專利名稱：粘著片以及電子設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及粘著片、以及具備該粘著片作為電子設(shè)備用構(gòu)件的電子設(shè)備。
背景技術(shù)：
近幾年，有機(jī)電子學(xué)作為能夠使用涂布或印刷工序在撓性的塑料基板上在接近室溫的低溫下形成顯示器、電路、電池等的技術(shù)受到關(guān)注，進(jìn)行著各種各樣的有機(jī)設(shè)備的研究開發(fā)。例如，作為用于液晶顯示器或者電致發(fā)光(EL)顯示器的發(fā)光元件，利用低電壓直流驅(qū)動的可高亮度發(fā)光的有機(jī)EL元件受到關(guān)注。在這些顯示器中，為了實現(xiàn)薄型化、輕量化、撓性化等，對將透明塑料薄膜用作具有電極的基板進(jìn)行了研究。但是，該有機(jī)EL元件在驅(qū)動一定時間后，存在發(fā)光亮度、發(fā)光效率、發(fā)光均勻性等發(fā)光特性與初期相比劣化的問題。作為該問題的原因，認(rèn)為是侵入到有機(jī)EL元件內(nèi)的氧或水蒸氣等引起的電極的氧化或有機(jī)物的改性、驅(qū)動時的熱引起的有機(jī)材料的氧化分解等。作為基板使用的塑料薄膜，易于透過氧或水蒸氣等，存在容易引起有機(jī)EL元件的劣化的問題。為了解決上述問題，研究了將有機(jī)EL元件通過具有抑制與氧或水蒸氣的接觸的阻氣性的粘著片密封。作為付與阻氣性的方法，通常為公知的是硅蒸鍍膜，但是由于蒸鍍需要大型設(shè)備，在成本方面存在問題。此外，公開了在薄膜的至少一面上形成聚硅氮烷膜，在該聚硅氮烷膜上實施等離子體處理，來制備阻氣性薄膜的方法(參照專利文獻(xiàn)I)。然而，使用該阻氣性薄膜作為基材時，存在阻氣層產(chǎn)生裂紋等的問題。除此之外，作為有機(jī)設(shè)備用的粘著片，例如，公開了使用聚異丁烯系的樹脂作為粘結(jié)層使用的粘結(jié)性薄膜(參照專利文獻(xiàn)2)。然而，專利文獻(xiàn)2的粘結(jié)層難以抵抗高溫 紫外線等，有機(jī)EL元件或設(shè)備根據(jù)長時間驅(qū)動或驅(qū)動環(huán)境而暴露在高溫下或紫外線照射下，有可能存在粘結(jié)層的樹脂本身劣化，粘結(jié)性薄膜的性能降低以及伴隨其的有機(jī)EL元件的劣化的問題。在先技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I特開2007-237588號公報專利文獻(xiàn)2特開2007-197517號公報

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于上 述問題的解決，目的在于提供阻氣性、耐彎折性、以及透明性良好的粘著片、以及具備將該粘著片作為電子設(shè)備用構(gòu)件的電子設(shè)備。本發(fā)明的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，構(gòu)成粘著片的阻氣層由至少含有氧原子和硅原子的材料構(gòu)成的，阻氣層的表層部中的氧原子、氮原子以及硅原子的存在比例、以及膜密度為特定的范圍的粘著片能夠解決上述課題。gp，本發(fā)明提供下述[1]_[8]。[I] 一種粘著片，該粘著片在基材上至少具有阻氣層和粘著劑層，其中，所述阻氣層由至少含有氧原子和硅原子的材料構(gòu)成，相對于所述阻氣層的表層部中的氧原子、氮原子以及硅原子的存在總量，氧原子的存在比例為60-75%、氮原子的存在比例為0-10%，硅原子的存在比例為25-35%，且所述阻氣層的表層部的膜密度為2.4-4.0g/cm3。[2]根據(jù)上述[I]所述的粘著片，其中，構(gòu)成所述阻氣層的材料由聚硅氮烷化合物形成。[3]根據(jù)上述[2]所述的粘著片，其中，所述聚硅氮烷化合物為全氫聚硅氮烷。[4]根據(jù)上述[1]_[3]中任意一項所述的粘著片，其中，所述阻氣層通過注入離子而形成。[5]根據(jù)上述[4]所述的粘著片，其中，所述離子是將選自由氫、氮、氧、氬、氦、氖、氙、以及氪組成的組中的至少一種氣體離子化而得到的。[6]根據(jù)上述[1]-[5]中任意一項所述的粘著片，其中，在40°C、相對濕度90%的氛圍下，50 μ m厚度的所述粘著劑層的水蒸氣透過率為25g/m2/天以下。[7]根據(jù)上述[1]_[6]中任意一項所述的粘著片，其中，形成所述粘著劑層的粘著劑為橡I父系粘著劑或丙稀酸系粘著劑。[8] 一種電子設(shè)備，該電子設(shè)備具備上述[1]_[7]中任意一項所述的粘著片作為電子設(shè)備用構(gòu)件。

本發(fā)明的粘著片具有良好的阻氣性、耐彎折性、以及透明性。因此，本發(fā)明的粘著片能夠適用于顯示器或太陽能電池等的電子設(shè)備。


[圖1]為表示本發(fā)明的粘著片的構(gòu)成的一個例子的圖。[圖2]為表示使用了本發(fā)明的粘著片的有機(jī)EL元件的例子的圖。
具體實施例方式[粘著片]本發(fā)明的粘著片在基材上至少具有阻氣層和粘著劑層。圖1為表示本發(fā)明的粘著片的構(gòu)成的一個例子的圖。本發(fā)明的粘著片至少具有基材、阻氣層、粘著劑層，只要粘著劑層存在于最外層，層壓的順序沒有特別限定。例如，如圖1的(Al)所示，可舉出在基材2的單面上層壓阻氣層3，在該阻氣層3上層壓粘著劑層4的粘著片I。此外，如圖1的(A2)的粘著片Ia所示，也可以在基材2的單面上層壓粘著劑層4，在基材2的與粘著劑層4相反側(cè)上形成阻氣層3。另外，如圖1的(B)所示，也可以在基材2的單面上層壓阻氣層3、粘著劑層4a，在此基礎(chǔ)上，在相反側(cè)的基材的表面上設(shè)置粘著劑層4b,形成雙面上具有粘著劑層的粘著片Ib0進(jìn)一步，如圖1的(C)所示，也可以在層壓于基材2a的單面上的阻氣層3a和層壓于基材2b的單面的阻氣層3b兩個阻氣層3a、3b之間設(shè)置粘著劑層4a，形成在基材2a、2b的與設(shè)置有阻氣層的面相反側(cè)分別具有粘著劑層4b、4c的粘著片lc。該粘著片lc，粘著劑層4a不僅與兩個阻氣層3a、3b相接，在從外部施加沖擊時，能夠發(fā)揮吸收沖擊，保護(hù)阻氣層3a、3b的作用。另外，圖1沒有表示，但是可以設(shè)置基材、阻氣層、粘著劑層以外的“其它層”。其它層層壓的位置沒有特別的限定，可以根據(jù)各層的作用適當(dāng)?shù)剡x擇。以下，對于構(gòu)成粘著片的(I)基材、(2)阻氣層、(3)粘著劑層、(4)其它層依次進(jìn)行說明。〔(I)基材〕本發(fā)明的基材，為聚硅氮烷化合物以外的材料，只要是具有自承性、與本發(fā)明的目的相一致即可。作為使用的基材，可以列舉例如聚酰亞胺、聚酰胺、聚酰胺酰亞胺、聚苯醚、聚醚酮、聚醚醚酮、聚烯烴、聚酯、聚碳酸酯、聚砜、聚醚砜、聚苯硫醚、聚芳酯、丙烯酸系樹脂、環(huán)烯烴系聚合物、芳香族系聚合物等。其中，從透明性優(yōu)異、具有通用性的觀點考慮，優(yōu)選聚酯、聚酰胺或環(huán)烯烴系聚合物，更優(yōu)選聚酯或環(huán)烯烴系聚合物。聚酯可以列舉聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚芳酯等。 聚酰胺可以列舉全芳香族聚酰胺、尼龍6、尼龍66、尼龍共聚物等。環(huán)烯烴系聚合物可以列舉降冰片烯系聚合物、單環(huán)的環(huán)狀烯烴系聚合物、環(huán)狀共軛二烯系聚合物、乙烯基脂環(huán)式烴聚合物和它們的加氫產(chǎn)物等，它們的市售品的具體例可以列舉APEL (三井化學(xué)社制的乙烯-環(huán)烯烴共聚物)、ARTON (JSR社制的降冰片烯系聚合物)、ZEONOR (日本七、才 >社制的降冰片烯系聚合物)等?；牡暮穸葲]有特別的限定，優(yōu)選為0.5-500 μ m，更優(yōu)選為1_200 μ m，更優(yōu)選為10-100 μ mD〔(2)阻氣層〕本發(fā)明的粘著片的阻氣層至少滿足以下(a)_ (C)的要素。(a)由至少含有氧原子和硅原子的材料構(gòu)成。(b)相對于阻氣層的表層部中的氧原子、氮原子和硅原子的存在總量，氧原子的存在比例為60-75%，氮原子的存在比例為0-10%，硅原子的存在比例25-35%。(c)阻氣層的表層部的膜密度為2.4-4.0g/cm3。通過使用具備上述要素(a)_ (c)的阻氣層，能夠得到阻氣性、耐彎折性、以及透明性良好的粘著片。本發(fā)明的粘著片具有良好的阻氣性，可以從水蒸氣等氣體的透過率非常小來確認(rèn)。在40°C、相對濕度90%的氛圍下，阻氣層的水蒸氣透過率優(yōu)選為1.0g/m2/天以下，更優(yōu)選為0.5g/m2/天以下，進(jìn)一步優(yōu)選為0.lg/m2/天以下。另外，水蒸氣透過率可以使用公知的氣體透過率測定裝置進(jìn)行測定，本發(fā)明中，是指通過實施例中記載的方法測定的值(以下相同)。此外，本發(fā)明的粘著片具有良好的耐彎折性，即使進(jìn)行彎折等，也可維持阻氣性，這可以由下述那樣確認(rèn):將粘著片彎折成兩截并施加壓力，再次打開時彎折的部分的阻氣層沒有劣化，水蒸氣透過率也幾乎沒有降低。本發(fā)明的粘著片與相同厚度的無機(jī)膜作為阻氣層層壓的情況相比，在即使彎折后也可維持阻氣性這方面是優(yōu)異的。(要素(a))作為滿足上述要素(a)的材料，從提高阻氣性、耐彎折性、以及透明性的觀點考慮，優(yōu)選為聚硅氮烷化合物。聚硅氮烷化合物是在分子內(nèi)具有含有-S1-N-鍵的重復(fù)單元的高分子，具體地，可舉出具有用式(I)表示的重復(fù)單元的化合物。[化合物I]
權(quán)利要求
1.一種粘著片，該粘著片在基材上至少具有阻氣層和粘著劑層，其特征在于， 所述阻氣層由至少含有氧原子和硅原子的材料構(gòu)成， 相對于所述阻氣層的表層部中的氧原子、氮原子以及硅原子的存在總量，氧原子的存在比例為60-75%、氮原子的存在比例為0-10%，硅原子的存在比例為25-35%， 且所述阻氣層的表層部的膜密度為2.4-4.0g/cm3。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粘著片，其中，構(gòu)成所述阻氣層的材料由聚硅氮烷化合物形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的粘著片，其中，所述聚硅氮烷化合物為全氫聚硅氮烷。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項所述的粘著片，其中，所述阻氣層通過注入離子而形成。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的粘著片，其中，所述離子是將選自由氫、氮、氧、氬、氦、氖、氙、以及氪組成的組中的至少一種氣體離子化而得到的。
6.根據(jù)權(quán)利要 求1-5中任意一項所述的粘著片，其中，在40°C、相對濕度90%的氛圍下,50 μ m厚度的所述粘著劑層的水蒸氣透過率為25g/m2/天以下。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任意一項所述的粘著片，其中，形成所述粘著劑層的粘著劑為橡月父系粘著劑或丙稀酸系粘著劑。
8.一種電子設(shè)備，該電子設(shè)備具備權(quán)利要求1-7中任意一項所述的粘著片作為電子設(shè)備用構(gòu)件。
全文摘要
本發(fā)明涉及粘著片以及具備該粘著片作為電子設(shè)備用構(gòu)件的電子設(shè)備，所述粘著片為在至少單面上具有阻氣層和粘著劑層的粘著片，其中，所述阻氣層由至少含有氧原子和硅原子的材料構(gòu)成，相對于所述阻氣層的表層部中的氧原子、氮原子以及硅原子的存在總量，氧原子的存在比例為60-75%，氮原子的存在比例為0-10%，硅原子的存在比例為25-35%，且所述阻氣層的表層部的膜密度為2.4-4.0g/cm3。本發(fā)明可以提供阻氣性、耐彎折性以及透明性良好的粘著片、以及具備該粘著片作為電子設(shè)備用構(gòu)件的電子設(shè)備。
文檔編號C09J7/02GK103154172SQ201180042769
公開日2013年6月12日 申請日期2011年8月18日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月7日
發(fā)明者上村和惠, 網(wǎng)野由美子, 鈴木悠太, 小野義友, 中島惠美 申請人:琳得科株式會社