涂覆裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明提供一種涂覆裝置。該涂覆裝置包括蒸發(fā)部、熱分解部、沉積室、真空泵和排氣管。沉積室包括上部分、面對(duì)上部分的下部分以及將下部分和上部分彼此連接的側(cè)壁部分，該側(cè)壁部分包括入口、第一出口、第二出口、第三出口和第四出口。排氣管包括連接到第一出口和第二出口的第一輔助管、連接到第三出口和第四出口的第二輔助管、連接到第一輔助管和第二輔助管的中間管、以及連接到中間管的主管。真空泵被配置為通過(guò)排氣管從沉積室排出沉積材料的單體中的沒(méi)有被沉積的部分。
【專(zhuān)利說(shuō)明】涂覆裝直

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明的示例性實(shí)施方式涉及一種涂覆裝置。更具體地，本發(fā)明的示例性實(shí)施方式涉及聚對(duì)二甲苯涂覆裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]通常，例如，諸如印刷電路板、醫(yī)療設(shè)備、顯示面板等的制造品包括用于增加制造品的抗腐蝕性、防潮性能、防氧化性能等的保護(hù)層。保護(hù)層可以用作制造品的最外層。
[0003]保護(hù)層可以根據(jù)其區(qū)域而具有不同的厚度。保護(hù)層的厚度的差異會(huì)導(dǎo)致關(guān)于保護(hù)層的弱點(diǎn)。例如，腐蝕和氧化會(huì)發(fā)生在制造品的其中保護(hù)層的厚度相對(duì)薄的區(qū)域中。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的示例性實(shí)施方式提供一種能夠形成均勻保護(hù)層的涂覆裝置。
[0005]本發(fā)明的示例性實(shí)施方式提供一種涂覆裝置，該涂覆裝置包括蒸發(fā)部、熱分解部、沉積室、真空泵和排氣管。蒸發(fā)部被配置為蒸發(fā)沉積材料的二聚物，熱分解部被配置為使蒸發(fā)的沉積材料的二聚物熱分解為單體。
[0006]沉積室包括上部分、面對(duì)上部分的下部分以及使上部分和下部分彼此連接的側(cè)壁部分。多個(gè)對(duì)象設(shè)置在下部分上并被配置為在其上接收沉積材料的單體，側(cè)壁部分包括設(shè)置在下部分和上部分之間的入口、第一出口、第二出口、第三出口和第四出口。
[0007]排氣管包括連接到第一出口和第二出口的第一輔助管、連接到第三出口和第四出口的第二輔助管、連接到第一輔助管和第二輔助管的中間管、以及連接到中間管的主管。真空泵被配置為在蒸發(fā)部和排氣管之間提供用于沉積材料的流體路徑，并被配置為通過(guò)排氣管從沉積室排出沉積材料的單體中的沒(méi)有被沉積的部分。
[0008]對(duì)象基本上平行于下部分，并在下部分和上部分之間以規(guī)則的間距彼此間隔開(kāi)。
[0009]對(duì)象分別被多個(gè)支座支撐。冷卻器件分別設(shè)置在支座處以控制支座周?chē)某练e溫度。
[0010]入口面對(duì)第一出口、第二出口、第三出口和第四出口。擴(kuò)散板面對(duì)入口設(shè)置在沉積室內(nèi)部,并且擴(kuò)散板包括面對(duì)入口的彎曲部分。
[0011]中間管具有比第一輔助管的截面面積和第二輔助管的截面面積更大的截面面積，并且主管具有比中間管的截面面積更大的截面面積。第一輔助管、第二輔助管和中間管的每個(gè)形成為彎曲形狀并具有至少一個(gè)彎曲部分。
[0012]根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式，提供一種涂覆裝置。該涂覆裝置包括：原材料供應(yīng)部；蒸發(fā)部，配置為蒸發(fā)由原材料供應(yīng)部以粉末形式供應(yīng)到其的沉積材料的二聚物，其中原材料供應(yīng)部通過(guò)第一連接管連接到蒸發(fā)部；熱分解部，通過(guò)第二連接管連接到蒸發(fā)部并配置為使蒸發(fā)的沉積材料的二聚物熱分解為單體；沉積室，通過(guò)第三連接管連接到熱分解部。沉積室包括：下部分；面對(duì)下部分的上部分；側(cè)壁部分，使下部分和上部分彼此連接；平臺(tái)，設(shè)置在下部分上且包括固定到其上的多個(gè)支座，該多個(gè)支座配置為分別支撐多個(gè)對(duì)象，該多個(gè)對(duì)象配置為在其上接收沉積材料的單體；多個(gè)冷卻器件，提供到支座并被配置為降低支座周?chē)臏囟龋灰约凹訜崞骷?，設(shè)置在沉積室的側(cè)壁部分處。側(cè)壁部分包括設(shè)置在下部分與上部分之間的入口、第一出口、第二出口、第三出口和第四出口。
[0013]此外，涂覆裝置還包括:空氣冷卻器件，設(shè)置在蒸發(fā)部的外表面上，并被配置為冷卻蒸發(fā)部且在其中包括多個(gè)排氣孔；第四連接管，包括連接到第一出口和第二出口的第一輔助管、連接到第三出口和第四出口的第二輔助管、連接到第一輔助管和第二輔助管的中間管以及連接到中間管的主管；冷阱(cold trap)，配置為冷卻從沉積室排出的被蒸發(fā)的沉積材料的單體并通過(guò)第四連接管的主管連接到沉積室；以及真空泵，通過(guò)第五連接管連接到冷阱。真空泵配置為通過(guò)第四連接管從沉積室排出沉積材料的單體的沒(méi)有被沉積的部分，并被配置為通過(guò)排出沉積材料的單體的部分而在蒸發(fā)部與排氣管之間產(chǎn)生用于沉積材料的流體路徑。
[0014]此外，涂覆裝置還包括可操作地連接到原材料供應(yīng)部、熱分解部、蒸發(fā)部和真空泵中的每個(gè)的控制部?？刂撇勘慌渲脼榭刂普舭l(fā)部和熱分解部的溫度，并被配置為控制來(lái)自原材料供應(yīng)部的二聚物的供應(yīng)。此外，控制部被配置為控制真空泵的抽吸強(qiáng)度。根據(jù)以上，排氣管形成均勻的排放路徑而與沉積室的區(qū)域無(wú)關(guān)。由于該涂覆裝置，保護(hù)層均勻地形成在對(duì)象上，而與對(duì)象的位置無(wú)關(guān)。
[0015]設(shè)置在平臺(tái)上的冷卻器件防止對(duì)象被加熱并控制平臺(tái)周?chē)臏囟纫蕴岣呔蹖?duì)二甲苯單體的沉積效率。設(shè)置在沉積室上的冷卻器件防止聚對(duì)二甲苯單體沉積在沉積室的內(nèi)側(cè)壁上。
[0016]擴(kuò)散板將通過(guò)沉積室的入口進(jìn)入的聚對(duì)二甲苯單體擴(kuò)散到沉積室的整個(gè)空間。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0017]當(dāng)結(jié)合附圖考慮時(shí)，本發(fā)明的示例性實(shí)施方式能夠從以下的詳細(xì)描述被更詳細(xì)地理解，附圖中:
[0018]圖1是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的涂覆裝置的方框圖；
[0019]圖2是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的沉積室和排氣管的透視圖；
[0020]圖3是示出圖2所示的沉積室的流體路徑的視圖；
[0021 ] 圖4是圖2所示的沉積室的局部切除透視圖；
[0022]圖5是示出圖4所示的用于沉積的對(duì)象的透視圖；
[0023]圖6是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的排氣管的視圖；
[0024]圖7A至圖7C是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的沉積室的入口區(qū)域的視圖；
[0025]圖8A和圖8B是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的擴(kuò)散板的視圖；和
[0026]圖9是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的蒸發(fā)部的透視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0027]將理解，當(dāng)元件或?qū)颖环Q(chēng)為在另一元件或?qū)印吧稀?、“連接到”或“耦接到”另一元件或?qū)訒r(shí)，它可以直接在另一元件或?qū)由?、直接連接到或耦接到另一元件或?qū)樱蛘呖梢源嬖诰娱g元件或?qū)?。相同的附圖標(biāo)記始終指代相同的元件。當(dāng)在這里使用時(shí)，術(shù)語(yǔ)“和/或”包括一個(gè)或多個(gè)相關(guān)所列項(xiàng)目的任意和所有組合。
[0028]這里使用的術(shù)語(yǔ)僅是為了描述特定實(shí)施方式的目的，而不意欲限制本發(fā)明。當(dāng)在這里使用時(shí)，單數(shù)形式也旨在包括復(fù)數(shù)形式，除非上下文另外清晰地指示。還將理解，當(dāng)在本說(shuō)明書(shū)中使用時(shí)，術(shù)語(yǔ)“包括”和/或“包含”指定所述特征、整體、步驟、操作、元件和/或部件的存在，但是不排除一個(gè)或多個(gè)其它特征、整體、步驟、操作、元件、部件和/或其組的存在或添加。
[0029]在下文，將參照附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的示例性實(shí)施方式。
[0030]圖1是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的涂覆裝置的方框圖。
[0031]參照?qǐng)D1，涂覆裝置包括例如原材料供應(yīng)部100、蒸發(fā)部200、熱分解部300、沉積室400、冷阱500、真空泵600和控制部700。
[0032]原材料供應(yīng)部100將沉積材料的粉末形式的二聚物供應(yīng)到蒸發(fā)部200。在本示例性實(shí)施方式中，沉積材料可以是，但不限于，聚對(duì)二甲苯。也就是說(shuō)，各種材料可以用作沉積材料，只要被蒸發(fā)的二聚物被熱分解為單體。
[0033]原材料供應(yīng)部100和蒸發(fā)部200通過(guò)例如第一連接管FPl彼此連接。例如，原材料供應(yīng)部100以均一的量將聚對(duì)二甲苯二聚物供應(yīng)到蒸發(fā)部200。聚對(duì)二甲苯二聚物的供應(yīng)量通過(guò)例如計(jì)算原材料供應(yīng)部100中包含的聚對(duì)二甲苯二聚物的質(zhì)量變化量來(lái)控制。
[0034]蒸發(fā)部200蒸發(fā)供應(yīng)到其的聚對(duì)二甲苯二聚物。蒸發(fā)部200在例如約150度至約230度的溫度加熱聚對(duì)二甲苯二聚物。蒸發(fā)部200和熱分解部300通過(guò)例如第二連接管FP2彼此連接。蒸發(fā)部200通過(guò)第二連接管FP2將蒸發(fā)的聚對(duì)二甲苯二聚物提供到熱分解部 300。
[0035]熱分解部300使蒸發(fā)的聚對(duì)二甲苯二聚物熱分解為聚對(duì)二甲苯單體。為了熱分解反應(yīng)，熱分解部300在例如約650度加熱被蒸發(fā)的聚對(duì)二甲苯二聚物。聚對(duì)二甲苯二聚物可以例如為二 _對(duì)二甲苯(d1-para-xylene)、一氯-對(duì)二甲苯、或二氯-對(duì)二甲苯。
[0036]熱分解部300和沉積室400通過(guò)例如第三連接管FP3彼此連接。熱分解部300通過(guò)第三連接管FP3將聚對(duì)二甲苯單體提供到沉積室400。
[0037]沉積室400容納用于沉積的至少一個(gè)對(duì)象(subject)。聚對(duì)二甲苯單體被沉積在對(duì)象上以形成聚合物。聚合物用作保護(hù)該對(duì)象的保護(hù)層。該對(duì)象可以是，但不限于，顯示面板。
[0038]沉積室400和冷阱500通過(guò)例如第四連接管FP4彼此連接。沒(méi)有沉積在所述對(duì)象上的聚對(duì)二甲苯單體通過(guò)第四連接管FP4從沉積室400排出。
[0039]冷阱500冷卻沒(méi)有被沉積在所述對(duì)象上的聚對(duì)二甲苯單體。被冷卻的聚對(duì)二甲苯單體不朝向沉積室400回流。冷阱500和真空泵600通過(guò)例如第五連接管FP5彼此連接。備選地，在示例性實(shí)施方式中，冷阱500可以被省略。在此情形下，沉積室400和真空泵600例如通過(guò)第四連接管FP4彼此直接連接。
[0040]用于聚對(duì)二甲苯單體的流體路徑通過(guò)例如真空泵600的抽吸而形成，聚對(duì)二甲苯單體的速度由真空泵600的抽吸強(qiáng)度確定。
[0041]控制部700控制涂覆裝置?？刂撇?00控制來(lái)自原材料供應(yīng)部100的聚對(duì)二甲苯二聚物的供應(yīng)量。此外，控制部700控制蒸發(fā)部200和熱分解部300的溫度。此外，控制部700控制真空泵600的抽吸強(qiáng)度。雖然沒(méi)有在圖1中示出，但是可以在第一至第五連接管FPl至FP5的每個(gè)處安裝閥門(mén)以控制通過(guò)第一至第五連接管FPl至FP5中的相應(yīng)連接管流動(dòng)的流體的量。
[0042]圖2是示出根據(jù)本公開(kāi)示例性實(shí)施方式的沉積室和排氣管的透視圖，圖3是示出圖2所示的沉積室的流體路徑的視圖。
[0043]參照?qǐng)D2，沉積室400包括例如下部分410、上部分420以及連接下部分410和上部分420的側(cè)壁部分430。沉積室400可以具有例如圖2所示的圓筒形狀，但是本發(fā)明的示例性實(shí)施方式不限于沉積室400的此特定形狀。而是，沉積室400可以形成為各種形狀。
[0044]例如，所述對(duì)象包括其上沉積聚對(duì)二甲苯單體的SUB1、SUB2、SUB3、SUB4、SUB5、SUB6、SUB7、SUB8、SUB9和SUBlOo對(duì)象SUBl至SUBlO設(shè)置在下部分410上。圖2示出每個(gè)具有板形的十個(gè)對(duì)象SUBl至SUB10，但是本發(fā)明的示例性實(shí)施方式不限于對(duì)于該十個(gè)對(duì)象SUBl至SUBlO的此特定形狀。而是，這十個(gè)對(duì)象SUBl至SUBlO可以形成為各種形狀。
[0045]對(duì)象SUBl至SUBlO例如基本上彼此平行地設(shè)置在下部分410上。對(duì)象SUBl至SUBlO例如在下部分410和上部分420之間以規(guī)則的間距彼此間隔開(kāi)。
[0046]沉積室400包括例如依次穿過(guò)側(cè)壁部分430形成的入口 430-1、第一出口 430-01、第二出口 430-02、第三出口 430-03和第四出口 430-04。第一出口 430-01、第二出口430-02、第三出口 430-03和第四出口 430-04例如在下部分410和上部分420之間以規(guī)則的間距彼此間隔開(kāi)。
[0047]例如，第一出口 430-01和第二出口 430-02之間的距離IDl、第二出口 430-02和第三出口 430-03之間的距離ID2以及第三出口 430-03和第四出口 430-04之間的距離ID3彼此相等。這里,第一出口 430-01、第二出口 430-02、第三出口 430-03和第四出口 430-04所布置的方向被稱(chēng)為例如第一方向DR1。第一方向DRl對(duì)應(yīng)于下部分410的法線(xiàn)方向。下部分410平行于由第二方向DR2和第三方向DR3定義的平面。例如，入口 430-1設(shè)置為面對(duì)第一出口 430-01、第二出口 430-02、第三出口 430-03和第四出口 430-04。因而，入口 430-1和第一至第四出口 430-01至430-04之間的流體路徑變長(zhǎng)，使得聚對(duì)二甲苯單體在對(duì)象SUBl至SUBlO上的沉積概率變高。
[0048]聚對(duì)二甲苯單體的沒(méi)有沉積在對(duì)象SUBl至SUBlO上的部分通過(guò)第四連接管FP4從沉積室400排出。第四連接管FP4用作沉積室400的排氣管。術(shù)語(yǔ)第四連接管和排氣管在這里用相同的附圖標(biāo)記“FP4”可互換地表示。
[0049]排氣管FP4包括例如第一輔助管FP4-1、第二輔助管FP4-2、中間管FP4-3和主管FP4-4。例如，第一輔助管FP4-1連接到第一出口 430-01和第二出口 430-02，第二輔助管FP4-2連接到第三出口 430-03和第四出口 430-04。
[0050]例如，中間管FP4-3連接到第一輔助管FP4-1和第二輔助管FP4-2，主管FP4-4連接到中間管FP4-3和冷阱500 (參照?qǐng)DI)。
[0051]參照?qǐng)D3，第一輔助管FP4-1提供自第一出口 430-01和第二出口 430-02的一個(gè)中間排放路徑，第二輔助管FP4-2提供自第三出口 430-03和第四出口 430-04的另一個(gè)中間排放路徑。中間管FP4-3提供自第一輔助管FP4-1和第二輔助管FP4-2的主排放路徑。
[0052]由于排氣管FP4，流體路徑均勻地形成在入口 430-1和第一至第四出口 430-01至430-04之間，而與沉積室400的區(qū)域無(wú)關(guān)。因此，保護(hù)層可以均勻地形成在對(duì)象SUBl至SUBlO上，而與對(duì)象SUBl至SUBlO的位置無(wú)關(guān)。
[0053]圖4是圖2所示的沉積室的局部切除透視圖。
[0054]參照?qǐng)D4，平臺(tái)ST設(shè)置在沉積室400中。例如，平臺(tái)ST包括支座SS7、SS8、SS9和SSlO以及用于將支座SS7至SSlO固定到其的固定軸SPT。圖4示出十個(gè)支座當(dāng)中的四個(gè)支座SS7至SSlO以及分別與所述四個(gè)支座SS7至SSlO相對(duì)應(yīng)的四個(gè)對(duì)象SUB7至SUB10。
[0055]支座SS7至SSlO例如沿第一方向DRl以規(guī)則間距彼此間隔開(kāi)。例如，支座SS7至SSlO分別支撐對(duì)象SUB7至SUB10。例如，冷卻器件CA7、CA8、CA9和CAlO被分別提供到支座SS7至SSlO。例如，冷卻器件CA7至CAlO的每個(gè)附接到支座SS7至SSlO中的相應(yīng)支座的下表面。冷卻器件CA7至CAlO的每個(gè)可以是，但不限于，冷卻劑氣體或水通過(guò)其循環(huán)的管。備選地，在示例性實(shí)施方式中，冷卻器件CA7至CAlO可以例如分別設(shè)置在支座SS7至SSlO內(nèi)部。
[0056]冷卻器件CA7至CAlO降低支座SS7至SSlO周?chē)臏囟?，例如其低于其它區(qū)域中的溫度。例如，聚對(duì)二甲苯單體在約30度的溫度具有高的沉積效率，但是在熱分解之后立即進(jìn)入沉積室400中的聚對(duì)二甲苯單體具有高于約30度的溫度。冷卻器件CA7至CAlO降低支座SS7至SSlO周?chē)臏囟?，從而例如間接地降低在對(duì)象SUBl至SUBlO上沉積的聚對(duì)二甲苯單體的溫度。因此，聚對(duì)二甲苯單體的沉積效率可以增加。
[0057]加熱器件HA例如設(shè)置在沉積室400的側(cè)壁部分430處。加熱器件HA配置為包括例如設(shè)置在內(nèi)側(cè)表面上的加熱電纜或處于高溫的流體通過(guò)其循環(huán)的管。加熱器件HA加熱側(cè)壁部分430以防止聚對(duì)二甲苯單體沉積在側(cè)壁部分的內(nèi)側(cè)表面上。
[0058]圖5是示出圖4所示的用于沉積的對(duì)象的透視圖，顯示面板作為代表性示例在圖5中示出。
[0059]參照?qǐng)D5，顯示面板DP包括例如多個(gè)像素區(qū)域PXA被限定在其上的基底基板BS。例如，基底基板BS可以由透明材料諸如玻璃、石英或塑料形成。第一電極ELl設(shè)置在基底基板BS上以分別對(duì)應(yīng)于像素區(qū)域PXA。每個(gè)具有例如通道的第二電極EL2設(shè)置在基底基板BS上以分別對(duì)應(yīng)于像素區(qū)域PXA。
[0060]液晶分子LC設(shè)置在該通道中，通道中的液晶分子LC的布置通過(guò)由設(shè)置在每個(gè)像素區(qū)域PXA中的第一和第二電極ELl和EL2形成的電場(chǎng)改變。
[0061]聚對(duì)二甲苯保護(hù)層形成在沉積室400中的顯示面板DP上以覆蓋第二電極EL2。聚對(duì)二甲苯保護(hù)層密封該通道的開(kāi)口。
[0062]雖然沒(méi)有在附圖中示出，但是基底基板BS還可以包括例如用于施加信號(hào)到第一電極ELl的布線(xiàn)和開(kāi)關(guān)器件。此外，顯示面板DP可以在形成聚對(duì)二甲苯保護(hù)層之前還包括例如形成在第二電極EL2上的有機(jī)/無(wú)機(jī)層。與圖5所示的對(duì)象不同，通道可以例如由有機(jī)/無(wú)機(jī)層形成。在此情形下，第二電極EL2例如設(shè)置在通道上以面對(duì)第一電極ELI。
[0063]圖6是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的排氣管的視圖。相同的附圖標(biāo)記表示圖2中的相同元件，因而將省略相同元件的詳細(xì)描述。
[0064]參照?qǐng)D6，排氣管FP40包括例如第一輔助管FP40-1、第二輔助管FP40-2、中間管FP40-3 和主管 FP40-4。
[0065]例如，如圖6所示，中間管FP40-3具有比第一輔助管FP40-1的直徑DMl和第二輔助管FP40-2的直徑DM2大的直徑DM3。主管FP40-4例如具有比中間管FP40-3的直徑DM3大的直徑DM4。換言之，中間管FP40-3的截面面積大于第一輔助管FP40-1的截面面積和第二輔助管FP40-2的截面面積，主管FP40-4的截面面積大于中間管FP40-3的截面面積。
[0066]雖然流過(guò)第一輔助管FP40-1和第二輔助管FP40-2的聚對(duì)二甲苯單體進(jìn)入中間管FP40-3，但是聚對(duì)二甲苯單體的速度不減小。此外，雖然流過(guò)中間管FP40-3的聚對(duì)二甲苯單體進(jìn)入主管FP40-4，但是聚對(duì)二甲苯單體的速度不減小。因此，沒(méi)有沉積在所述對(duì)象上的聚對(duì)二甲苯單體通過(guò)排氣管FP40從沉積室400平穩(wěn)地排出。
[0067]第一輔助管FP40-1、第二輔助管FP40-2和中間管FP40-3的每個(gè)包括例如至少一個(gè)彎曲部分VP。第一輔助管FP40-1、第二輔助管FP40-2和中間管FP40-3的每個(gè)例如在彎曲部分VP處彎折以具有彎曲形狀。在圖6中，第一輔助管FP40-1、第二輔助管FP40-2和中間管FP40-3的每個(gè)包括例如兩個(gè)彎曲部分VP，因而第一輔助管FP40-1、第二輔助管FP40-2和中間管FP40-3的每個(gè)具有例如U形。由于彎曲部分VP的彎曲形狀，聚對(duì)二甲苯單體的速度的減小被最小化并且施加到彎曲部分VP的壓力降低。
[0068]排氣管FP40還包括例如設(shè)置在第一輔助管FP40-1的端部分與第一和第二出口430-01和430-02 (參照?qǐng)D2)之間的喇叭型連接管BP。喇叭型連接管BP具有例如隨著其從第一輔助管FP40-1的端部分靠近第一出口 430-01而逐漸增大的截面面積。喇叭型連接管BP例如設(shè)置在第二輔助管FP40-2的端部分與第三和第四出口 430-03和430-04之間。喇叭型連接管BP例如增加了沒(méi)有沉積在對(duì)象上的進(jìn)入排氣管FP40中的聚對(duì)二甲苯單體的量。
[0069]圖7A至圖7C是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的沉積室的入口區(qū)域的視圖，圖8A和圖SB是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的擴(kuò)散板的視圖。
[0070]參照?qǐng)D7A至圖7C，沉積室400包括例如從側(cè)壁部分430突出的入口區(qū)域430-IA。入口 430-1例如穿過(guò)入口區(qū)域430-IA形成。入口 430-1連接到第三連接管FP3。
[0071]例如，擴(kuò)散板DS設(shè)置在沉積室400里面以面對(duì)入口 430-1。例如，進(jìn)入入口 430-1中的聚對(duì)二甲苯單體與擴(kuò)散板DS碰撞并被均勻地分布。擴(kuò)散板DS例如由不銹鋼形成。
[0072]參照?qǐng)D8A和圖8B，擴(kuò)散板DS包括例如面對(duì)入口 430-1的彎曲表面CS。如圖8A和圖8B所不，擴(kuò)散板DS被全部彎曲。
[0073]例如，擴(kuò)散板DS包括沿第一方向DRl布置的上部分UP、中心部分CP和下部分LP。例如，中心部分CP在基本上垂直于第一方向DRl的第二方向DR2上的寬度WlO大于上部分UP和下部分LP在第二方向DR2上的寬度W20和W30。此外，例如，上部分UP和下部分LP在第二方向DR2上的寬度W20和W30隨著其遠(yuǎn)離中心部分CP而逐漸減小。
[0074]上部分UP、中心部分CP和下部分LP例如在第一方向DRl上具有基本上相同的長(zhǎng)度。中心部分CP具有例如八邊形形狀，并且上部分UP和下部分LP具有例如等腰梯形形狀。
[0075]面對(duì)入口 430-1的中心部分CP防止聚對(duì)二甲苯單體被直接提供到對(duì)象SUBl至SUBlO的一部分。上部分UP和下部分LP增加擴(kuò)散到沉積室400的上側(cè)和下側(cè)的聚對(duì)二甲苯單體的量。
[0076]圖9是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的蒸發(fā)部的透視圖。
[0077]蒸發(fā)部200具有例如管形，加熱電纜(未示出）設(shè)置在蒸發(fā)部200中。聚對(duì)二甲苯二聚物的蒸發(fā)量根據(jù)溫度變化。
[0078]空氣冷卻器件ACA設(shè)置在蒸發(fā)部200的外表面上以冷卻蒸發(fā)部200?？諝饫鋮s器件ACA圍繞蒸發(fā)部200?？諝饫鋮s器件ACA具有例如管形，其具有氣體通過(guò)其排出的排氣孔0H，例如空氣或氮?dú)??？諝饫鋮s器件ACA不限于上述管形，而是可以形成為各種形狀。通過(guò)排氣孔OH排出的氣體冷卻蒸發(fā)部200。
[0079]當(dāng)在沉積室400中進(jìn)行的沉積工藝結(jié)束時(shí)，空氣冷卻器件ACA運(yùn)行。在沉積聚對(duì)二甲苯單體的工藝完成之后，蒸發(fā)部200被空氣冷卻器件ACA快速地冷卻，因此聚對(duì)二甲苯單體的蒸發(fā)被停止。因此，可以防止不需要的聚對(duì)二甲苯單體或聚對(duì)二甲苯二聚物進(jìn)入沉積室400中。
[0080]已經(jīng)描述了本發(fā)明的示例性實(shí)施方式，將進(jìn)一步指出，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員是容易變得顯然的，可以進(jìn)行各種修改而不脫離本發(fā)明的精神和范圍，本發(fā)明的范圍由權(quán)利要求書(shū)的邊界限定。
[0081]本申請(qǐng)要求于2013年3月15日提交的韓國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)N0.10-2013-0027933的優(yōu)先權(quán)，其公開(kāi)內(nèi)容通過(guò)引用整體地結(jié)合于此。
【權(quán)利要求】
1.一種涂覆裝置，包括: 蒸發(fā)部，配置為蒸發(fā)沉積材料的二聚物； 熱分解部，配置為使蒸發(fā)的沉積材料的所述二聚物熱分解為單體； 沉積室，包括下部分、面對(duì)所述下部分的上部分以及將所述下部分和所述上部分彼此連接的側(cè)壁部分，多個(gè)對(duì)象設(shè)置在所述下部分上并被配置為在其上接收所述沉積材料的單體，所述側(cè)壁部分包括入口、第一出口、第二出口、第三出口和第四出口，其中所述第一出口、所述第二出口、所述第三出口和所述第四出口依次設(shè)置在所述下部分和所述上部分之間； 排氣管，包括連接到所述第一出口和所述第二出口的第一輔助管、連接到所述第三出口和所述第四出口的第二輔助管、連接到所述第一輔助管和所述第二輔助管的中間管、以及連接到所述中間管的主管；和 真空泵，配置為通過(guò)所述排氣管從所述沉積室排出所述沉積材料的所述單體的沒(méi)有被沉積的部分，并被配置為通過(guò)排出所述沉積材料的所述單體的所述部分而在所述蒸發(fā)部和所述排氣管之間產(chǎn)生用于所述沉積材料的流體路徑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆裝置，其中所述第一出口、所述第二出口、所述第三出口和所述第四出口以規(guī)則的間距彼此間隔開(kāi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆裝置，其中所述對(duì)象基本上平行于所述下部分，并在所述下部分和所述上部分之間以規(guī)則間距彼此間隔開(kāi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的涂覆裝置，還包括平臺(tái)，該平臺(tái)包括設(shè)置在所述沉積室內(nèi)部的多個(gè)支座和將所述支座固定到其的固定軸，所述多個(gè)支座配置為支撐所述對(duì)象。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的涂覆裝置，還包括分別設(shè)置在所述支座處以控制所述支座周?chē)某练e溫度的多個(gè)冷卻器件。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的涂覆裝置，其中所述入口面對(duì)所述第一出口、所述第二出口、所述第三出口和所述第四出口。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的涂覆裝置，還包括面對(duì)所述入口設(shè)置在所述沉積室內(nèi)部的擴(kuò)散板。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的涂覆裝置，其中所述擴(kuò)散板包括面對(duì)所述入口的彎曲部分。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的涂覆裝置，其中所述第一出口、所述第二出口、所述第三出口和所述第四出口設(shè)置的方向被稱(chēng)為第一方向，基本上垂直于所述第一方向的方向被稱(chēng)為第二方向，其中所述擴(kuò)散板被分成沿所述第一方向設(shè)置的上部分、中心部分和下部分，所述中心部分在所述第二方向上的寬度大于所述上部分和所述下部分在所述第二方向上的寬度，其中所述上部分和所述下部分的寬度隨著所述上部分和所述下部分遠(yuǎn)離所述中心部分而減小。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆裝置，其中所述中間管具有比所述第一輔助管的截面面積和所述第二輔助管的截面面積大的截面面積，并且所述主管具有比所述中間管的截面面積大的截面面積。
【文檔編號(hào)】B05C11/10GK104043566SQ201310681276
【公開(kāi)日】2014年9月17日 申請(qǐng)日期:2013年12月12日 優(yōu)先權(quán)日:2013年3月15日
【發(fā)明者】樸宰徹, 李忠爀, 宋大鎬, 崔洛初, 魚(yú)慶恩, 吳旻貞, 李民雨, 裵相鈞 申請(qǐng)人:三星顯示有限公司, 納里技術(shù)有限公司