專利名稱：一種顯影液噴涂軌道機及其噴涂方法
技術領域：
本發(fā)明涉及集成電路裝備制造技術領域，更具體的說，涉及一種顯影液噴涂軌道機及其噴涂方法。
背景技術：
集成電路的成型需要用到化學顯影工藝，這就需要采用顯影液噴涂軌道機。現(xiàn)有的主流軌道機中，一般有四個顯影槽，上面兩個，下面兩個，如圖I所示，位于同一層的兩個顯影槽11在同一水平面平行放置，每個顯影槽內(nèi)設置有沖洗模塊14并放置有硅片12。每個顯影槽各自使用自己的一套顯影液噴涂裝置13?，F(xiàn)有的軌道機成本高昂；每個噴嘴處容易出現(xiàn)結晶狀物質影響硅片良率；另外每個顯影液噴涂裝置定期需要噴吐沖洗(drnnrnydispense)，顯影液浪費比較嚴重；而且不同顯影噴涂裝置加工出來的硅片之間的線寬不一
致，均勻度不好。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術問題是提供一種可降低成本、改善硅片良率、減少顯影液浪費、提高硅片之間線寬均齊度的顯影液噴涂軌道機及其噴涂方法。本發(fā)明的目的是通過以下技術方案來實現(xiàn)的
一種顯影液噴涂軌道機，包括至少兩個互不交疊的顯影槽、以及設置在顯影槽上方的顯影液噴涂裝置，所述顯影液噴涂裝置包括噴嘴、與噴嘴連接的用于輸送顯影液的管路、固定噴嘴的機械臂，以及控制噴嘴和機械臂動作的控制單元，所述控制單元還包括定位模塊，所述定位模塊控制所述顯影液噴涂裝置在所述互不交疊的顯影槽之間移動，并交替定位于其中一個顯影槽中，進行顯影液噴涂工藝。進一步的，所述至少兩個互不交疊的顯影槽處于同一水平面。在同一水平面，噴涂裝置的噴頭距離每個顯影槽之間的距離可以保持一定，這樣每個顯影槽噴涂后的一致性較好。進一步的，所述顯影液噴涂裝置的初始位置對應設置在兩個相鄰的互不交疊的顯影槽中間。這樣顯影液噴涂裝置距離兩個顯影槽中硅片的距離之和最短，即顯影液噴涂裝置在工作過程中往返于兩個顯影槽的路徑最短，可以提高顯影液噴涂裝置的加工效率。進一步的，進一步的，所述相鄰兩個顯影槽中間設有隔板，所述隔板在所述顯影液噴涂裝置的避讓位置設有窗口，所述控制單元還包括開關模塊，所述開關模塊控制所述窗口在所述顯影液噴涂裝置偏離隔板的時候關閉，并控制所述窗口在所述顯影液噴涂裝置通過的時候打開。硅片顯影工藝包括沖洗、負壓吸氣等過程，氣體和液體的流動會影響到相鄰的顯影槽，因此本技術方案在兩個顯影槽中間加設隔板進行隔離，進一步提高硅片的良品率。而窗口的存在也能有效避讓顯影液噴涂裝置。進一步的，所述顯影液噴涂裝置的初始位置對應設置在的任意一個顯影槽上方。本技術方案中，由于顯影液噴涂裝置在其中一個顯影槽的上方，這樣兩個顯影槽中間就可以加設隔板進行隔離，只有在顯影液噴涂裝置要移動到另一個顯影槽的時候才需要打開隔板的窗口避讓，這樣兩個顯影槽在絕大部分時間是相互隔離的，各自的制程不會影響到對方，進一步提聞隔尚效果，有利于提聞娃片的良品率。進一步的，所述顯影液噴涂軌道機至少有兩層軌道，每一層軌道至少包括兩個互不交疊的顯影槽。進一步的，所述每個顯影槽內(nèi)還設有清洗模塊。此為一種具體的顯影液噴涂軌道機結構，增加清洗模塊可以在顯影工藝完成以后將殘留的顯影液沖洗干凈，方便后續(xù)的加
工工序。一種顯影液噴涂軌道機的噴涂方法，包括步驟
A、在至少兩個互不交疊的相鄰顯影槽上方架設一套設有控制單元的顯影液噴涂裝
置；
B、采用控制單元中的定位模塊控制所述顯影液噴涂裝置在兩個相鄰顯影槽之間移動，并交替定位于其中一個顯影槽中，進行顯影液噴涂作業(yè)。進一步的，所述顯影液噴涂軌道機至少包括兩層顯影槽，每一層設有兩個在同一水平面平行放置的顯影槽，所述兩個顯影槽中間的間壁具有相通結合部，所述步驟A中，將顯影液噴涂裝置的初始位置設置在兩個顯影槽的中間；所述步驟B包括
BI、控制單元中的定位模塊控制顯影液噴涂裝置從初始位置移動到其中一個顯影槽的硅片上方位置進行噴涂作業(yè)；
B2、定位模塊控制顯影液噴涂裝置返回初始位置；
B3、定位模塊控制顯影液噴涂裝置從初始位置移動到另一個顯影槽的硅片上方位置進打嗔涂作業(yè)；
B4、定位模塊控制顯影液噴涂裝置返回初始位置；
B5、返回步驟BI。這樣顯影液噴涂裝置距離兩個顯影槽中硅片的距離之和最短，即顯影液噴涂裝置在工作過程中往返于兩個顯影槽的路徑最短，可以提高顯影液噴涂裝置的加工效率。進一步的，所述步驟A中還包括在兩個互不交疊的顯影槽中間設置帶窗口的隔板；打開窗口，將顯影液噴涂裝置的初始位置設置在兩個顯影槽的中間；所述步驟B包括
BI、控制單元的定位模塊控制所述顯影液噴涂裝置移動到其中一個顯影槽的硅片上方位置，采用控制單元的開關模塊控制所述窗口關閉后進行噴涂作業(yè)；
B2、所述開關模塊控制打開窗口，所述定位模塊將顯影液噴涂裝置移回初始位置；
B3、所述定位模塊將顯影液噴涂裝置移動到另一個顯影槽的硅片上方位置，所述開關模塊關閉窗口后進行噴涂作業(yè)；
B4、所述開關模塊打開窗口，所述定位模塊將顯影液噴涂裝置返回初始位置；
B5、返回步驟BI。硅片顯影工藝包括沖洗、負壓吸氣等過程，氣體和液體的流動會影響到相鄰的顯影槽，因此本技術方案在兩個顯影槽中間加設隔板進行隔離，進一步提高硅片的良品率。而窗口的存在也能有效避讓顯影液噴涂裝置。進一步的，所述顯影液噴涂軌道機至少包括兩層顯影槽，每一層設有兩個在同一水平面平行放置的顯影槽，所述步驟A中還包括在兩個顯影槽中間設置帶窗口的隔板；將顯影液噴涂裝置的初始位置對應設置在任意一個顯影槽的上方，窗口保持關閉狀態(tài)；所述步驟B包括
BI、控制單元的定位模塊控制所述顯影液噴涂裝置在其初始位置所在的顯影槽的硅片上方位置進行噴涂作業(yè)；
B2、采用控制單元的開關模塊控制所述窗口打開，所述定位模塊將顯影液噴涂裝置移動到另一個顯影槽的硅片上方位置，然后所述開關模塊關閉窗口進行噴涂作業(yè)；
B3、所述開關模塊打開窗口，所述定位模塊將顯影液噴涂裝置返回初始位置，然后所述開關模塊關閉窗口。B4、返回步驟BI。本技術方案中，由于顯影液噴涂裝置在其中一個顯影槽的上方，這樣兩個顯影槽中間就可以加設隔板進行隔離，只有在顯影液噴涂裝置要移動到另一個顯影槽的時候才需要打開隔板的窗口避讓，這樣兩個顯影槽在絕大部分時間是相互隔離的，各自的制程不會影響到對方，進一步提聞隔尚效果，有利于提聞娃片的良品率。進一步的，所述步驟B還包括，在每個顯影槽內(nèi)設置清洗模塊，在所述顯影液噴涂裝置移動到另一個顯影槽的硅片上方位置進行噴涂作業(yè)后，進行硅片的清洗工作。增加清洗模塊可以在顯影工藝完成以后將殘留的顯影液沖洗干凈，方便后續(xù)的加工工序。發(fā)明人研究發(fā)現(xiàn)隨著顯影液噴涂軌道機的改進，特別是顯影液噴嘴的改進使得顯影液的噴涂時間大大縮短，新型的噴嘴(如GP nozzle和LD nozzle)對每一片娃片的顯影工藝的噴涂時間只需要10幾秒，而每一片硅片顯影工藝的總時間為50秒左右。因此，大部分時間硅片都是在噴涂后的靜止(puddle)或者沖洗(rinse)過程中，這就說明顯影液噴涂裝置的使用時間超過一大半都是在閑置狀態(tài)?；谏鲜鲅芯?，發(fā)明人只用一套顯影液噴涂裝置，分別對至少兩個互不交疊的顯影槽進行噴涂作業(yè)，這樣就至少節(jié)省了至少一套顯影液噴涂裝置，這樣可以在維持現(xiàn)有的加工效率降低的前提下，降低設備的成本。一套顯影液噴涂裝置同時服務多個顯影槽，也縮短了工作間隙的閑置時間，這樣顯影液也不容易產(chǎn)生結晶狀物質，從而改善了硅片的良率。由于減少了顯影液噴涂裝置的數(shù)量，這樣在定期噴吐沖洗的過程中，需要沖洗噴嘴的次數(shù)也相應減少，自然也就減少了顯影液的浪費。雖然同一軌道機都會選用同一型號的顯影液噴涂裝置，但不同的設備之間不可避免存在誤差，而集成電路屬于精密器件，細微的誤差都會造成硅片的線寬變化。因此，不同顯影液噴涂裝置制作的硅片，線寬之間總會有些差異，造成均勻度下降。本發(fā)明由于縮減了顯影液噴涂裝置的數(shù)量，可以采用同一臺顯影液噴涂裝置加工更多的硅片，這樣就減少了硅片之間的差異，提高了同硅片之間的線寬均勻度。


圖I是現(xiàn)有的一種軌道機示意 圖2為本發(fā)明原理示意框 圖3是本發(fā)明實施例一的軌道機的示意 圖4是本發(fā)明實施例二的軌道機的示意圖；圖5是本發(fā)明實施例三的軌道機的示意圖。其中11、顯影槽；12、硅片；13、顯影液噴涂裝置；14、沖洗模塊；15、隔板；16、窗□。
具體實施方式

如圖2所示，本發(fā)明公開了一種顯影液噴涂軌道機，包括至少兩個互不交疊的顯影槽、以及設置在顯影槽上方的顯影液噴涂裝置，顯影液噴涂裝置包括噴涂模塊、固定噴涂模塊的機械臂，以及控制噴涂模塊和機械臂動作的控制單元，控制單元還包括定位模塊，定位模塊控制顯影液噴涂裝置在兩個相鄰顯影槽之間移動，并交替定位于其中一個顯影槽中，進行顯影液噴涂工藝。發(fā)明人研究發(fā)現(xiàn)隨著顯影液噴涂軌道機的改進，特別是顯影液噴嘴的改進使得顯影液的噴涂時間大大縮短，新型的噴嘴(如GP nozzle和LD nozzle)對每一片娃片的顯影工藝的噴涂時間只需要10幾秒，而每一片硅片顯影工藝的總時間為50秒左右。因此，大部分時間硅片都是在噴涂后的靜止(puddle)或者沖洗(rinse)過程中，這就說明顯影液噴涂裝置的使用時間超過一大半都是在閑置狀態(tài)?；谏鲜鲅芯?，發(fā)明人只用一套顯影液噴涂裝置，分別對至少兩個互不交疊的顯影槽進行噴涂作業(yè)，這樣就至少節(jié)省了至少一套顯影液噴涂裝置，這樣可以在維持現(xiàn)有的加工效率降低的前提下，降低設備的成本。一套顯影液噴涂裝置同時服務多個顯影槽，也縮短了工作間隙的閑置時間，這樣顯影液也不容易產(chǎn)生結晶狀物質，從而改善了硅片的良率。由于減少了顯影液噴涂裝置的數(shù)量，這樣在定期噴吐沖洗的過程中，需要沖洗噴嘴的次數(shù)也相應減少，自然也就減少了顯影液的浪費。雖然同一軌道機都會選用同一型號的顯影液噴涂裝置，但不同的設備之間不可避免存在誤差，而集成電路屬于精密器件，細微的誤差都會造成硅片的線寬變化。因此，不同顯影液噴涂裝置制作的硅片，線寬之間總會有些差異，造成均勻度下降。本發(fā)明由于縮減了顯影液噴涂裝置的數(shù)量，可以采用同一臺顯影液噴涂裝置加工更多的硅片，這樣就減少了硅片之間的差異，提高了同硅片之間的線寬均勻度。下面以兩層結構、每一層有兩個顯影槽的顯影液噴涂軌道機為例，結合附圖和較佳的實施例對本發(fā)明作進一步說明。實施例一
如圖3所示，所述軌道機每一層都有兩個顯影槽11，兩個顯影槽11在同一水平面平行放置，在每個顯影槽11內(nèi)的中間放置有硅片12，并在角落對應位置設有沖洗模塊14。兩個顯影槽11中間的上方位置對應設置有顯影液噴涂裝置13。顯影液噴涂裝置13包括噴嘴，固定噴嘴的機械臂，與噴嘴連接的顯影液管路，以及控制噴嘴和機械臂動作的控制單元，控制單元還包括定位模塊，定位模塊控制顯影液噴涂裝置在兩個相鄰顯影槽之間移動，并交替定位于其中一個顯影槽中，進行顯影液噴涂工藝。為了進一步避讓顯影液噴涂裝置13，兩個顯影槽11的沖洗模塊14可以設置在遠離顯影液噴涂裝置13的一角。采用本實施例技術方案的顯影液噴涂方法，包括步驟
a、在兩個互不交疊的顯影槽11上方架設一套設有控制單元的顯影液噴涂裝置13 ;將顯影液噴涂裝置13的初始位置設置在兩個顯影槽11的中間；
b、控制單元的定位模塊控制顯影液噴涂裝置從初始位置移動到其中一個顯影槽的硅片上方位置進行噴涂作業(yè)；
C、定位模塊控制顯影液噴涂裝置返回初始位置；
d、定位模塊控制顯影液噴涂裝置從初始位置移動到另一個顯影槽的硅片上方位置進打嗔涂作業(yè)；
e、定位模塊控制顯影液噴涂裝置返回初始位置；
f、返回步驟BI。本實施例中，顯影液噴涂裝置的初始位置對應設置在兩個顯影槽的中間，顯影液噴涂裝置距離兩個顯影槽中硅片的距離之和最短，即顯影液噴涂裝置在工作過程中往返于
兩個顯影槽的路徑最短，可以提高顯影液噴涂裝置的加工效率。實施例二
如圖4所示，軌道機每一層都有兩個顯影槽11，兩個顯影槽11在同一水平面平行放置，在每個顯影槽11內(nèi)的中間放置有硅片12，并在角落對應位置設有沖洗模塊14。兩個顯影槽11中間的上方位置對應設置有顯影液噴涂裝置13。顯影液噴涂裝置13包括噴嘴，固定噴嘴的機械臂，與噴嘴連接的顯影液管路，以及控制噴嘴和機械臂動作的控制單元，控制單元還包括定位模塊，定位模塊控制顯影液噴涂裝置在兩個相鄰顯影槽之間移動，并交替定位于其中一個顯影槽中，進行顯影液噴涂工藝。為了進一步避讓顯影液噴涂裝置13，兩個顯影槽11的沖洗模塊14可以設置在遠離顯影液噴涂裝置13的一角。兩個顯影槽11中間還設有隔板15，隔板15在顯影液噴涂裝置13的避讓位置設有窗口 16，該窗口 16在顯影液噴涂裝置13偏離隔板15的時候關閉。采用本實施例技術方案的顯影液噴涂方法，包括步驟
a、在兩個互不交疊的顯影槽11上方架設一套設有控制單元的顯影液噴涂裝置13;在兩個互不交疊的顯影槽11中間設置帶窗口 16的隔板15 ;打開窗口 16，將顯影液噴涂裝置13的初始位置設置在兩個顯影槽11的中間；
b、控制單元的定位模塊控制所述顯影液噴涂裝置移動到其中一個顯影槽的硅片上方位置，采用控制單元的開關模塊控制所述窗口關閉后進行噴涂作業(yè)；
C、所述開關模塊控制打開窗口，所述定位模塊將顯影液噴涂裝置移回初始位置；
d、所述定位模塊將顯影液噴涂裝置移動到另一個顯影槽的硅片上方位置，所述開關模塊關閉窗口后進行噴涂作業(yè)；
e、所述開關模塊打開窗口，所述定位模塊將顯影液噴涂裝置返回初始位置；
f、返回步驟BI。硅片顯影工藝包括沖洗、負壓吸氣等過程，氣體和液體的流動會影響到相鄰的顯影槽。因此，本實施例在實施例一的基礎上，在兩個顯影槽中間加設隔板進行隔離，進一步提高硅片的良品率。而窗口的存在也能有效避讓顯影液噴涂裝置。實施例三
如圖5所示，軌道機每一層都有兩個顯影槽11，兩個顯影槽11在同一水平面平行放置，在每個顯影槽11內(nèi)的中間放置有硅片12，并在角落對應位置設有沖洗模塊14。其中一個顯影槽11的上方位置對應設置有顯影液噴涂裝置13。顯影液噴涂裝置13包括噴嘴，固定噴嘴的機械臂，與噴嘴連接的顯影液管路，以及控制噴嘴和機械臂動作的控制單元，控制單元還包括定位模塊，定位模塊控制顯影液噴涂裝置在兩個相鄰顯影槽之間移動，并交替定位于其中一個顯影槽中，進行顯影液噴涂工藝。為了進一步避讓顯影液噴涂裝置13，兩個顯影槽11的沖洗模塊14可以設置在遠離顯影液噴涂裝置13的一角。兩個顯影槽11之間設有隔板15,隔板15設有避讓顯影液噴涂裝置13的窗口 16,窗口 16在所述顯影液噴涂裝置13通過的時候打開。采用本實施例技術方案的顯影液噴涂方法，包括步驟
a、在兩個互不交疊的顯影槽11上方架設一套設有控制單元的顯影液噴涂裝置13;在兩個互不交疊的顯影槽11中間設置帶窗口 16的隔板15 ;將顯影液噴涂裝置13的初始位置對應設置在任意一個顯影槽11的上方，窗口 16保持關閉狀態(tài)；
b、控制單元的定位模塊控制所述顯影液噴涂裝置在其初始位置所在的顯影槽的硅片 上方位置進行噴涂作業(yè)；
C、采用控制單元的開關模塊控制所述窗口打開，所述定位模塊將顯影液噴涂裝置移動到另一個顯影槽的硅片上方位置，然后所述開關模塊關閉窗口進行噴涂作業(yè)；
d、所述開關模塊打開窗口，所述定位模塊將顯影液噴涂裝置返回初始位置，然后所述開關模塊關閉窗口。e、返回步驟BI。本實施例中，由于顯影液噴涂裝置在其中一個顯影槽的上方，這樣兩個顯影槽中間就可以加設隔板進行隔離，只有在顯影液噴涂裝置要移動到另一個顯影槽的時候才需要打開隔板的窗口避讓，這樣兩個顯影槽在絕大部分時間是相互隔離的，各自的制程不會影響到對方，進一步提聞隔尚效果，有利于提聞娃片的良品率。以上內(nèi)容是結合具體的優(yōu)選實施方式對本發(fā)明所作的進一步詳細說明，不能認定本發(fā)明的具體實施只局限于這些說明。對于本發(fā)明所屬技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發(fā)明構思的前提下，還可以做出若干簡單推演或替換，都應當視為屬于本發(fā)明的保護范圍。
權利要求
1.一種顯影液噴涂軌道機，包括至少兩個互不交疊的顯影槽、以及設置在顯影槽上方的顯影液噴涂裝置，所述顯影液噴涂裝置包括噴嘴、與噴嘴連接的用于輸送顯影液的管路、固定噴嘴的機械臂，以及控制噴嘴和機械臂動作的控制單元，其特征在于 所述控制單元還包括定位模塊，所述定位模塊控制所述顯影液噴涂裝置在所述互不交疊的顯影槽之間移動，并交替定位于其中一個顯影槽中，進行顯影液噴涂工藝。
2.如權利要求I所述的一種顯影液噴涂軌道機，其特征在于，所述至少兩個互不交疊的顯影槽處于同一水平面。
3.如權利要求I或2所述的一種顯影液噴涂軌道機，其特征在于，所述顯影液噴涂裝置的初始位置對應設置在兩個相鄰的互不交疊的顯影槽中間。
4.如權利要求I或2所述的一種顯影液噴涂軌道機，其特征在于，所述相鄰兩個顯影槽中間設有隔板，所述隔板在所述顯影液噴涂裝置的避讓位置設有窗口，所述控制單元還包括開關模塊，所述開關模塊控制所述窗口在所述顯影液噴涂裝置偏離隔板的時候關閉，并控制所述窗口在所述顯影液噴涂裝置通過的時候打開。
5.如權利要求4所述的一種顯影液噴涂軌道機，其特征在于，所述顯影液噴涂裝置的初始位置對應設置在任意一個顯影槽上方。
6.如權利要求I或2所述的一種顯影液噴涂軌道機，其特征在于，所述顯影液噴涂軌道機至少有兩層軌道，每一層軌道至少包括兩個互不交疊的顯影槽。
7.如權利要求I或2所述的一種顯影液噴涂軌道機，其特征在于，所述每個顯影槽內(nèi)還設有清洗模塊。
8.—種顯影液噴涂軌道機的噴涂方法，包括步驟 A、在至少兩個互不交疊的相鄰顯影槽上方架設一套設有控制單元的顯影液噴涂裝置； B、采用控制單元中的定位模塊控制所述顯影液噴涂裝置在兩個相鄰顯影槽之間移動，并交替定位于其中一個顯影槽中，進行顯影液噴涂作業(yè)。
9.如權利要求8所述的一種顯影液噴涂軌道機的噴涂方法，其特征在于，所述顯影液噴涂軌道機至少包括兩層顯影槽，每一層設有兩個在同一水平面平行放置的顯影槽，所述兩個顯影槽中間的間壁具有相通結合部，所述步驟A中，將顯影液噴涂裝置的初始位置設置在兩個顯影槽的中間；所述步驟B包括 BI、所述控制單元中的定位模塊控制顯影液噴涂裝置從初始位置移動到其中一個顯影槽的硅片上方位置進行噴涂作業(yè)； B2、定位模塊控制顯影液噴涂裝置返回初始位置； B3、定位模塊控制顯影液噴涂裝置從初始位置移動到另一個顯影槽的硅片上方位置進打嗔涂作業(yè)； B4、定位模塊控制顯影液噴涂裝置返回初始位置； B5、返回步驟BI。
10.如權利要求8所述的一種顯影液噴涂軌道機的噴涂方法，其特征在于，所述步驟A中還包括在兩個互不交疊的顯影槽中間設置帶窗口的隔板；打開窗口，將顯影液噴涂裝置的初始位置設置在兩個顯影槽的中間；所述步驟B包括 BI、控制單元的定位模塊控制所述顯影液噴涂裝置移動到其中一個顯影槽的硅片上方位置，采用控制單元的開關模塊控制所述窗口關閉后進行噴涂作業(yè)； B2、所述開關模塊控制打開窗口，所述定位模塊將顯影液噴涂裝置移回初始位置； B3、所述定位模塊將顯影液噴涂裝置移動到另一個顯影槽的硅片上方位置，所述開關模 塊關閉窗口后進行噴涂作業(yè)； B4、所述開關模塊打開窗口，所述定位模塊將顯影液噴涂裝置返回初始位置； B5、返回步驟BI。
全文摘要
本發(fā)明公開一種顯影液噴涂軌道機及其噴涂方法。所述顯影液噴涂軌道機包括至少兩個互不交疊的顯影槽、以及設置在顯影槽上方的顯影液噴涂裝置，所述顯影液噴涂裝置包括噴嘴、與噴嘴連接的用于輸送顯影液的管路、固定噴嘴的機械臂，以及控制噴嘴和機械臂動作的控制單元，所述控制單元還包括定位模塊，所述定位模塊控制所述顯影液噴涂裝置在所述互不交疊的顯影槽之間移動，并交替定位于其中一個顯影槽中，進行顯影液噴涂工藝本發(fā)明可以降低成本、改善硅片良率、減少顯影液浪費、提高硅片之間線寬均齊度。
文檔編號B05C11/00GK102937779SQ20121047692
公開日2013年2月20日 申請日期2012年11月22日 優(yōu)先權日2012年11月22日
發(fā)明者袁偉 申請人:上海集成電路研發(fā)中心有限公司