)，實現(xiàn)整個鍍膜過程的全自動運行，節(jié)省人力工時，極大提高了工作效率，也避免了由于人工操作不當(dāng)、鍍膜時間不夠均勻，使鍍膜樣品的鍍膜膜層更加均勻。
[0021]3、浸潰提拉鍍膜設(shè)備采用儀器外殼，將全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)和精密直線傳動裝置均包裹在外殼內(nèi)保護起來，防止因化學(xué)氣氛對部件的腐蝕，提高了整體使用壽命。
[0022]4、驅(qū)動電機帶動的精密直線傳動裝置，高低速均可平穩(wěn)運行，無振動現(xiàn)象傳導(dǎo)至鍍膜樣品，從而鍍膜樣品在提拉鍍膜過程中液面無振動，納米薄膜表面更均勻、無條紋產(chǎn)生，并確保鍍膜樣品表面的鍍膜效果。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0023]圖1為本發(fā)明L型結(jié)構(gòu)浸潰提拉鍍膜設(shè)備的單夾具正面視圖；
圖2為本發(fā)明實施的第一種精密直線傳動裝置的剖面圖；
圖3為本發(fā)明實施的第二種精密直線傳動裝置的剖面圖；
圖4為本發(fā)明L型結(jié)構(gòu)浸潰提拉鍍膜設(shè)備的側(cè)面視圖；
圖5為本發(fā)明L型結(jié)構(gòu)浸潰提拉鍍膜設(shè)備的雙夾具正面視圖；
圖6為本發(fā)明浸潰提拉鍍膜設(shè)備的一體式“Π”型夾具側(cè)面視圖；
圖7為本發(fā)明浸潰提拉鍍膜設(shè)備的夾口可調(diào)型夾具的側(cè)面視圖。
[0024]符號列表:
101-觸摸屏，102-鍍膜樣品，103-樣品夾具，104-垂直提拉桿，105-水平懸臂，106-垂直提拉孔槽，107-第一儀器外殼，108-第二儀器外殼，109-第一連接塊，110-安裝底座，111-提拉機構(gòu)；201-螺母，202-絲桿，203-滑塊，204-導(dǎo)軌，205-基座;206_端板，207-研磨級精密靜音絲桿，208-絲桿螺母，209-支撐座，210-直線光軸，211-直線軸承，212-第二連接塊；301-橡膠墊，302-頂緊螺栓，303-夾具固定部分，304-滑動軸，305-彈簧，306-緊固螺栓，307-夾具活動部分。
[0025]【具體實施方式】:
參見示出本發(fā)明實施例的附圖，下文將更詳細的描述本發(fā)明。然而，本發(fā)明可以以不同形式、規(guī)格等實現(xiàn)，并且不應(yīng)解釋為受在此提出之實施例的限制。相反，提出這些實施例是為了達成充分及完整公開，并且使更多的有關(guān)本【技術(shù)領(lǐng)域】的人員完全了解本發(fā)明的范圍。這些附圖中，為清楚可見，可能放大或縮小了相對尺寸。
[0026]實施例1
現(xiàn)參考圖1至圖4詳細描述根據(jù)本發(fā)明實施的浸潰提拉鍍膜設(shè)備，如圖1所示，本實施例提供的浸潰提拉鍍膜設(shè)備整體為“L”型結(jié)構(gòu)，該“L”型浸潰提拉鍍膜設(shè)備的豎直部分放置提拉機構(gòu)111和樣品夾持機構(gòu)，該“L”型浸潰提拉鍍膜設(shè)備的水平部分為底座平臺和全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)；本實施例提供的一種L型結(jié)構(gòu)的單夾具浸潰提拉鍍膜設(shè)備，其包括:提拉機構(gòu)111，包括驅(qū)動電機以及精密直線傳動裝置，該精密直線傳動裝置與驅(qū)動電機相連；樣品夾持機構(gòu)，其一端與提拉機構(gòu)111相連，另一端與一待鍍膜的樣品相連；以及全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)，該全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)與提拉機構(gòu)111相連；其中，該驅(qū)動電機的轉(zhuǎn)動帶動該精密直線傳動裝置在垂直方向的直線運動，該精密直線傳動裝置在垂直方向的直線運動帶動該樣品夾持機構(gòu)在垂直方向的直線運動，進而實現(xiàn)將待鍍膜樣品進入或脫離鍍膜溶液；且全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)控制待鍍膜樣品的鍍膜參數(shù)。
[0027]其中，該全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)采用PLC實現(xiàn)對提拉鍍膜流程的控制，完成提拉鍍膜步驟；該全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)包括電路系統(tǒng)和觸摸屏101，且電路系統(tǒng)控制待鍍膜樣品的鍍膜參數(shù)，觸摸屏101顯示控制界面并進行參數(shù)選擇控制。
[0028]并且，該全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)采用PLC實現(xiàn)對鍍膜流程中的下降速度、浸潰時間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數(shù)、不同次數(shù)的間隔時間這些參數(shù)進行全自動精密控制，且各參數(shù)均連續(xù)可調(diào)，有利于實現(xiàn)整個鍍膜過程的全自動運行，節(jié)省人力工時，極大提高工作效率。
[0029]如圖2所示，該精密直線傳動裝置包括基座205、直線滑動導(dǎo)軌、高精度絲桿裝置以及絲桿支撐座，其中，直線滑動導(dǎo)軌固定在基座205上，直線滑動導(dǎo)軌包括導(dǎo)軌204及滑塊203，該滑塊203在導(dǎo)軌204上滑動；該高精度絲桿裝置包括絲桿202及螺母201，該螺母201與滑塊203通過第一連接塊109連接，絲桿202的一端與驅(qū)動電機相連；絲桿支撐座安裝在該基座205上，并置于該絲桿202的兩端，用于固定并支撐絲桿202的轉(zhuǎn)動；并且，驅(qū)動電機的轉(zhuǎn)動帶動絲桿202轉(zhuǎn)動，絲桿202的轉(zhuǎn)動帶動螺母201和滑塊203在垂直方向的直線運動，且精密直線傳動裝置通過螺母201和滑塊203將其旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)換成直線下降或提拉運動。
[0030]其中，浸潰提拉鍍膜設(shè)備還包括儀器外殼和安裝底座，該驅(qū)動電機和精密直線傳動裝置安裝固定在安裝底座上，其中該儀器外殼包括第一儀器外殼107及第二儀器外殼108，且該第二儀器外殼108上設(shè)置有垂直提拉孔槽106，其中第二儀器外殼108將精密直線傳動裝置包裹在內(nèi)部；該第一儀器外殼107將全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)和安裝底座110包裹于內(nèi)部，防止化學(xué)氣氛對各個部件的腐蝕，有效保護各個部件，提高其使用壽命；第一連接塊109通過垂直提拉孔槽106伸展至第二儀器外殼108內(nèi)。且第一儀器外殼107為該浸潰提拉鍍膜設(shè)備的底座平臺，底座平臺上可放置鍍膜溶液。
[0031]另外，該樣品夾持機構(gòu)包括水平懸臂105、垂直提拉桿104及樣品夾具103，水平懸臂105與第一連接塊109延伸至第二儀器外殼108外部的一端相連，垂直提拉桿104垂直固定于水平懸臂105上，且垂直提拉桿104下端固定樣品夾具103。通過驅(qū)動電機轉(zhuǎn)動驅(qū)動絲桿202轉(zhuǎn)動，使直線滑動導(dǎo)軌沿垂直方向做直線運動，并帶動水平懸臂105、樣品夾具103同時動作，在垂直方向上進行上升、下降的直線運動。從而將鍍膜樣品102置于樣品夾具103上，實現(xiàn)對樣品進行浸潰提拉鍍膜操作。并且，該驅(qū)動電機帶動精密直線傳動裝置，精密直線傳動裝置可高低速運行，且運行平穩(wěn)，無振動現(xiàn)象傳導(dǎo)至鍍膜樣品，從而鍍膜溶液液面不振動，確保鍍膜效果較好，覆膜表面更均勻且無條紋產(chǎn)生；其中，待鍍膜溶液為各種納米溶膠材料、微乳液或納米材料分散液等，且該鍍膜材料并不以此為限，可根據(jù)不同的鍍膜需要選擇不同的鍍膜材料。
[0032]具體實施過程中，該精密直線傳動裝置不僅僅限于本實施例提出的圖2所示的第一種精密直線傳動裝置，如圖3所示，還可以通過其他形式的精密直線傳動裝置進行替換，具體的，該第二種精密直線傳動裝置包括兩個支撐座209、兩塊端板206和一研磨級精密靜音絲桿207，該研磨級精密靜音絲桿207上還包括一絲桿螺母208，該絲桿螺母208將該研磨級精密靜音絲桿207的旋轉(zhuǎn)運動轉(zhuǎn)變?yōu)橹本€運動；其中，該兩塊端板206分別設(shè)置在精密直線傳動裝置的兩端；該研磨級精密靜音絲桿207垂直固定在精密直線傳動裝置的中間位置，該研磨級精密靜音絲桿207的兩端分別通過支撐座209固定在兩塊端板206上；該研磨級精密靜音絲桿207兩側(cè)等距離各安裝一條直線光軸210，該直線光軸210上穿套有直線軸承211，直線軸承211可在直線光軸210上往復(fù)滑動，且該兩條直線光軸210的兩端分別固定在兩塊端板206上；并通過采用一第二連接塊212將絲桿螺母208及兩側(cè)的直線軸承211連接并固定在一起，研磨級精密靜音絲桿207的末端連接驅(qū)動電機。
[0033]在具體實施過程中，如圖3所示，該精密直線傳動裝置連接驅(qū)動電機，并將該精密直線傳動裝置固定在第二儀器外殼108,該第二儀器外殼108上有一道垂直提拉孔槽106,第二連接塊212通過該垂直提拉孔槽106伸展之第二儀器外殼108外部，該第二連接塊212固定水平懸臂105，垂直提拉桿104垂直固定在水平懸臂105上，該垂直提拉桿104下端固定樣品夾具103。通過驅(qū)動電機轉(zhuǎn)動驅(qū)動該研磨級精密靜音絲桿207轉(zhuǎn)動,該研磨級精密靜音絲桿207上的絲桿螺母208即連接固定的直線軸承211實現(xiàn)垂直方向的直線運動，并帶動水平懸臂105、樣品夾具103同時動作，在垂直方向上進行上升、下降的直線運動，從而將待鍍膜樣品置于樣品夾具103上，則可實現(xiàn)對待鍍膜樣品進行浸潰提拉鍍膜操作。
[0034]實施例2
如圖5所示為一體式“Π”型夾具的浸潰提拉鍍膜設(shè)備，一體式“Π”型夾具包括垂體提拉桿104、樣品夾具103、橡膠墊301和頂緊螺栓302。Π型夾具內(nèi)側(cè)設(shè)置有一橡膠墊301，頂緊螺栓302將鍍膜樣品102固定于Π型夾具內(nèi)，由橡膠墊保護鍍膜樣品，頂緊螺栓302固定并夾緊鍍膜樣品102，通過全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)控制鍍膜樣品在垂直提拉桿104上穩(wěn)定垂直運動實現(xiàn)對鍍膜樣品102的提拉鍍膜。[0035]又如圖6所示為夾口可調(diào)型夾具的浸潰提拉鍍膜設(shè)備，該夾口可調(diào)型夾具包括夾具固定部分303和夾具活動部分307，固定夾口夾具303安裝在一垂直提拉桿104上；活動夾口夾具307通過滑動軸304與固定夾口夾具303相連接，且固定夾口夾具303和活動夾口夾具307通過其上設(shè)置有彈簧305的緊固螺栓306來調(diào)節(jié)夾口距離從而夾持鍍膜樣品102進行鍍膜操作，并根據(jù)不同鍍膜樣品的厚度可隨意調(diào)節(jié)，該夾口可調(diào)型夾具設(shè)置有橡膠墊301，該橡膠墊301通過夾口與鍍膜樣品102接觸，防止因固定力度過大而損壞鍍膜樣品102。
[0036]在本實施例中，樣品夾具和垂直提拉桿可隨浸潰提拉鍍膜設(shè)備的需要使其數(shù)量改變。如圖3至圖6所示，本發(fā)明分別提供的為“L”型浸潰提拉鍍膜設(shè)備雙夾具、夾口可調(diào)型夾具或一體式“Π”型夾具浸潰提拉鍍膜設(shè)備，也可選用多夾具或其他類型的浸潰提拉鍍膜設(shè)備，且配合相同數(shù)量的垂直提拉桿同時進行鍍膜樣品的提拉鍍膜。
[0037]以下對浸潰提拉鍍膜設(shè)備的安裝方法進行說明，本發(fā)明提供的浸潰提拉鍍膜設(shè)備的安裝方法如下:
提拉機構(gòu)及其安裝底座安裝固定在提拉機構(gòu)殼體內(nèi)部，精密直線傳動裝置上的第一連接塊突出部分穿過提拉機構(gòu)殼體前面的垂直提拉孔槽水平伸出至殼體外部，水平懸臂固定在第一連接塊的突出部分，確保水平懸臂與提拉機構(gòu)垂直。而樣品夾持機構(gòu)通過垂直提拉桿安裝固定在水平懸臂上，并確保與水平懸臂垂直，同時確保與提拉機構(gòu)平行。全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)的電路系統(tǒng)安裝在儀器外殼的底座平臺內(nèi)部，底座平臺的前斜面安裝電源開關(guān)和觸摸顯示屏。底座平臺上方用于放置鍍膜溶液。且底座平臺底部四角安裝等高的橡膠腳墊，確保設(shè)備整體放置的整體水平以及穩(wěn)固性。
[0038]利用本發(fā)明提供的浸潰提拉鍍膜設(shè)備對待鍍膜樣品進行鍍膜的具體步驟如下:
(1)、開啟儀器電源，儀器進入工作狀態(tài)，在觸摸屏上進行控制操作；
(2)、首先進入手動操作界面，按下“上升”或“下降”按鈕，調(diào)整水平懸臂和樣品夾具到一定位置作為起始位置。
[0039](3)、將待鍍膜樣品固定在樣品夾具上，并將盛有鍍膜溶液的器皿放置在待鍍膜樣品的正下方；
(4)、在觸摸屏上的參數(shù)設(shè)置界面進行鍍膜程序的參數(shù)設(shè)置，編制自動鍍膜程序；
(5)、鍍膜程序設(shè)置后，進入自動運行界面，按下“開始”按鈕后，待鍍膜樣品按照設(shè)定好的程序自動運行，完成鍍膜工藝的下降、浸潰、提拉鍍膜三個過程，且鍍膜過程進行時，各參數(shù)的實際運行值實時顯示在自動運行界面。整個鍍膜過程完成后，鍍膜樣品回到起始位置。
[0040](6)、此時鍍膜樣品表面就形成一層鍍膜材料，且可通過對各個參數(shù)的調(diào)節(jié)控制，調(diào)控樣品表面鍍膜溶液的厚度。
[0041]然而應(yīng)該認識到，本發(fā)明并不以此為限，樣品夾具、垂直提拉桿和鍍膜步驟還可以以其他方式和數(shù)量出現(xiàn)，只要其能將本發(fā)明的提拉鍍膜效果提高即可。
[0042]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變形而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變形屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動在內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種浸潰提拉鍍膜設(shè)備，其特征在于，包括: 提拉機構(gòu)，包括驅(qū)動電機以及精密直線傳動裝置，所述精密直線傳動裝置與所述驅(qū)動電機相連； 樣品夾持機構(gòu)，其一端與所述提拉機構(gòu)相連，另一端與一待鍍膜的樣品相連；以及 全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)，與所述提拉機構(gòu)相連； 其中，所述驅(qū)動電機的轉(zhuǎn)動帶動所述精密直線傳動裝置在垂直方向的直線運動，所述精密直線傳動裝置在垂直方向的直線運動帶動所述樣品夾持機構(gòu)在垂直方向的直線運動，進而實現(xiàn)將待鍍膜樣品進入或脫離鍍膜溶液；所述全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)控制所述待鍍膜樣品的鍍膜參數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的浸潰提拉鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述精密直線傳動裝置包括: 基座； 直線滑動導(dǎo)軌，固定在所述基座上，所述直線滑動導(dǎo)軌包括導(dǎo)軌及滑塊，所述滑塊在所述導(dǎo)軌上滑動； 高精度絲桿裝置，包括絲桿及螺母，所述螺母與所述滑塊相連，且所述絲桿的一端與所述驅(qū)動電機相連； 絲桿支撐座，安裝在所述基座上，并置于所述絲桿的兩端，通過所述絲桿支撐座固定并支撐所述絲桿轉(zhuǎn)動； 其中，所述驅(qū)動電機的轉(zhuǎn)動帶動所述絲桿轉(zhuǎn)動，通過所述絲桿的轉(zhuǎn)動帶動所述螺母和所述滑塊在垂直方向的直線運動。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的浸潰提拉鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述精密直線傳動裝置還包括第一連接塊，所述螺母與所述滑塊通過所述第一連接塊連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的浸潰提拉鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述精密直線傳動裝置包括: 兩個支撐座； 兩塊端板，且所述兩塊端板分別設(shè)置在所述精密直線傳動裝置的兩端； 一帶有絲桿螺母的研磨級精密靜音絲桿，所述研磨級精密靜音絲桿垂直固定在所述精密直線傳動裝置的中間位置，所述研磨級精密靜音絲桿的兩端通過所述支撐座分別固定在所述兩塊端板上；所述研磨級精密靜音絲桿兩側(cè)等距離各安裝一條直線光軸，所述直線光軸分別與所述兩塊端板連接，且所述直線光軸上分別設(shè)置有一直線軸承； 其中，通過一第二連接塊將所述絲桿螺母和兩側(cè)的直線軸承連接并固定在一起，所述研磨級精密靜音絲桿的末端連接一驅(qū)動電機；通過所述驅(qū)動電機的轉(zhuǎn)動帶動所述研磨級精密靜音絲桿的轉(zhuǎn)動，并通過所述絲桿螺母和連接固定的直線軸承在垂直方向的直線運動。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2或4所述的浸潰提拉鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述浸潰提拉鍍膜設(shè)備還包括儀器外殼和安裝底座，所述安裝底座安裝固定驅(qū)動電機和精密直線傳動裝置，且所述提拉機構(gòu)以及全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)，設(shè)置在所述儀器外殼內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的浸潰提拉鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述儀器外殼上設(shè)置有垂直提拉孔槽，所述第一連接塊或所述第二連接塊通過所述垂直提拉孔槽伸展至所述儀器外殼外部。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的浸潰提拉鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述樣品夾持機構(gòu)包括水平懸臂、垂直提拉桿以及樣品夾具；其中，所述水平懸臂與所述第一連接塊或所述第二連接塊伸展至所述儀器外殼外部的一端相連，所述垂直提拉桿垂直固定于所述水平懸臂上，且所述垂直提拉桿的下端固定所述樣品夾具，待鍍膜的樣品與所述樣品夾具相連。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的浸潰提拉鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述浸潰提拉鍍膜設(shè)備整體為“L”型結(jié)構(gòu)，所述“L”型浸潰提拉鍍膜設(shè)備的豎直部分放置所述提拉機構(gòu)和所述樣品夾持機構(gòu)，所述“L”型浸潰提拉鍍膜設(shè)備的水平部分為所述安裝底座和所述全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)；所述樣品夾具為夾口可調(diào)型夾具或一體式“ Π ”型夾具，且所述浸潰提拉鍍膜設(shè)備的樣品夾具為單樣品夾具或多樣品夾具，所述垂直提拉桿的數(shù)量與所述樣品夾具的數(shù)量—致。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的浸潰提拉鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)包括電路系統(tǒng)和觸摸屏，所述電路系統(tǒng)控制所述待鍍膜樣品的鍍膜參數(shù)，所述觸摸屏顯示控制界面并進行 參數(shù)選擇操作。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的浸潰提拉鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述鍍膜參數(shù)包括所述提拉鍍膜流程中的下降速度、浸潰時間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數(shù)、不同次數(shù)的間隔時間；且所述提拉鍍膜流程中的各個參數(shù)均連續(xù)可調(diào)。
11.一種浸潰提拉鍍膜方法，利用如權(quán)利要求1所述的浸潰提拉鍍膜設(shè)備進行浸潰提拉鍍膜，其特征在于，包括以下步驟: (1)、將待鍍膜樣品固定在樣品夾持機構(gòu)上，并將盛有鍍膜溶液的器皿放置在待鍍膜樣品的正下方； (2)、啟動提拉機構(gòu)，通過控制提拉機構(gòu)的升降調(diào)節(jié)樣品夾持機構(gòu)的起始位置； (3)、通過所述全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)設(shè)置鍍膜程序的參數(shù)； (4 )、鍍膜樣品自動鍍膜，鍍膜程序設(shè)定后，進入自動運行界面，待鍍膜樣品按照設(shè)定好的程序自動運行，完成鍍膜工藝的下降、浸潰、提拉鍍膜三個過程，鍍膜過程進行時，各個參數(shù)的實際運行值實時顯示在自動運行界面，整個鍍膜過程完成后，鍍膜樣品回到起始位置。
【文檔編號】B05C13/00GK103736623SQ201310725440
【公開日】2014年4月23日 申請日期:2013年12月25日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月25日
【發(fā)明者】徐淑雷 申請人:上海三研科技有限公司