專利名稱：一種涂布設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種涂布設(shè)備。
背景技術(shù)：
目前，制備多層材料時常用的方法包括在作為基底的板材上形成漿料層，然后將該漿料層干燥固化，從而得到牢固結(jié)合的多層材料。其中，在基底上形成漿料層時通常采用的方法為采用涂布設(shè)備進(jìn)行涂布。現(xiàn)有的涂布設(shè)備通常包括機(jī)架和涂布刀座，涂布刀座上有涂布刀，機(jī)架上有刮刀架，刮刀架上的刮刀可沿待涂布面移動。涂布時，將漿料置于涂布刀座內(nèi)，漿料由于重力作用可落到基底上，并且，隨著涂布刀座沿著基底運(yùn)動，涂布刀座可將漿料涂布與整片基底上。同時，與涂布刀座一通運(yùn)動的刮刀可將落于基底上的漿料刮平，使涂布得到的漿料層厚度均一。待上述涂布完成后，需要等漿料層靜置一段時間，待漿料層干燥后，方可移動，否則由于外界的震動可能導(dǎo)致漿料層厚度的變化，尤其是漿料比較稀時，甚至可能在漿料層固化后導(dǎo)致基底的褶皺，產(chǎn)生次品。而漿料層長時間的放置又嚴(yán)重的降低了生產(chǎn)效率。

發(fā)明內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的涂布設(shè)備的生產(chǎn)效率低下，并且漿料層厚度極易變化的問題，本發(fā)明提供了一種涂布設(shè)備，該涂布設(shè)備的生產(chǎn)效率高，并且操作穩(wěn)定，可很好的保證漿料層厚度的均一性，保證了產(chǎn)品的一致性。本發(fā)明公開的涂布設(shè)備包括涂布系統(tǒng)，所述涂布系統(tǒng)包括機(jī)臺和刮刀，所述機(jī)臺臺面可承載待涂布的基膜，所述刮刀設(shè)置于機(jī)臺臺面之上，并可平行于機(jī)臺臺面運(yùn)動；所述涂布設(shè)備還包括與涂布系統(tǒng)固定連接的轉(zhuǎn)移系統(tǒng)，所述轉(zhuǎn)移系統(tǒng)包括與機(jī)臺連接的支撐體和設(shè)置于支撐體上的吸附裝置，所述吸附裝置可豎直運(yùn)動并可平移，吸附裝置可吸附基膜并帶動基膜移動。上述涂布系統(tǒng)中的機(jī)臺和刮刀均為現(xiàn)有技術(shù)中公知的，例如機(jī)臺主要起支撐和承載作用，機(jī)臺的臺面可承載待涂布的基膜或者可防止用于承載基膜的裝置。所述刮刀為現(xiàn)有技術(shù)中的刮刀，該刮刀上具有凹槽，可用于盛放漿料，凹槽底部具有開口，漿料可從該開口流出落于基膜上；同時，該刮刀還具有刀片，刀片的高度可固定，當(dāng)漿料落于基膜表面后， 推動刮刀，刀片將厚度大于刀片與基膜之間距離的漿料推走，使刀片走過的區(qū)域形成厚度均一的漿料層，即形成涂布。上述機(jī)臺和刮刀之間的相互連接關(guān)系為公知的，本發(fā)明中采用的結(jié)構(gòu)為在所述機(jī)臺上固定有涂布導(dǎo)軌，涂布導(dǎo)軌上套設(shè)有涂布導(dǎo)向塊，涂布導(dǎo)向塊可沿涂布導(dǎo)軌運(yùn)動；一推塊設(shè)置于機(jī)臺臺面上方并與涂布導(dǎo)向塊固定連接；所述推塊與刮刀固定連接。通過上述結(jié)構(gòu)，即可實現(xiàn)刮刀平行于機(jī)臺臺面的運(yùn)動。進(jìn)一步優(yōu)選情況下，所述機(jī)臺上還固定有主動電機(jī)和從動裝置，主動電機(jī)與從動裝置通過傳動皮帶連接；傳動皮帶的運(yùn)動可帶動涂布導(dǎo)向塊沿涂布導(dǎo)軌運(yùn)動。
通常，根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域和漿料的不同，待涂覆的基膜采用的材質(zhì)也不同，例如可以是聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)。為了進(jìn)一步保證涂布的穩(wěn)定性和精確性，可將基膜固定，本發(fā)明中，可采用如下結(jié)構(gòu)實現(xiàn)該目的所述機(jī)臺臺面與刮刀之間，從上到下依次設(shè)置有吸盤板和吸盤下板，吸盤板和吸盤下板之間形成吸腔，并且所述吸盤板上開設(shè)有多個吸孔；吸腔連通至一抽氣裝置。通過抽氣裝置對吸腔進(jìn)行抽氣，使吸腔內(nèi)形成負(fù)壓狀態(tài)，當(dāng)基膜放置于吸盤板表面后，由于吸腔的負(fù)壓作用，通過細(xì)孔將基膜牢牢的吸附在吸盤板表面將其固定。根據(jù)本發(fā)明，所述涂布設(shè)備還包括轉(zhuǎn)移系統(tǒng)，該轉(zhuǎn)移系統(tǒng)可將已涂布完成的基膜從涂布系統(tǒng)轉(zhuǎn)移開，以便涂布系統(tǒng)進(jìn)行后續(xù)的涂布操作，實現(xiàn)連續(xù)化生產(chǎn)。該轉(zhuǎn)移系統(tǒng)與涂布系統(tǒng)固定連接，具體的，轉(zhuǎn)移系統(tǒng)包括與機(jī)臺連接的支撐體和設(shè)置于支撐體上的吸附裝置，所述吸附裝置可豎直運(yùn)動并可平移，吸附裝置可吸附基膜并帶動基膜移動。通過吸附裝置的豎直伸縮運(yùn)動，將已涂布完成的基膜一邊吸附起來，然后吸附裝置的平移帶動基膜移動，離開涂布系統(tǒng)。上述吸附裝置可采用現(xiàn)有技術(shù)中的各種可吸附基膜或板材的裝置，例如可以為負(fù)壓吸盤、抽氣嘴等等。為實現(xiàn)上述運(yùn)動過程，可采用多種結(jié)構(gòu)，優(yōu)選情況下，所述轉(zhuǎn)移系統(tǒng)包括轉(zhuǎn)移母板和牽引板，所述牽引板設(shè)置于支撐體上并可平移；所述轉(zhuǎn)移母板設(shè)置于牽引板下方并可豎直運(yùn)動，所述吸附裝置固定于轉(zhuǎn)移母板上。進(jìn)一步優(yōu)選情況下，所述牽引板上固定有氣缸， 氣缸軸貫穿牽引板并與轉(zhuǎn)移母板固定連接。氣缸軸的伸縮運(yùn)動即可帶動轉(zhuǎn)移母板豎直運(yùn)動。同時，還可在所述支撐體上固定設(shè)置轉(zhuǎn)移導(dǎo)軌，并在牽引板上固定轉(zhuǎn)移滑塊，所述轉(zhuǎn)移滑塊與轉(zhuǎn)移導(dǎo)軌配合連接，使?fàn)恳蹇裳剞D(zhuǎn)移導(dǎo)軌平移。牽引板的平移即可帶動轉(zhuǎn)移母板及設(shè)置于轉(zhuǎn)移母板上的吸附裝置產(chǎn)生平移。在實際使用中，在支撐體相對的兩側(cè)上均設(shè)置有轉(zhuǎn)移導(dǎo)軌，相應(yīng)的，牽引板上固定設(shè)置有相對的兩塊轉(zhuǎn)移滑塊，上述兩塊轉(zhuǎn)移滑塊分別與轉(zhuǎn)移導(dǎo)軌配合連接。根據(jù)本發(fā)明，為了使吸附裝置吸附基膜的運(yùn)動更平穩(wěn)，優(yōu)選情況下，在所述轉(zhuǎn)移母板上還固定設(shè)置有導(dǎo)向柱，并且該導(dǎo)向柱貫穿牽引板。進(jìn)一步的，在轉(zhuǎn)移母板上固定設(shè)置有 2個導(dǎo)向柱，通過2個導(dǎo)向柱的導(dǎo)向作用，可使轉(zhuǎn)移母板的運(yùn)動更平穩(wěn)。本發(fā)明的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，當(dāng)漿料粘度較低，流動性較大時，吸附裝置豎直運(yùn)動時可能會使?jié){料產(chǎn)生流動，從而影響漿料層厚度的均一性。作為對本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，優(yōu)選情況下，還可在所述轉(zhuǎn)移母板下方還設(shè)置預(yù)壓板，預(yù)壓板與轉(zhuǎn)移母板通過預(yù)壓彈簧相連接，并且預(yù)壓彈簧處于自然狀態(tài)時，預(yù)壓板低于吸附裝置。進(jìn)一步優(yōu)選情況下，所述預(yù)壓板設(shè)置于吸附裝置與機(jī)臺之間。具有上述結(jié)構(gòu)后，當(dāng)涂布完成后，氣缸伸縮運(yùn)動使轉(zhuǎn)移母板產(chǎn)生向下的運(yùn)動，預(yù)壓板首先壓在基膜上，保證基膜的平整性。轉(zhuǎn)移母板繼續(xù)向下運(yùn)動，使吸附裝置吸附上基膜。然后，氣缸帶動轉(zhuǎn)移母板上升，上升初期，預(yù)壓板還壓在基膜上，轉(zhuǎn)移母板繼續(xù)上升，預(yù)壓彈簧逐漸松弛，最后預(yù)壓板也開始上升。但位于吸附裝置與漿料之間的預(yù)壓板此時仍會頂在基膜上，在吸附裝置升起的高度一定的情況下，減小已涂覆漿料區(qū)域的傾斜度，即使在漿料粘度較低時，也有效的保證了漿料層厚度的均一性，當(dāng)轉(zhuǎn)移工作完成后，吸附裝置可松開對基膜的吸附，基膜落下，此時，預(yù)壓板頂在基膜上，可減小基膜落下時對漿料層產(chǎn)生的震動。同時，預(yù)壓的作用也可使吸附前基膜更平整，有利于吸附裝置的工作。根據(jù)本發(fā)明，所述待涂布的基膜尺寸較大，基膜上涂布漿料后，在朝向轉(zhuǎn)移系統(tǒng)的方向上，漿料與基膜的邊緣存在一定的空白區(qū)域，預(yù)壓板在該區(qū)域內(nèi)預(yù)壓基膜并且吸附裝置在該區(qū)域內(nèi)吸附基膜。本發(fā)明中，為了使吸附效果更好，優(yōu)選情況下，所述轉(zhuǎn)移系統(tǒng)包括多個吸附裝置， 所述吸附裝置為負(fù)壓吸盤，通過對吸盤內(nèi)抽氣或放氣可控制吸附或脫附的動作。上述對吸盤內(nèi)抽氣或放氣的操作為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知的，例如將吸盤連接至一氣壓控制裝置， 通過該裝置對吸盤內(nèi)進(jìn)行抽氣或放氣。同時，根據(jù)本發(fā)明，還可以在所述支撐體上設(shè)置轉(zhuǎn)移主電機(jī)，所述轉(zhuǎn)移主電機(jī)連接至一從動齒輪，牽引板上具有齒痕，所述齒痕與從動齒輪相配合。轉(zhuǎn)移主電機(jī)可帶動從動齒輪轉(zhuǎn)動，并通過與從動齒輪相配合的齒痕使?fàn)恳瀹a(chǎn)生移動。為了進(jìn)一步提高設(shè)備的連續(xù)化程度，所述涂布設(shè)備還包括傳送裝置，所述傳送裝置包括傳送輪、與傳送輪相配合連接的傳送帶；所述傳送裝置位于支撐體的下方并與機(jī)臺和支撐體相連接。通過轉(zhuǎn)移系統(tǒng)轉(zhuǎn)移而來的基膜可通過傳送裝置離開轉(zhuǎn)移系統(tǒng)，保證了后續(xù)轉(zhuǎn)移系統(tǒng)的連續(xù)化生產(chǎn)。具體的，可在傳送帶上放置一平板，并在機(jī)臺上設(shè)置夾持氣缸， 夾持氣缸可夾持住該平板。當(dāng)涂布系統(tǒng)進(jìn)行涂布和轉(zhuǎn)移系統(tǒng)進(jìn)行轉(zhuǎn)移時，夾持氣缸控制平板，使其不隨傳送帶運(yùn)動，當(dāng)轉(zhuǎn)移系統(tǒng)將基膜轉(zhuǎn)移至平板上，并松開基膜時，夾持氣缸同時松開平板，平板承載基膜進(jìn)行運(yùn)動。對于粘度較小的漿料，涂布后通常需要靜置。根據(jù)本發(fā)明，所述涂布設(shè)備還包括靜置系統(tǒng)，所述靜置系統(tǒng)位于傳送裝置的上方并與轉(zhuǎn)移系統(tǒng)相連接；所述靜置系統(tǒng)包括靜置蓋，靜置蓋與傳送裝置形成靜置倉，靜置倉包括靜置入口，所述靜置入口連接至轉(zhuǎn)移系統(tǒng)。 傳送裝置可將基膜通過靜置入口傳送至靜置系統(tǒng)內(nèi)，表面涂布有漿料的基膜在該半封閉的靜置系統(tǒng)內(nèi)進(jìn)行靜置。并且，上述靜置蓋可開啟，形成靜置出口，靜置完成的基膜可從靜置出口取出。作為一種最候選的技術(shù)方案，本發(fā)明公開的涂布設(shè)備包括涂布系統(tǒng)，所述涂布系統(tǒng)包括機(jī)臺和刮刀，所述機(jī)臺可承載待涂布的基膜，所述刮刀設(shè)置于機(jī)臺臺面之上，并可平行于機(jī)臺臺面運(yùn)動；所述涂布設(shè)備還包括與涂布系統(tǒng)固定連接的轉(zhuǎn)移系統(tǒng)，所述轉(zhuǎn)移系統(tǒng)包括與機(jī)臺連接的支撐體和設(shè)置于支撐體上的吸附裝置，所述吸附裝置可豎直運(yùn)動并可平移，吸附裝置可吸附基膜并帶動基膜移動。所述轉(zhuǎn)移系統(tǒng)還包括轉(zhuǎn)移母板和牽引板，所述牽引板上固定有氣缸，氣缸軸貫穿牽引板并與轉(zhuǎn)移母板固定連接，并且所述轉(zhuǎn)移母板上固定有導(dǎo)向柱，所述導(dǎo)向柱貫穿牽引板；所述支撐體上固定有轉(zhuǎn)移導(dǎo)軌，所述牽引板上固定有轉(zhuǎn)移滑塊，所述轉(zhuǎn)移滑塊與轉(zhuǎn)移導(dǎo)軌配合連接，并且支撐體上還設(shè)置有轉(zhuǎn)移主電機(jī)，所述轉(zhuǎn)移主電機(jī)連接至一從動齒輪，牽引板上具有齒痕，所述齒痕與從動齒輪相配合；所述轉(zhuǎn)移母板下方還設(shè)置有預(yù)壓板，預(yù)壓板與轉(zhuǎn)移母板通過預(yù)壓彈簧相連接，并且預(yù)壓彈簧處于自然狀態(tài)時，預(yù)壓板低于吸附裝置，預(yù)壓板設(shè)置于吸附裝置與機(jī)臺之間；所述吸附裝置為負(fù)壓吸盤，通過對吸盤區(qū)抽氣或放氣可控制吸附或脫附的動作；所述機(jī)臺上固定有涂布導(dǎo)軌，涂布導(dǎo)軌上套設(shè)有涂布導(dǎo)向塊，涂布導(dǎo)向塊可沿涂布導(dǎo)軌運(yùn)動；一推塊設(shè)置于機(jī)臺臺面上方并與涂布導(dǎo)向塊固定連接；所述推塊與刮刀固定連接；機(jī)臺上還固定有主動電機(jī)和從動裝置，主動電機(jī)與從動裝置通過傳動皮帶連接；所述機(jī)臺臺面與刮刀之間，從上到下依次設(shè)置有吸盤板和吸盤下板，吸盤板和吸盤下板之間形成吸腔，并且所述吸盤板上開設(shè)有多個吸孔，吸腔連通至一抽氣裝置；所述涂布設(shè)備還包括傳送裝置，所述傳送裝置包括傳送輪、與傳送輪相配合連接的傳送帶；所述傳送裝置位于支撐體的下方并與機(jī)臺和支撐體相連接；所述涂布設(shè)備還包括靜置系統(tǒng)，所述靜置系統(tǒng)位于傳送裝置的上方并與轉(zhuǎn)移系統(tǒng)相連接；所述靜置系統(tǒng)包括靜置蓋，靜置蓋與傳送裝置形成靜置倉，靜置倉包括靜置入口，所述靜置入口連接至轉(zhuǎn)移系統(tǒng)。


圖1是本發(fā)明公開的涂布設(shè)備的涂布系統(tǒng)的主視圖；圖2是本發(fā)明公開的涂布設(shè)備的涂布系統(tǒng)的俯視圖；圖3是本發(fā)明公開的涂布設(shè)備的左視圖；圖4是本發(fā)明公開的涂布設(shè)備的立體圖；其中，1、涂布系統(tǒng)；2、轉(zhuǎn)移系統(tǒng)；3、靜置系統(tǒng)；4、傳送裝置；11、主動電機(jī)；12、涂布導(dǎo)軌；13、涂布導(dǎo)向塊；14、推塊；15、刮刀；16、吸盤板；17、吸盤下板；18、機(jī)臺；19、基膜； 110、傳動皮帶；111、夾持氣缸；112、平板；113、從動裝置；114、吸孔；20、支撐體；21、轉(zhuǎn)移主電機(jī)；22、從動齒輪；23、氣缸；24、導(dǎo)向柱；25、行程調(diào)節(jié)柱；26、牽引板；27、轉(zhuǎn)移導(dǎo)軌； 觀、轉(zhuǎn)移滑塊；29、轉(zhuǎn)移母板；210、吸附裝置；211、預(yù)壓彈簧；212、預(yù)壓板。
具體實施例方式為了使本發(fā)明所解決的技術(shù)問題、技術(shù)方案及有益效果更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實施例，對本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。如圖1和圖2所示，作為一種優(yōu)選的實施方式，該涂布系統(tǒng)1包括機(jī)臺18，機(jī)臺18 下方固定有涂布導(dǎo)軌12，涂布導(dǎo)軌12上套設(shè)有涂布導(dǎo)向塊13，推塊14設(shè)置于機(jī)臺18臺面上方并與涂布導(dǎo)向塊13固定連接，并且推塊14與刮刀15固定連接。機(jī)臺18下方還固定有主動電機(jī)11和從動裝置113，主動電機(jī)11與從動裝置113 通過傳動皮帶Iio連接；所述機(jī)臺18臺面與刮刀15之間，從上到下依次設(shè)置有吸盤板16 和吸盤下板17，吸盤板16和吸盤下板17之間形成吸腔(圖中未示出)，并且所述吸盤板16 上開設(shè)有多個吸孔114，吸腔連通至一抽氣裝置(圖中未示出)。在基膜19運(yùn)動的方向上，吸盤板16和吸盤下板17的一側(cè)還設(shè)置有2個夾持氣缸 111，所述2個夾持氣缸111相對設(shè)置，夾持氣缸111之間設(shè)置有平板112。平板112的表面與吸盤板16的表面在一個平面上。圖3示出了優(yōu)選情況下的涂布設(shè)備，其中，可以看出，轉(zhuǎn)移系統(tǒng)2包括支撐體20。 支撐體20上固定設(shè)置有2條平行的轉(zhuǎn)移導(dǎo)軌27，2個轉(zhuǎn)移滑塊觀與該2條轉(zhuǎn)移導(dǎo)軌27相配合連接，并可沿轉(zhuǎn)移導(dǎo)軌27運(yùn)動。2個轉(zhuǎn)移滑塊觀共同固定承載牽引板沈。牽引板沈上具有齒痕(圖中未示出)，支撐體20上還設(shè)置有轉(zhuǎn)移主電機(jī)21，轉(zhuǎn)移主電機(jī)21連接至從動齒輪22，從動齒輪22與齒痕相配合連接。即轉(zhuǎn)移主電機(jī)21轉(zhuǎn)動可驅(qū)動從動齒輪22轉(zhuǎn)動，從而帶動牽引板沈沿轉(zhuǎn)移導(dǎo)軌27運(yùn)動。同時，牽引板沈上固定設(shè)置有氣缸23，并且氣缸軸貫穿牽引板沈延伸至牽引板26的下方并固定連接至轉(zhuǎn)移母板四，氣缸軸的伸縮運(yùn)動可帶動轉(zhuǎn)移母板四在豎直方向上運(yùn)動。轉(zhuǎn)移母板四上還固定設(shè)置有2個導(dǎo)向柱M，導(dǎo)向柱M貫穿牽引板沈，對轉(zhuǎn)移母板 29在豎直方向上的運(yùn)動起導(dǎo)向定位作用。轉(zhuǎn)移母板四上固定設(shè)置有多個吸附裝置210，圖 3中示出的吸附裝置210為負(fù)壓吸盤，負(fù)壓吸盤連接至一氣壓控制裝置(圖中未示出)，通過氣壓控制裝置對負(fù)壓吸盤進(jìn)行抽氣或放氣的動作。牽引板沈下方通過3個預(yù)壓彈簧211連接至預(yù)壓板212。預(yù)壓彈簧211處于自然狀態(tài)時，預(yù)壓板212低于負(fù)壓吸盤。并且，預(yù)壓板212設(shè)置于負(fù)壓吸盤與涂布系統(tǒng)1之間。另外，在上述牽引板沈上還設(shè)置有2個行程調(diào)節(jié)柱25。該行程調(diào)節(jié)柱25貫穿牽引板26，并可調(diào)節(jié)其延伸至牽引板沈下方的長度。通過調(diào)節(jié)其延伸至牽引板沈下方的長度，控制氣缸23提起轉(zhuǎn)移母板四的高度。圖4示出了本發(fā)明最優(yōu)選情況下的涂布設(shè)備的立體結(jié)構(gòu)。該涂布設(shè)備包括涂布系統(tǒng)1、轉(zhuǎn)移系統(tǒng)2、靜置系統(tǒng)3和傳送裝置4。涂布系統(tǒng)1、轉(zhuǎn)移系統(tǒng)2、靜置系統(tǒng)3順次連接， 傳送裝置4與涂布系統(tǒng)1連接并設(shè)置于轉(zhuǎn)移系統(tǒng)2和靜置系統(tǒng)3下方。該傳送裝置4包括傳送輪、與傳送輪相配合連接的傳送帶；所述傳送裝置4位于支撐體20的下方并與機(jī)臺18和支撐體20相連接。平板112即放置于上述傳送帶上。所述靜置系統(tǒng)3包括靜置蓋，靜置蓋與傳送裝置4形成靜置倉，靜置倉一端開有靜置入口，所述靜置入口連接至轉(zhuǎn)移系統(tǒng)2。由轉(zhuǎn)移系統(tǒng)2轉(zhuǎn)移而來的基膜19由靜置入口進(jìn)入靜置系統(tǒng)3進(jìn)行靜置。上述涂布設(shè)備的工作過程如下在吸盤板16上放置基膜19，開啟抽氣裝置，對吸腔內(nèi)進(jìn)行抽氣，使吸腔內(nèi)形成負(fù)壓，并通過吸孔114將基膜19固定于吸盤板16上。在刮刀15內(nèi)添加漿料并開啟主動電機(jī)11推動刮刀15運(yùn)動，開始涂布操作。涂布完成后，關(guān)閉抽氣裝置，將漿料靜置，并同時等待吸腔內(nèi)的負(fù)壓逐漸消除。此時，開啟夾持氣缸111，夾持住平板112。開啟傳送裝置4。吸腔內(nèi)負(fù)壓消除后，開啟氣缸23，控制轉(zhuǎn)移母板四下降。使預(yù)壓板212壓在基膜 19的空白區(qū)域。并同時對吸盤內(nèi)抽氣。繼續(xù)控制轉(zhuǎn)移母板四下降，使負(fù)壓吸盤吸附住基膜 19?？刂茪飧?3上升，提起基膜19，并使預(yù)壓彈簧211逐漸松弛。待預(yù)壓板212被提起后關(guān)閉氣缸23。開啟轉(zhuǎn)移主電機(jī)21，控制牽引板沈前移。負(fù)壓吸盤同時吸附住基膜19 前移至傳送帶的平板112上。待基膜19全部轉(zhuǎn)移到平板112上之后，對吸盤內(nèi)進(jìn)行放氣，使吸盤放下基膜19。松開夾持氣缸111，傳送帶帶動平板112及基膜19 一起運(yùn)動到靜置倉內(nèi)。即完成一次循環(huán)。將各部件復(fù)位即可進(jìn)行下一循環(huán)。以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種涂布設(shè)備，包括涂布系統(tǒng)，所述涂布系統(tǒng)包括機(jī)臺和刮刀，所述機(jī)臺臺面可承載待涂布的基膜，所述刮刀設(shè)置于機(jī)臺臺面之上，并可平行于機(jī)臺臺面運(yùn)動；其特征在于，所述涂布設(shè)備還包括與涂布系統(tǒng)固定連接的轉(zhuǎn)移系統(tǒng)，所述轉(zhuǎn)移系統(tǒng)包括與機(jī)臺連接的支撐體和設(shè)置于支撐體上的吸附裝置，所述吸附裝置可豎直運(yùn)動并可平移，吸附裝置可吸附基膜并帶動基膜移動。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述轉(zhuǎn)移系統(tǒng)還包括轉(zhuǎn)移母板和牽引板，所述牽引板設(shè)置于支撐體上并可平移；所述轉(zhuǎn)移母板設(shè)置于牽引板下方并可豎直運(yùn)動，所述吸附裝置固定于轉(zhuǎn)移母板上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述牽引板上固定有氣缸，氣缸軸貫穿牽引板并與轉(zhuǎn)移母板固定連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述支撐體上固定有轉(zhuǎn)移導(dǎo)軌， 所述牽引板上固定有轉(zhuǎn)移滑塊，所述轉(zhuǎn)移滑塊與轉(zhuǎn)移導(dǎo)軌配合連接，使?fàn)恳蹇裳剞D(zhuǎn)移導(dǎo)軌平移。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述轉(zhuǎn)移母板上固定有導(dǎo)向柱，所述導(dǎo)向柱貫穿牽引板。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述轉(zhuǎn)移母板下方還設(shè)置有預(yù)壓板， 預(yù)壓板與轉(zhuǎn)移母板通過預(yù)壓彈簧相連接，并且預(yù)壓彈簧處于自然狀態(tài)時，預(yù)壓板低于吸附直ο
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述預(yù)壓板設(shè)置于吸附裝置與機(jī)臺之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、5、6、7中任意一項所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述轉(zhuǎn)移系統(tǒng)包括多個吸附裝置，所述吸附裝置為負(fù)壓吸盤。
9.根據(jù)權(quán)利要求2、3、5、6、7中任意一項所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述支撐體上還設(shè)置有轉(zhuǎn)移主電機(jī)，所述轉(zhuǎn)移主電機(jī)連接至一從動齒輪，牽引板上具有齒痕，所述齒痕與從動齒輪相配合。
10.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、5、6、7中任意一項所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述機(jī)臺上固定有涂布導(dǎo)軌，涂布導(dǎo)軌上套設(shè)有涂布導(dǎo)向塊，涂布導(dǎo)向塊可沿涂布導(dǎo)軌運(yùn)動；一推塊設(shè)置于機(jī)臺臺面上方并與涂布導(dǎo)向塊固定連接；所述推塊與刮刀固定連接。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述機(jī)臺上還固定有主動電機(jī)和從動裝置，主動電機(jī)與從動裝置通過傳動皮帶連接；傳動皮帶的運(yùn)動可帶動涂布導(dǎo)向塊沿涂布導(dǎo)軌運(yùn)動。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述機(jī)臺臺面與刮刀之間，從上到下依次設(shè)置有吸盤板和吸盤下板，吸盤板和吸盤下板之間形成吸腔，并且所述吸盤板上開設(shè)有多個吸孔；吸腔連通至一抽氣裝置。
13.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、5、6、7、11、12中任意一項所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述涂布設(shè)備還包括傳送裝置，所述傳送裝置包括傳送輪、與傳送輪相配合連接的傳送帶；所述傳送裝置位于支撐體的下方并與機(jī)臺和支撐體相連接。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述涂布設(shè)備還包括靜置系統(tǒng)，所述靜置系統(tǒng)位于傳送裝置的上方并與轉(zhuǎn)移系統(tǒng)相連接；所述靜置系統(tǒng)包括靜置蓋，靜置蓋與傳送裝置形成靜置倉，靜置倉包括靜置入口，所述靜置入口連接至轉(zhuǎn)移系統(tǒng)。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述轉(zhuǎn)移系統(tǒng)還包括轉(zhuǎn)移母板和牽引板，所述牽引板上固定有氣缸，氣缸軸貫穿牽引板并與轉(zhuǎn)移母板固定連接，并且所述轉(zhuǎn)移母板上固定有導(dǎo)向柱，所述導(dǎo)向柱貫穿牽引板；所述支撐體上固定有轉(zhuǎn)移導(dǎo)軌，所述牽引板上固定有轉(zhuǎn)移滑塊，所述轉(zhuǎn)移滑塊與轉(zhuǎn)移導(dǎo)軌配合連接，并且支撐體上還設(shè)置有轉(zhuǎn)移主電機(jī)，所述轉(zhuǎn)移主電機(jī)連接至一從動齒輪，牽引板上具有齒痕，所述齒痕與從動齒輪相配合； 所述轉(zhuǎn)移母板下方還設(shè)置有預(yù)壓板，預(yù)壓板與轉(zhuǎn)移母板通過預(yù)壓彈簧相連接，并且預(yù)壓彈簧處于自然狀態(tài)時，預(yù)壓板低于吸附裝置，預(yù)壓板設(shè)置于吸附裝置與機(jī)臺之間；所述吸附裝置為負(fù)壓吸盤，通過對吸盤內(nèi)抽氣或放氣可控制吸附或脫附的動作；所述機(jī)臺上固定有涂布導(dǎo)軌，涂布導(dǎo)軌上套設(shè)有涂布導(dǎo)向塊，涂布導(dǎo)向塊可沿涂布導(dǎo)軌運(yùn)動；一推塊設(shè)置于機(jī)臺臺面上方并與涂布導(dǎo)向塊固定連接；所述推塊與刮刀固定連接；機(jī)臺上還固定有主動電機(jī)和從動裝置，主動電機(jī)與從動裝置通過傳動皮帶連接；所述機(jī)臺臺面與刮刀之間，從上到下依次設(shè)置有吸盤板和吸盤下板，吸盤板和吸盤下板之間形成吸腔，并且所述吸盤板上開設(shè)有多個吸孔，吸腔連通至一抽氣裝置；所述涂布設(shè)備還包括傳送裝置，所述傳送裝置包括傳送輪、與傳送輪相配合連接的傳送帶；所述傳送裝置位于支撐體的下方并與機(jī)臺和支撐體相連接；所述涂布設(shè)備還包括靜置系統(tǒng)，所述靜置系統(tǒng)位于傳送裝置的上方并與轉(zhuǎn)移系統(tǒng)相連接；所述靜置系統(tǒng)包括靜置蓋，靜置蓋與傳送裝置形成靜置倉，靜置倉包括靜置入口，所述靜置入口連接至轉(zhuǎn)移系統(tǒng)。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種涂布設(shè)備。該涂布設(shè)備，包括涂布系統(tǒng)，所述涂布系統(tǒng)包括機(jī)臺和刮刀，所述機(jī)臺臺面可承載待涂布的基膜，所述刮刀設(shè)置于機(jī)臺臺面之上，并可平行于機(jī)臺臺面運(yùn)動；所述涂布設(shè)備還包括與涂布系統(tǒng)固定連接的轉(zhuǎn)移系統(tǒng)，所述轉(zhuǎn)移系統(tǒng)包括與機(jī)臺連接的支撐體和設(shè)置于支撐體上的吸附裝置，所述吸附裝置可豎直運(yùn)動并可平移，吸附裝置可吸附基膜并帶動基膜移動。該涂布設(shè)備的生產(chǎn)效率高，并且操作穩(wěn)定，可很好的保證漿料層厚度的均一性，保證了產(chǎn)品的一致性。
文檔編號B05C1/06GK102380468SQ20101027090
公開日2012年3月21日 申請日期2010年8月27日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月27日
發(fā)明者任東飛, 宮清, 張榮福, 李剛, 李志海, 郝書奎 申請人:比亞迪股份有限公司