專利名稱：抗反射涂布材料及包含其的抗反射涂膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是涉及一種抗反射涂布材料及包含其的抗反射涂膜，更特別涉及一種可應(yīng)用于軟性基材的抗反射涂布材料及包含其的抗反射涂膜。
背景技術(shù)：
在顯示裝置的制程中(例如光學(xué)鏡片、陰極射線顯示器、等離子體顯示器、液晶顯示器、或是發(fā)光二極管顯示器)，為避免影像受眩光或反射光的干擾，會(huì)在該顯示裝置的最外層(例如液晶顯示器的透明基板)配置一抗反射層。分析抗反射層相關(guān)技術(shù)，不外乎利用多層膜干涉與非均質(zhì)層法兩種方式。多層膜干涉是利用入射波通過(guò)涂層表面時(shí)，若控制涂層的光學(xué)厚度(涂層折射率與涂膜厚度的乘積)為入射波波長(zhǎng)λ/4的奇數(shù)倍，讓反射波形成破壞性干涉，即可達(dá)到抗反射效果，如干式制程、濕式制程與溶膠-凝膠法都是運(yùn)用此一原理。干式制程(例如真空蒸鍍或?yàn)R鍍)雖然可達(dá)到可見(jiàn)光反射率0.5以下的好品質(zhì)，但由于設(shè)備昂貴加上制程緩慢，導(dǎo)致產(chǎn)品價(jià)格非常高；濕式制程則多以添加含氟單體來(lái)降低折射率進(jìn)而降低反射率，但常伴隨與基材附著差且涂料穩(wěn)定性差等缺點(diǎn)；溶膠凝膠法則需制備高低不同折射率的材料并且經(jīng)過(guò)多層涂布制程，粉體折射率及穩(wěn)定性較不易控制且制程繁復(fù)。另一種做法為非均質(zhì)層法，即透過(guò)納米孔隙薄膜及表面納米結(jié)構(gòu)制作來(lái)降低折射率，如納米孔隙薄膜法及表面納米結(jié)構(gòu)法即屬此類。但為了制作納米孔隙或結(jié)構(gòu)需要使組成物先產(chǎn)生相分離，之后將其中一個(gè)組成利用溶劑或溫度等方法去除，不但制程復(fù)雜且孔洞或微結(jié)構(gòu)常造成機(jī)械物性不好等問(wèn)題，無(wú)法作為平面顯示器的抗反射光學(xué)涂膜。日本專利JP11-174971揭露一種抗反射薄膜，其是包含具有大量氟烷基的化
合物(例如
權(quán)利要求
1.一種抗反射涂布材料，包括以下步驟所得的產(chǎn)物提供一聚硅倍半氧烷；將該聚硅倍半氧烷與一硅氧烷化合物反應(yīng)得到一中間產(chǎn)物； 將該中間產(chǎn)物與一低折射率化合物反應(yīng)，得到抗反射涂布材料。
2.如權(quán)利要求1所述的抗反射涂布材料，其中該聚硅倍半氧烷包含具有如公式(I)所示結(jié)構(gòu)的化合物(R1SiO^x)72 (OH) x)n 公式⑴，其中，X是各自獨(dú)立且為1或2 ;n為大于或等于1的整數(shù)；R1是各自獨(dú)立且為氫、烷基、或芳香基。
3.如權(quán)利要求1所述的抗反射涂布材料，其中該硅氧烷化合物包含具有如公式(II)所示結(jié)構(gòu)的化合物Si(OR2)4 公式(II)， 其中，R2是各自獨(dú)立且為烷基。
4.如權(quán)利要求1所述的抗反射涂布材料，其中該低折射率化合物為氟硅氧烷、或具有反應(yīng)官能基的氟烷化合物。
5.如權(quán)利要求4所述的抗反射涂布材料，其中該具有反應(yīng)官能基的氟烷化合物的該反應(yīng)官能基為羧基、環(huán)氧基、或異氰酸鹽基。
6.如權(quán)利要求1所述的抗反射涂布材料，其中該硅氧烷化合物具有重量百分比不大于 50wt%，以該聚硅倍半氧烷的重量為基準(zhǔn)。
7.如權(quán)利要求1所述的抗反射涂布材料，其中該低折射率化合物具有重量百分比不大于50wt%，以該聚硅倍半氧烷的重量為基準(zhǔn)。
8.一種抗反射涂膜，是由下列步驟所形成的產(chǎn)物將權(quán)利要求1所述的抗反射涂布材料涂布于一基材上，得到一涂布層；以及將該涂布層固化以形成一抗反射涂膜。
9.如權(quán)利要求8所述的抗反射涂膜，其中固化該涂布層的溫度小于100°C。
10.一種抗反射涂布材料，符合下列公式(III)所示結(jié)構(gòu)
11.如權(quán)利要求10所述的抗反射涂布材料，其中D的每一Si原子是與一官能基鍵結(jié)， 而該官能基為氫、烷基、或芳香基。
12.一種抗反射涂膜，是由下列步驟所形成的產(chǎn)物將權(quán)利要求10所述的抗反射涂布材料涂布于一基材上，得到一涂布層；以及將該涂布層固化以形成一抗反射涂膜。
13.如權(quán)利要求12所述的抗反射涂膜，其中固化該涂布層的溫度是小于100°C。
全文摘要
本發(fā)明提供一種抗反射涂布材料及包含其的抗反射涂膜。該抗反射涂布材料包含以下步驟所得的產(chǎn)物提供一聚硅倍半氧烷；將該聚硅倍半氧烷與一硅氧烷化合物反應(yīng)得到一中間產(chǎn)物；將該中間產(chǎn)物與一低折射率化合物反應(yīng)，得到該抗反射涂布材料。進(jìn)而，將該抗反射涂布材料涂布于一基材上，得到一涂布層；以及將該涂布層固化以形成一抗反射涂膜。
文檔編號(hào)C09D5/00GK102190956SQ20101013518
公開(kāi)日2011年9月21日 申請(qǐng)日期2010年3月11日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月11日
發(fā)明者莊文斌, 張義和, 沈永清, 陳魏素美 申請(qǐng)人:財(cái)團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院