專利名稱：著色組合物、濾色器以及彩色液晶顯示元件的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及著色組合物、濾色器以及彩色液晶顯示元件，更具體而言，涉及用于形成對透射型或反射型的彩色液晶顯示裝置、彩色攝像管元件等中所使用的濾色器有用的著色層的著色組合物，涉及具備利用該著色組合物所形成的著色層的濾色器以及具備該濾色器的彩色液晶顯示元件。
背景技術：
作為利用著色放射線敏感性組合物形成濾色器的方法，已知在基板上或者預先形成有所需圖案的遮光層的基板上形成著色放射線敏感性組合物的涂膜，介由具有規(guī)定的圖案的光掩模照射放射線(以下稱為“曝光”。)，進行顯影，將未曝光部分溶解除去，然后進行后烘烤，從而得到各色的像素的方法(專利文獻1和幻。另外，還知道利用含有黑色材料的光聚合性組合物形成黑矩陣的方法(專利文獻3)。而且，在近年來的濾色器的技術領域中，降低曝光量、縮短產距時間已成為主流， 即使在低曝光量下也要求具有充分的顯影耐性、耐溶劑性等，即要求著色層形成用放射線敏感性組合物的高靈敏化。尤其是有關耐溶劑性，在像素圖案中產生裂縫、空缺或從像素圖案中溶出著色成分的問題日益明顯，需要解決這種情況。上述問題的背景可以認為與以下情況相關為了應對近年來對彩色液晶顯示元件的高對比度化、高亮度化以及高色純度化的要求，對著色放射線敏感性組合物中使用的顏料的大部分進行各種各樣的微細化處理、 表面處理；在著色放射線敏感性組合物中顏料所占的含有比例具有變得越來越高的傾向寸。另一方面，在專利文獻4中，為了提高使用著色組合物形成的著色層的耐試劑性， 提出了使其含有三聚氰胺樹脂等作為交聯(lián)劑。但是，就所述的著色組合物而言，存在如果曝光量變低或使用特定的顏料，則無法得到充分的顯影耐性和耐溶劑性的問題。
專利文獻專利文獻1 專利文獻2 專利文獻3 專利文獻4
日本特開平2-144502號公報日本特開平3-53201號公報日本特開平6-35188號公報日本特開2007-225717號公報

發(fā)明內容
本發(fā)明的課題在于提供一種能夠形成即使在低曝光量下也具有充分的顯影耐性且耐溶劑性優(yōu)異的像素和黑矩陣的著色組合物。本發(fā)明的其他課題在于提供一種具有由上述著色組合物形成的像素的濾色器以及具備該濾色器的彩色液晶顯示元件。本發(fā)明人等進行了深入的研究，結果發(fā)現(xiàn)通過在著色劑以及粘接劑樹脂中含有介由氨基甲基氧基結構結合環(huán)氧乙基、氧雜環(huán)丁基或者具有聚合性不飽和鍵的基團的特定結構的交聯(lián)劑，能夠解決上述課題，從而完成了本發(fā)明。S卩，本發(fā)明提供一種著色組合物，其特征在于，含有(A)著色劑、(B)粘接劑樹脂以及(C)具有下式(1)表示的結構的化合物(以下有時將它們總稱為“特定交聯(lián)劑”)。
權利要求
1. 一種著色組合物，其特征在于，含有(A)著色劑、(B)粘接劑樹脂和(C)具有下式(1) 表示的結構的化合物，
2.根據權利要求1所述的著色組合物，其中，(C)成分具有酰脲結構、甘脲結構、三聚氰胺結構、苯代三聚氰二胺結構或咪唑烷-2-酮結構。
3.根據權利要求1或2所述的著色組合物，其中，(C)成分是從下式(1-1)、(1-2)、 (1-3)、(1-4)和(1-5)中選擇的化合物，
4.根據權利要求1 3中任一項所述的著色組合物，進一步含有⑶具有聚合性不飽和鍵的單體，但是所述(D)具有聚合性不飽和鍵的單體不包括所述(C)成分。
5.根據權利要求1 4中任一項所述的著色組合物，進一步含有(E)光聚合引發(fā)劑。
6.一種濾色器，具備利用權利要求1 5中任一項所述的著色組合物所形成的著色層。
7.一種彩色液晶顯示元件，具備權利要求6所述的濾色器。
8.一種交聯(lián)用化合物，具有下式(1)表示的結構，.
9. 一種交聯(lián)用化合物，用下式(1-1) (1-5)中的任一個表示，
全文摘要
本發(fā)明提供一種能夠形成即使在低曝光量下也具有充分的顯影耐性且耐溶劑性優(yōu)異的像素和黑矩陣的著色組合物。本發(fā)明的著色組合物的特征在于含有(A)著色劑、(B)粘接劑樹脂和(C)具有下式(1)表示的結構的化合物。在下式(1)中，X表示具有環(huán)氧乙基的基團、具有氧雜環(huán)丁基的基團或具有聚合性不飽和鍵的基團，“*”表示結合位點。
文檔編號C09B67/20GK102341731SQ20108000991
公開日2012年2月1日 申請日期2010年3月26日 優(yōu)先權日2009年3月30日
發(fā)明者成瀨秀則, 板野考史, 蓑輪貴樹 申請人:Jsr株式會社