專利名稱：狹縫式涂布機(jī)膜厚的控制方法及膜厚控制系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種狹縫式涂布機(jī)膜厚的控制方法及膜厚控制系統(tǒng)
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的狹縫式涂布機(jī)一般包括涂布機(jī)頭、基片收放料裝置及電極料烘干裝置，基片收放料裝置使基片恒速運(yùn)動(dòng)，涂布機(jī)頭將電極料漿均勻地涂布在基片的一面，帶有電極料漿的基片經(jīng)過烘干裝置將所述電極料漿烘干，并將電極料(也稱電極膜)固定在基片上。用這種涂布機(jī)生產(chǎn)電池的正極或負(fù)極，其電極膜的厚度對后道工序制成的電池的質(zhì)量影響很大，因此，對于電極膜的厚度的控制就顯得十分重要。最傳統(tǒng)的狹縫式涂布機(jī)是靠開機(jī)時(shí)，進(jìn)行試樣而得出涂布機(jī)頭的適當(dāng)涂布間隙后，保持這一涂布間隙，而進(jìn)行后續(xù)生產(chǎn)；如在開機(jī)時(shí)，根據(jù)不同電極漿料的濃度及成份，結(jié)合以往的經(jīng)驗(yàn)設(shè)置一個(gè)涂布間隙，涂布、干燥后，測量膜厚，根據(jù)測量的結(jié)果，調(diào)節(jié)涂布間隙；如此反復(fù)，直到涂布間隙調(diào)整合適，才正規(guī)大量生產(chǎn)，這種方法的缺陷是開機(jī)時(shí)不可避免會生一部分廢品；其次就是在正規(guī)的大量生產(chǎn)過程中，由于電子漿料的濃度、料壓及涂布間隙的機(jī)械變化，都會影響到最后的膜厚變化，當(dāng)我們在生產(chǎn)過程中，通過測量而發(fā)現(xiàn)膜厚發(fā)生變化時(shí)為時(shí)已晚。為了解決上述問題，中國專利文獻(xiàn)CN201361603Y公開了一種自動(dòng)控制涂布間隙的極片涂布機(jī)，這種極片涂布機(jī)通過實(shí)時(shí)檢測涂布機(jī)的涂布間隙與預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)涂布間隙時(shí)行比較，從而保證準(zhǔn)確的涂布間隙，以達(dá)到統(tǒng)一的干燥厚度。這種涂布機(jī)采用位于刮刀輥一側(cè)的CMOS光成像傳感器，和位于刮刀輥另一側(cè)的檢測光源，當(dāng)涂布機(jī)的涂布間隙發(fā)生變化時(shí)，CMOS光成像傳感器采集到的光照度就會發(fā)生變化，此變化信號被反饋到數(shù)字信號處理器進(jìn)行處理，根據(jù)處理結(jié)果輸出控制指令調(diào)節(jié)涂布間隙。這種涂布機(jī)單純地依靠透過涂布間隙的光照度來推測電極膜的干燥厚度，其實(shí)只是一種預(yù)測，并不能真實(shí)的反映實(shí)際的電極膜的干燥厚度，另外，這種透過涂布間隙的光照度很容易受到電子料漿的粒度、濃度的影響，而使光照度發(fā)生錯(cuò)誤的變化，從而得出完全不符合實(shí)際情況的調(diào)控。從所周知，電極膜的干燥厚度受到料漿濃度、料漿對涂布輥的壓力(也稱料壓)，以及機(jī)械性能等諸多因素的影響，單純地靠測量涂布間隙來控制電極膜的干燥厚度，是不足以達(dá)到技術(shù)要求的。

發(fā)明內(nèi)容
為了克服上述問題，本發(fā)明向社會提供一種以在前的相鄰的實(shí)測點(diǎn)所測數(shù)據(jù)的比值為下一實(shí)測點(diǎn)的標(biāo)準(zhǔn)比值，可提高膜厚均勻度，且膜厚在允許誤差范圍內(nèi)的狹縫式涂布機(jī)膜厚的控制方法。本發(fā)明的另一個(gè)目的是向社會提供一種實(shí)現(xiàn)上述方法的膜厚控制系統(tǒng)。本發(fā)明的技術(shù)方案是提供一種狹縫式涂布機(jī)膜厚的控制方法，包括如下步驟，
I.設(shè)置開始時(shí)標(biāo)準(zhǔn)干料厚度與標(biāo)準(zhǔn)濕料厚度之比的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值，并開始按此干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值進(jìn)行涂布漿料；
2.定時(shí)用設(shè)置于涂布機(jī)出料口處的濕料厚度測量儀測量濕料厚度值，以及用設(shè)置于涂布機(jī)烘箱出料口處的干料厚度測量儀測量干料厚度值；
3.如果所測量的干料厚度值落在預(yù)定的允許的干料厚度范圍內(nèi)，則以該測量的干料厚度值與測量的濕料厚度值之比，作為新的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值；如果所測量的干料厚度值超出預(yù)定的允許的干料厚度范圍，則以標(biāo)準(zhǔn)干料厚度值與測量的濕料厚度值之比，作為新的干濕標(biāo)準(zhǔn)比值，并同時(shí)調(diào)整涂布間隙，以保持該測量的濕料厚度值； 4.記錄并保存新的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值；
5.以新的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值繼續(xù)進(jìn)行涂布漿料；
6.重復(fù)第2至第5步，進(jìn)行連續(xù)涂布漿料。本發(fā)明還包括濕料厚度測量儀和/或干料厚度測量儀校正步驟7，間隔預(yù)定時(shí)間，用厚度標(biāo)準(zhǔn)片對濕料厚度測量儀和/或干料厚度測量儀校正一次，以保證濕料厚度測量儀和/或干料厚度測量儀測試準(zhǔn)確度。本發(fā)明還提供一種狹縫式涂布機(jī)膜厚控制系統(tǒng)，包括
-濕料厚度測量儀，用于測量涂布機(jī)出料口處的濕料厚度；
-干料厚度測量儀，用于涂布機(jī)烘箱出料口處的干料厚度；
-比較器，用于將干料厚度測量儀所測量的結(jié)果與預(yù)定的允許的干料厚度范圍進(jìn)行比較，并將比較結(jié)果輸送給數(shù)字信息處理器；
-計(jì)算器，用于根據(jù)干料厚度測量儀和濕料厚度測量儀在線測試值計(jì)算出干濕料比
值；
-第一存儲器，用于存儲干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值；
-第二存儲器，用于臨時(shí)存儲新的干濕料比值；
-數(shù)字信息處理器，協(xié)調(diào)濕料厚度測量儀、干料厚度測量儀、比較器、第一存儲器、第二存儲器和執(zhí)行機(jī)構(gòu)按程序工作，如果所測量的干料厚度值落在預(yù)定的允許的干料厚度范圍內(nèi)，則以該測量的干料厚度值與同時(shí)測量的濕料厚度值之比，作為新的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值；如果所測量的干料厚度值超出預(yù)定的允許的干料厚度范圍，則以標(biāo)準(zhǔn)干料厚度值與測量的濕料厚度值之比，作為新的干濕標(biāo)準(zhǔn)比值，并將第二存儲器中的新的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值轉(zhuǎn)移到第一存儲器內(nèi)；
-執(zhí)行機(jī)構(gòu)，根據(jù)數(shù)字信息處理器的指令，調(diào)整涂布機(jī)的涂布間隙。本發(fā)明中，還包括厚度測試儀校正機(jī)構(gòu)，所述校正機(jī)構(gòu)包括U型固定架、厚度測量儀、厚度標(biāo)準(zhǔn)片和同步傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述厚度測量儀設(shè)置在所述U型固定架的開口端，所述同步傳動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)U型固定架的開口端接近或遠(yuǎn)離同步傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)電機(jī),所述厚度標(biāo)準(zhǔn)片位于U型固定架的開口端與所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)之間。本發(fā)明中，所述濕料厚度測量儀和/或所述干料厚度測量儀可以是激光厚度測量儀、紅外射線反射光譜厚度測量儀或β射線厚度測量儀。本發(fā)明中，所述的預(yù)定的允許的干料厚度范圍是小于實(shí)際產(chǎn)品允許出廠的干料厚度范圍的，如設(shè)電極片的膜厚允許出廠的膜厚范圍是100 μ正負(fù)5 μ ;那么，預(yù)定的允許的干料厚度范圍最好在100μ正負(fù)3μ的范圍內(nèi)，這樣，可以確保出廠的產(chǎn)品在合符出廠標(biāo)準(zhǔn)。
本發(fā)明采用以在前的相鄰的實(shí)測點(diǎn)所測數(shù)據(jù)的比值，在干料厚度值在落在預(yù)定的允許的干料厚度范圍內(nèi)時(shí)，作為下一實(shí)測點(diǎn)的新的標(biāo)準(zhǔn)比值，這樣，可以提高膜厚均勻度，且可保證干料膜厚是在允許誤差范圍內(nèi)。


圖I是本發(fā)明一種控制方法的方框結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本發(fā)明一種控制系統(tǒng)的方框結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是本發(fā)明中的一種厚度測試儀校正機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式請參見圖1，圖I揭示的是一種狹縫式涂布機(jī)膜厚的控制方法，包括如下步驟，
1.設(shè)置開始時(shí)標(biāo)準(zhǔn)干料厚度與標(biāo)準(zhǔn)濕料厚度之比的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值，并開始按此干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值進(jìn)行涂布漿料，在此步驟中，假設(shè)涂布后的電極干料厚度為100μ正負(fù)5μ ；在涂布開始時(shí)的電極料漿的固含量為49%，再綜合考慮電極料漿的料壓等因素，設(shè)定干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值100 200,即濕料厚度值是200 μ，則干料厚度值為100 μ，并以此干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值100 :200調(diào)整涂布間隙，并開始涂布；
2.定時(shí)用設(shè)置于涂布機(jī)出料口處的濕料厚度測量儀測量濕料厚度值，以及用設(shè)置于涂布機(jī)烘箱出料口處的干料厚度測量儀測量干料厚度值；在本步驟中，假設(shè)涂布機(jī)的運(yùn)行速度是6米/分鐘，烘箱的長度是18米，那么從涂布機(jī)的涂布口到烘箱的出口，電極膜大約需要3分多鐘，那么我們可以定時(shí)設(shè)置3-4分鐘，同時(shí)測量濕料厚度值和干料厚度值；
3.比較并計(jì)算，如果所測量的干料厚度值落在預(yù)定的允許的干料厚度范圍內(nèi)，則以該測量的干料厚度值與測量的濕料厚度值之比，作為新的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值，還以上述的假設(shè)，干料厚度值為100 μ正負(fù)5 μ，這時(shí)，預(yù)定的允許的干料厚度可以設(shè)定為100 μ正負(fù)3 μ ；如果所測量的干料厚度值超出預(yù)定的允許的干料厚度范圍(100μ正負(fù)3μ內(nèi))，則以標(biāo)準(zhǔn)干料厚度值(100μ )與測量的濕料厚度值之比，作為新的干濕標(biāo)準(zhǔn)比值，并同時(shí)調(diào)整涂布間隙，以保持該測量的濕料厚度值；本發(fā)明中，之所以要采用動(dòng)態(tài)的干濕標(biāo)準(zhǔn)比值來控制涂布機(jī)的濕料厚度，是因?yàn)殡姌O料漿在涂布過程中，其固含量是呈越來越濃的不斷變化的，以上述例子為例，開始涂布初期，電極料漿濃度較稀，其濕料厚度為200 μ時(shí)，經(jīng)干燥后，電極膜的干燥厚度可能為100 μ，但隨著涂布的繼續(xù)進(jìn)行，電極料漿越來越濃，可能濕料厚度為190 μ，甚至190 μ時(shí)，最后的電極膜的干燥厚度也可能為100 μ，如果總是以開始時(shí)的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值100 :200來控制涂布機(jī)，顯然，最后的電極膜的干燥厚度就有可以超標(biāo)，但是，采用動(dòng)態(tài)的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值后，就可以有效地解決這個(gè)問題；
4.記錄并保存新的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值； 5.以新的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值繼續(xù)進(jìn)行涂布漿料；
6.重復(fù)第2至第5步，進(jìn)行連續(xù)涂布漿料。為了進(jìn)一步提高本控制方法的精確度，可以在間隔預(yù)定時(shí)間(如每間隔30-40分鐘)，用厚度標(biāo)準(zhǔn)片對濕料厚度測量儀和/或干料厚度測量儀校正一次，以保證濕料厚度測量儀和/或干料厚度測量儀測試準(zhǔn)確度。請參見圖2，本發(fā)明還提供一種狹縫式涂布機(jī)膜厚控制系統(tǒng)，包括-濕料厚度測量儀11，用于測量涂布機(jī)出料口處的濕料厚度；
-干料厚度測量儀12，用于涂布機(jī)烘箱出料口處的干料厚度；
-比較器13，用于將干料厚度測量儀所測量的結(jié)果與預(yù)定的允許的干料厚度范圍進(jìn)行比較，并將比較結(jié)果輸送給數(shù)字信息處理器； -計(jì)算器14，用于根據(jù)干料厚度測量儀和濕料厚度測量儀在線測試值計(jì)算出干濕料比
值；
-第一存儲器15，用于存儲干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值；
-第二存儲器16，用于存儲臨時(shí)干濕料比值；
-數(shù)字信息處理器17，協(xié)調(diào)濕料厚度測量儀、干料厚度測量儀、比較器、第一存儲器、第二存儲器和執(zhí)行機(jī)構(gòu)按程序工作；具體地說，數(shù)字信息處理器以下述方式工作，開始涂布時(shí)，以設(shè)置的開始時(shí)標(biāo)準(zhǔn)干料厚度與標(biāo)準(zhǔn)濕料厚度之比的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值，進(jìn)行涂布漿料；在預(yù)定時(shí)間時(shí)，控制設(shè)置于涂布機(jī)出料口處的濕料厚度測量儀測量濕料厚度值，以及控制設(shè)置于涂布機(jī)烘箱出料口處的干料厚度測量儀測量干料厚度值；通過比較器，對測試數(shù)據(jù)進(jìn)行比較，如果所測量的干料厚度值落在預(yù)定的允許的干料厚度范圍內(nèi)，則以該測量的干料厚度值與測量的濕料厚度值之比，作為新的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值；如果所測量的干料厚度值超出預(yù)定的允許的干料厚度范圍，則以標(biāo)準(zhǔn)干料厚度值與測量的濕料厚度值之比，作為新的干濕標(biāo)準(zhǔn)比值，也就是說，將存儲于第二存儲器中的臨時(shí)干濕料比值，轉(zhuǎn)移到第一存儲器中，復(fù)蓋原來的第一存儲器中的數(shù)字，并同時(shí)調(diào)整涂布間隙，以保持該測量的濕料厚度值；記錄并保存新的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值；以新的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值繼續(xù)進(jìn)行涂布漿料；
-執(zhí)行機(jī)構(gòu)18，根據(jù)數(shù)字信息處理器的指令，調(diào)整涂布機(jī)的涂布間隙。-厚度測試儀校正機(jī)構(gòu)19，用于校正厚度測試儀的測量精度。請見圖3，圖3是本發(fā)明中的一種厚度測試儀校正機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。從圖可知，所述厚度測試儀校正機(jī)構(gòu)19包括U型固定架191、厚度測量儀11、12(可以是濕料厚度測量儀或干料厚度測量儀12)、厚度標(biāo)準(zhǔn)片193 (可以是市場上購買的厚度標(biāo)準(zhǔn)片，也可以是自已以電極片194制作的厚度標(biāo)準(zhǔn)片)和同步傳動(dòng)機(jī)構(gòu)192，所述厚度測量儀11、12設(shè)置在所述U型固定架191的開口端，所述同步傳動(dòng)機(jī)構(gòu)192帶動(dòng)U型固定架191的開口端接近或遠(yuǎn)離同步傳動(dòng)機(jī)構(gòu)192的驅(qū)動(dòng)電機(jī)1921，所述厚度標(biāo)準(zhǔn)片193位于U型固定架191的開口端與所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)1921之間，本實(shí)施例中，所述同步傳動(dòng)機(jī)構(gòu)192包括驅(qū)動(dòng)電機(jī)1921 (可以伺服電機(jī))，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)1922 (可以絲桿、同步帶或V型帶等)、導(dǎo)向機(jī)構(gòu)1923 (可以導(dǎo)軌、直線軸承等)，將U型固定架191的U形槽1911套在電極片194上，正常測量時(shí)，使厚度測量儀
11、12正對電極片194，當(dāng)需要校正時(shí)，通過驅(qū)動(dòng)電機(jī)1921將厚度測量儀11、12移動(dòng)到厚度標(biāo)準(zhǔn)片193的上下側(cè)，對厚度標(biāo)準(zhǔn)片193進(jìn)行測量，以達(dá)到校正厚度測量儀11、12的目的。本發(fā)明中，所述濕料厚度測量儀和/或所述干料厚度測量儀可以是激光厚度測量儀、紅外射線反射光譜厚度測量儀或β射線厚度測量儀。本發(fā)明中，所述的預(yù)定的允許的干料厚度范圍是小于實(shí)際產(chǎn)品允許出廠的干料厚度范圍的，如設(shè)電極片的膜厚允許出廠的膜厚范圍是100 μ正負(fù)5 μ ;那么，預(yù)定的允許的干料厚度范圍最好在100μ正負(fù)3μ的范圍內(nèi)，這樣，可以確保出廠的產(chǎn)品在合符出廠標(biāo)準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種狹縫式涂布機(jī)膜厚的控制方法，其特征在于包括如下步驟， . 1.設(shè)置開始時(shí)標(biāo)準(zhǔn)干料厚度與標(biāo)準(zhǔn)濕料厚度之比的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值，并開始按此干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值進(jìn)行涂布漿料； .2.定時(shí)用設(shè)置于涂布機(jī)出料口處的濕料厚度測量儀測量濕料厚度值，以及用設(shè)置于涂布機(jī)烘箱出料口處的干料厚度測量儀測量干料厚度值； .3.如果所測量的干料厚度值落在預(yù)定的允許的干料厚度范圍內(nèi)，則以該測量的干料厚度值與同時(shí)測量的濕料厚度值之比，作為新的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值；如果所測量的干料厚度值超出預(yù)定的允許的干料厚度范圍，則以標(biāo)準(zhǔn)干料厚度值與測量的濕料厚度值之比，作為新的干濕標(biāo)準(zhǔn)比值，并同時(shí)調(diào)整涂布間隙，以保持該測量的濕料厚度值； . 4.記錄并保存新的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值； .5.以新的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值繼續(xù)進(jìn)行涂布漿料； .6.重復(fù)第2至第5步，進(jìn)行連續(xù)涂布漿料。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的狹縫式涂布機(jī)膜厚的控制方法，其特征在于還包括濕料厚度測量儀和/或干料厚度測量儀校正步驟7，間隔預(yù)定時(shí)間，用厚度標(biāo)準(zhǔn)片對濕料厚度測量儀和/或干料厚度測量儀校正一次，以保證濕料厚度測量儀和/或干料厚度測量儀測試準(zhǔn)確度。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的狹縫式涂布機(jī)膜厚的控制方法，其特征在于所述濕料厚度測量儀和/或干料厚度測量儀是激光厚度測量儀。
4.一種狹縫式涂布機(jī)膜厚控制系統(tǒng)，其特征在于，包括 -濕料厚度測量儀，用于測量涂布機(jī)出料口處的濕料厚度； -干料厚度測量儀，用于涂布機(jī)烘箱出料口處的干料厚度； -比較器，用于將干料厚度測量儀所測量的結(jié)果與預(yù)定的允許的干料厚度范圍進(jìn)行比較，并將比較結(jié)果輸送給數(shù)字信息處理器； -計(jì)算器，用于根據(jù)干料厚度測量儀和濕料厚度測量儀在線測試值計(jì)算出干濕料比值； -第一存儲器，用于存儲干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值； -第二存儲器，用于臨時(shí)存儲新的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值； -數(shù)字信息處理器，協(xié)調(diào)濕料厚度測量儀、干料厚度測量儀、比較器、第一存儲器、第二存儲器和執(zhí)行機(jī)構(gòu)按程序工作，如果所測量的干料厚度值落在預(yù)定的允許的干料厚度范圍內(nèi)，則以該測量的干料厚度值與同時(shí)測量的濕料厚度值之比，作為新的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值；如果所測量的干料厚度值超出預(yù)定的允許的干料厚度范圍，則以標(biāo)準(zhǔn)干料厚度值與測量的濕料厚度值之比，作為新的干濕標(biāo)準(zhǔn)比值，并將第二存儲器中的新的干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值轉(zhuǎn)移到第一存儲器內(nèi)； -執(zhí)行機(jī)構(gòu)，根據(jù)數(shù)字信息處理器的指令，調(diào)整涂布機(jī)的涂布間隙。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的狹縫式涂布機(jī)膜厚控制系統(tǒng)，其特征在于還包括厚度測試儀校正機(jī)構(gòu)，所述校正機(jī)構(gòu)包括U型固定架、厚度測量儀、厚度標(biāo)準(zhǔn)片和同步傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述厚度測量儀設(shè)置在所述U型固定架的開口端，所述同步傳動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)U型固定架的開口端接近或遠(yuǎn)離同步傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述厚度標(biāo)準(zhǔn)片位于U型固定架的開口端與所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的狹縫式涂布機(jī)膜厚控制系統(tǒng)，其特征在于所述濕料厚度測量儀和/或干料厚度測量儀是激光厚度測量儀。
7.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的狹縫式涂布機(jī)膜厚控制系統(tǒng)，其特征在于所述濕料厚度測量儀是紅外射線反射光譜厚度測量儀。
8.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的狹縫式涂布機(jī)膜厚控制系統(tǒng)，其特征在于所述干料厚度測量儀是紅外射線反射光譜厚度測量儀。
9.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的狹縫式涂布機(jī)膜厚控制系統(tǒng)，其特征在于所述濕料厚度測量儀是β射線厚度測量儀。
10.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的狹縫式涂布機(jī)膜厚控制系統(tǒng)，其特征在于所述干料厚度測量儀是β射線厚度測量儀。
全文摘要
一種狹縫式涂布機(jī)膜厚的控制方法及膜厚控制系統(tǒng)，其中系統(tǒng)包括濕料厚度測量儀，用于測量濕料厚度；干料厚度測量儀，用于測量干料厚度；比較器，用于將干料厚度測量儀所測量的結(jié)果與預(yù)定的允許的干料厚度范圍進(jìn)行比較，并將比較結(jié)果輸送給數(shù)字信息處理器；計(jì)算器，用于根據(jù)干料厚度測量儀和濕料厚度測量儀在線測試值計(jì)算出干濕料比值；第一存儲器，用于存儲干濕料標(biāo)準(zhǔn)比值；第二存儲器，用于存儲臨時(shí)干濕料比值；數(shù)字信息處理器，協(xié)調(diào)濕料厚度測量儀、干料厚度測量儀、比較器、第一存儲器、第二存儲器和執(zhí)行機(jī)構(gòu)按程序工作；執(zhí)行機(jī)構(gòu)，調(diào)整涂布機(jī)的涂布間隙。本發(fā)明可以提高膜厚均勻度，且可保證干料膜厚是在允許誤差范圍內(nèi)。
文檔編號B05C11/02GK102632019SQ201210148008
公開日2012年8月15日 申請日期2012年5月15日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月15日
發(fā)明者楊志明 申請人:深圳市信宇人科技有限公司