專利名稱：用于非晶噴帶機(jī)的噴嘴的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
用于非晶噴帶機(jī)的噴嘴技術(shù)領(lǐng)域[0001]本實(shí)用新型涉及一種用于非晶噴帶機(jī)的噴嘴，屬于機(jī)械技術(shù)領(lǐng)域。技術(shù)背景[0002]非晶噴帶機(jī)是將熔體通過(guò)快速冷卻形成厚度很薄的非晶帶。在噴注過(guò)程中，鋼液從噴包流出要經(jīng)過(guò)一個(gè)帶有狹長(zhǎng)的長(zhǎng)縫的噴嘴，然后在噴注到銅輥上。但是鋼液液面在噴包內(nèi)的高度不同的話會(huì)造成從噴嘴流出的壓力不穩(wěn)，影響生產(chǎn)出的鋼帶的質(zhì)量。并且，鋼液中可能包含顆粒狀雜質(zhì)，會(huì)導(dǎo)致堵塞噴嘴，產(chǎn)出不合格品。發(fā)明內(nèi)容[0003]本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)在技術(shù)存在的上述不足，而提供了一種結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單合理，壓力穩(wěn)定，可過(guò)濾雜 質(zhì)的用于非晶噴帶機(jī)的噴嘴。[0004]本實(shí)用新型解決上述問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是該用于非晶噴帶機(jī)的噴嘴包括噴嘴本體，所述噴嘴本體設(shè)置在噴包的底部，噴嘴本體上設(shè)置有一號(hào)槽，所述用于非晶噴帶機(jī)的噴嘴還包括噴嘴蓋板，所述噴嘴蓋板設(shè)置在噴嘴本體的上面，噴嘴蓋板上設(shè)置有二號(hào)槽。 鋼液通過(guò)噴嘴蓋板再由噴嘴噴出后，噴出壓力始終是恒定的。[0005]本實(shí)用新型所述噴嘴本體的上部設(shè)置有插槽，噴嘴蓋板的下部設(shè)置有插塊，所述插槽與插塊相匹配。結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理、安裝方便。[0006]本實(shí)用新型所述插槽的深度大于插塊的高度，插槽和插塊間形成一個(gè)空腔。保證噴出壓力始終是恒定的。[0007]本實(shí)用新型所述一號(hào)槽、二號(hào)槽和空腔是貫通的。[0008]本實(shí)用新型所述二號(hào)槽的寬度小于一號(hào)槽的寬度。保證噴出壓力始終是恒定的， 起到過(guò)濾雜質(zhì)的作用。[0009]本實(shí)用新型所述一號(hào)槽的寬度為O. 5毫米，二號(hào)槽的寬度為O. 4毫米。過(guò)濾雜質(zhì)的效果好，鋼液噴出的壓力穩(wěn)定。[0010]本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比其優(yōu)點(diǎn)在于結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，鋼液通過(guò)噴嘴蓋板再由噴嘴噴出后，噴出壓力始終是恒定的，產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定可靠，且過(guò)噴嘴蓋板還可起到過(guò)濾雜質(zhì)的作用，保證產(chǎn)品質(zhì)量。


[0011]圖I為本實(shí)施例的噴嘴本體結(jié)構(gòu)示意圖。[0012]圖2為本實(shí)施例的圖I的A剖視結(jié)構(gòu)示意圖。[0013]圖3為本實(shí)施例的噴嘴蓋板結(jié)構(gòu)示意圖。[0014]圖4為本實(shí)施例的噴嘴本體和噴嘴蓋板裝配結(jié)構(gòu)示意圖。[0015]圖5為本實(shí)施例的圖4的剖視結(jié)構(gòu)示意圖。[0016]圖6為本實(shí)施例的噴嘴本體和噴嘴蓋板安裝在噴包內(nèi)的結(jié)構(gòu)示意圖。[0017]圖7為本實(shí)施例的圖6的剖視結(jié)構(gòu)示意圖。[0018]標(biāo)號(hào)說(shuō)明噴嘴本體I、一號(hào)槽11、插槽12、空腔13、噴包2、噴嘴蓋板3、二號(hào)槽31、 插塊32。
具體實(shí)施方式
[0019]下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明，以下實(shí)施例是對(duì)本實(shí)用新型的解釋而本實(shí)用新型并不局限于以下實(shí)施例。[0020]實(shí)施例I :如圖I至7所示，本實(shí)施例由噴嘴本體I、一號(hào)槽11、插槽12、空腔13、 噴嘴蓋板3、二號(hào)槽31和插塊32構(gòu)成。[0021]連接關(guān)系是噴嘴本體I設(shè)置在噴包2的底部，噴嘴本體I的下部設(shè)置有一號(hào)槽 11，噴嘴蓋板3設(shè)置在噴嘴本體I的上部，噴嘴蓋板3上設(shè)置有二號(hào)槽31 ;噴嘴本體I的上部設(shè)置有插槽12，噴嘴蓋板3的下部設(shè)置有插塊32，所述插槽12與插塊32相配，插槽12 深度大于插塊32的高度，插槽12和插塊32間形成一個(gè)空腔13 ;—號(hào)槽11、二號(hào)槽31和空腔13是貫通的。[0022]本實(shí)施例所述用于非晶噴帶機(jī)的噴嘴的一號(hào)槽11的寬度a為O. 5毫米，二號(hào)槽31 的寬度b為O. 4毫米，應(yīng)用中，鋼液通過(guò)噴嘴蓋板3過(guò)濾后再由噴嘴噴出，這種情況下噴出壓力變化最小、最穩(wěn)定。[0023]本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比其優(yōu)點(diǎn)在于結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，噴出壓力始終是恒定的， 產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定可靠，且過(guò)噴嘴蓋板還可起到過(guò)濾的作用，保證產(chǎn)品質(zhì)量。[0024]此外，需要說(shuō)明的是，本說(shuō)明書中所描述的具體實(shí)施例，其零、部件的形狀、所取名稱等可以不同。凡依本實(shí)用新型專利構(gòu)思所述的構(gòu)造、特征及原理所做的等效或簡(jiǎn)單變化， 均包括于本實(shí)用新型專利的保護(hù)范圍內(nèi)。本實(shí)用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)所描述的具體實(shí)施例做各種各樣的修改或補(bǔ)充或采用類似的方式替代，只要不偏離本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)或者超越本權(quán)利要求書所定義的范圍，均應(yīng)屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。權(quán)利要求1.一種用于非晶噴帶機(jī)的噴嘴，包括噴嘴本體，所述噴嘴本體設(shè)置在噴包的底部，噴嘴本體的下部設(shè)置有一號(hào)槽，其特征在于還包括噴嘴蓋板，所述噴嘴蓋板設(shè)置在噴嘴本體的上面，噴嘴蓋板上設(shè)置有二號(hào)槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于非晶噴帶機(jī)的噴嘴，其特征在于所述噴嘴本體的上部設(shè)置有插槽，噴嘴蓋板的下部設(shè)置有插塊，所述插槽與插塊相匹配。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于非晶噴帶機(jī)的噴嘴，其特征在于所述插槽的深度大于插塊的高度，插槽和插塊間形成一個(gè)空腔。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于非晶噴帶機(jī)的噴嘴，其特征在于所述一號(hào)槽、二號(hào)槽和空腔是貫通的。
5.根據(jù)權(quán)利要求I或2或3或4所述的用于非晶噴帶機(jī)的噴嘴，其特征在于所述二號(hào)槽的寬度小于一號(hào)槽的寬度。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于非晶噴帶機(jī)的噴嘴，其特征在于所述一號(hào)槽的寬度為O.5毫米，二號(hào)槽的寬度為O. 4毫米。
專利摘要一種用于非晶噴帶機(jī)的噴嘴，屬于機(jī)械技術(shù)領(lǐng)域，包括噴嘴本體，所述噴嘴本體設(shè)置在噴包的底部，噴嘴本體的下部設(shè)置有一號(hào)槽，還包括噴嘴蓋板，所述噴嘴蓋板設(shè)置在噴嘴本體的上面，噴嘴蓋板上設(shè)置有二號(hào)槽；所述噴嘴本體的上部設(shè)置有插槽，噴嘴蓋板的下部設(shè)置有插塊，所述插槽與插塊相匹配；所述插槽的深度大于插塊的高度，插槽和插塊間形成一個(gè)空腔；所述一號(hào)槽、二號(hào)槽和空腔是貫通的；所述一號(hào)槽的寬度為0.5毫米，二號(hào)槽的寬度為0.4毫米。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，鋼液通過(guò)噴嘴蓋板再由噴嘴噴出后，噴出壓力始終是恒定的，產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定可靠，且過(guò)噴嘴蓋板還可起到過(guò)濾雜質(zhì)的作用，保證產(chǎn)品質(zhì)量。
文檔編號(hào)B05B1/14GK202741259SQ20122042386
公開日2013年2月20日 申請(qǐng)日期2012年8月24日 優(yōu)先權(quán)日2012年8月24日
發(fā)明者周增躍, 徐雪峰, 步中培, 周冠群, 周建平, 王偉民 申請(qǐng)人:浙江正耀環(huán)?？萍加邢薰?br>