專利名稱：提升銷的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及提升銷。更詳細(xì)來說，涉及從設(shè)置在載物臺的插通孔露出沒入，并在載
物臺的表面載置基板的提升銷。作為基板，可以列舉有例如玻璃基板或半導(dǎo)體晶片。
背景技術(shù)：
為了在玻璃基板形成濾色器或TFT，狹縫噴嘴涂料器構(gòu)成為將光致抗蝕劑液涂敷 在玻璃基板的表面。在這樣的狹縫噴嘴涂料器裝入有提升銷單元。該提升銷單元是如下的 裝置，即，使提升銷從設(shè)置在吸附載物臺的提升銷孔露出沒入，通過該提升銷的前端部進行 對玻璃基板的抵接、支承，同時將由機器手等的基板輸送機構(gòu)輸送的玻璃基板載置在載物 臺上。 圖10是示出現(xiàn)有的具有提升銷的提升銷單元400的構(gòu)成概要的主視的一部分的 剖面圖。此外，在圖10示出的提升銷單元400的結(jié)構(gòu)要件中，關(guān)于與下述的本發(fā)明的一實 施方式示出的提升銷單元400相同的結(jié)構(gòu)要件，標(biāo)注相同標(biāo)號。 如圖10所示，現(xiàn)有的提升銷單元400具有多根提升銷41A、銷框架42及框架驅(qū)動 部43等。通過框架驅(qū)動部43對銷框架42進行升降驅(qū)動，這樣的提升銷單元400能夠使提 升銷41A從形成在吸附載物臺3的提升銷孔33進行升降動作(參照專利文獻(xiàn)1)。
在這樣的提升銷單元400中，在使提升銷41A的前端部與玻璃基板K抵接時，存在 由于沖擊而在玻璃基板K產(chǎn)生劃痕或裂紋的情況。因此，考慮有使提升銷41A具有如下所 述的緩沖功能，即，在提升銷41A的前端部與玻璃基板K抵接時吸收對玻璃基板K產(chǎn)生的沖 擊。例如在專利文獻(xiàn)2中，記載有在提升銷41A中在插通提升銷孔33的部位安裝有螺旋彈 簧的情況。 專利文獻(xiàn)1 :(日本)特開2008-55322號公報
專利文獻(xiàn)2 :(日本)特開2007-251073號公報 但是，如專利文獻(xiàn)2所示，如果在提升銷41A中在插通提升銷孔33的部位設(shè)置用 于吸收沖擊的各種機構(gòu)，則存在使提升銷孔33成為必要以上的大徑的問題。S卩，如果提升 銷孔33為大徑，則在通過真空吸附等在吸附載物臺3保持玻璃基板K時，在玻璃基板K的 背面(被載置面)殘留有大的提升銷孔痕跡，因此使提升銷孔33為大徑存在限度。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種提升銷，所述提升銷對提升銷孔成為必要以上的大徑
的情況進行抑制，并且能夠吸收提升銷的前端部與基板抵接時產(chǎn)生的沖擊。 上述目的通過下述的本發(fā)明實現(xiàn)。此外，在"權(quán)力要求書"及"發(fā)明內(nèi)容"的欄中
對各結(jié)構(gòu)要件附加的標(biāo)號是表示與后述的實施方式記載的具體的機構(gòu)的對應(yīng)關(guān)系的標(biāo)號。 技術(shù)方案1的發(fā)明是從設(shè)置在載物臺3的插通孔33露出沒入，并在載物臺3的表
面31載置基板K，其特征在于，具有銷上端部41S，其能夠插通于載物臺3的插通孔33，并
且與基板K的背面抵接將基板K支承在規(guī)定的位置；銷基部41H，其配置在載物臺3的背面
3側(cè)并與銷上端部41S聯(lián)結(jié)，所述銷基部41H具有緩和所述銷上端部41S與基板K抵接時的沖擊的緩沖機構(gòu)44。 根據(jù)技術(shù)方案1的發(fā)明，由于銷基部41H配置在載物臺3的背面?zhèn)龋以撲N基部41H具有緩沖機構(gòu)44，因此能夠?qū)υO(shè)置在載物臺3的插通孔33為必要以上的大徑化的情況進行抑制。即，如現(xiàn)有的提升銷那樣，由于在插通提升銷孔(插通孔)的部位沒有設(shè)置用于吸收沖擊的機構(gòu)，因此只要將銷上端部41S插通插通孔33即可，無需使插通孔33為必要以上的大徑化。因此，能夠?qū)Σ逋?3成為必要以上的大徑的情況進行抑制，并且吸收提升銷41的前端部與基板K抵接時產(chǎn)生的沖擊。 技術(shù)方案2的發(fā)明的特征在于，所述緩沖機構(gòu)44具有向銷上端部41S從插通孔33突出的方向施力的施力機構(gòu)25，當(dāng)銷上端部41S與基板K抵接時，通過使該施力機構(gòu)25收縮來緩和與基板K抵接時的沖擊。 技術(shù)方案3的發(fā)明的特征在于，所述緩沖機構(gòu)44具有調(diào)節(jié)所述施力機構(gòu)25的作用力的調(diào)節(jié)機構(gòu)22、24。 根據(jù)技術(shù)方案3的發(fā)明，對于重量不同的基板K，也能夠施加適當(dāng)?shù)木彌_作用。
發(fā)明效果 根據(jù)本發(fā)明，能夠?qū)μ嵘N孔成為必要以上的大徑的情況進行抑制，并且吸收提升銷41的前端部與基板K抵接時產(chǎn)生的沖擊。


圖1是狹縫噴嘴涂料器的外觀立體圖。 圖2是吸附載物臺及定心單元的外觀立體圖。 圖3是提升銷單元的結(jié)構(gòu)概略圖。 圖4是示出緩沖機構(gòu)的詳細(xì)情況的主視剖面圖。 圖5是模唇的側(cè)面局部剖面圖。 圖6是清洗單元的外觀立體圖。 圖7是狹縫噴嘴涂料器的涂敷動作的流程圖。 圖8是按時間序列地示出狹縫噴嘴涂料器的涂敷動作的圖。 圖9是示出緩沖機構(gòu)的作用的圖。 圖10是示出現(xiàn)有的提升銷單元的結(jié)構(gòu)概要的正面局部剖面圖。[符號說明] 3吸附載物臺(載物臺) 31載置面(表面) 22鎖緊螺母(調(diào)整機構(gòu)) 24彈簧收容筒(調(diào)整機構(gòu)) 25螺旋彈簧(施力機構(gòu)) 33提升銷孔(插通孔) 41提升銷 41H銷基部 41S銷上端部
42銷框架 43框架驅(qū)動部 44緩沖機構(gòu) K玻璃基板(基板)
具體實施例方式
以下，參照

本發(fā)明的實施方式。圖1是狹縫噴嘴涂料器1的外觀立體圖，圖2是吸附載物臺3及定心單元5的外觀立體圖，圖3是提升銷單元4的結(jié)構(gòu)概略圖，圖4是示出緩沖機構(gòu)44的詳細(xì)的主視剖面圖，圖5是模唇60的側(cè)面局部剖面圖，圖6是清洗單元8的外觀立體圖，圖9是示出緩沖機構(gòu)44的作用的圖。在圖9中，A圖示出提升銷41的前端部與玻璃基板K未抵接時的狀態(tài)，B圖示出提升銷41的前端部與玻璃基板K抵接之后的狀態(tài)，C圖示出提升銷41的前端部與玻璃基板K抵接而支承該玻璃基板K的狀態(tài)。在各圖中正交坐標(biāo)系的三軸為X、Y、Z， XY平面為水平面，Z方向為鉛直方向。而且，在需要進一步將XY各方向的指向區(qū)別為左右而進行說明時，在前頭附加"+ "或"的符號。
如圖1所示，狹縫噴嘴涂料器1具有機臺2、吸附載物臺3、提升銷單元4、定心單元5、涂敷單元6、涂敷液供給部7、清洗單元8及控制裝置10等，并構(gòu)成為將用于濾色器形成的光致抗蝕劑液20涂敷在玻璃基板K的表面。而且，向吸附載物臺3傳送玻璃基板K是通過具有機器手93的基板輸送機器人9進行。 機臺2作為支承狹縫噴嘴涂料器1的主結(jié)構(gòu)部(例如吸附載物臺3或涂敷單元6)的臺座起作用，并由石材構(gòu)成。作為石材是確保充分的剛性或平面精度并且將隨溫度變化的變形抑制為最小限度。特別優(yōu)選的石材是花崗巖。 如圖2所示，吸附載物臺3具有能夠載置成為光致抗蝕劑液20的涂敷對象的玻璃基板K的載置面31。吸附載物臺3由與機臺2相同的石材構(gòu)成。在載置面31穿設(shè)有多個真空吸附孔32和多個提升銷孔33。真空吸附孔32是在載置面31上多個分散配置為俯視格子狀的微細(xì)孔，雖然圖示省略，但是通過真空泵等的真空產(chǎn)生機構(gòu)在微細(xì)孔內(nèi)產(chǎn)生負(fù)壓。提升銷孔33以與真空吸附孔32離開規(guī)定間隔的狀態(tài)在載置面31上多個分散配置為俯視格子狀。各提升銷孔33能夠使下述的提升銷41露出沒入。 提升銷單元4是進行接受涂敷對象的玻璃基板K及傳送涂敷完的玻璃基板K的部位。如圖3所示，提升銷單元4具有多根提升銷41、銷框架42及框架驅(qū)動部43等。在這樣的提升銷單元4中，通過框架驅(qū)動部43對銷框架42進行升降驅(qū)動，能夠使提升銷41從形成在吸附載物臺3的提升銷孔33進行升降動作。 提升銷41是通過其前端部與玻璃基板K抵接而能夠支承該玻璃基板K的銷部件。其詳細(xì)情況如下所述。 銷框架42是用于安裝多根提升銷41的框架部件。具體來說，銷框架42沿提升銷孔33的排列進行設(shè)置，并在與提升銷孔33相對應(yīng)的位置安裝有提升銷41。由此，如果對銷框架42進行升降驅(qū)動，則提升銷41能夠從提升銷孔33露出沒入。此外，更詳細(xì)來說，銷框架42具有銷框架孔421 (參照圖4)，提升銷41安裝在該銷框架孔421。
框架驅(qū)動部43構(gòu)成為對銷框架42進行升降驅(qū)動，并具有滾珠絲杠軸431、伺服馬達(dá)432及球形螺母433。具體來說，球形螺母433安裝在銷框架42并與滾珠絲杠軸431螺合。滾珠絲杠軸431沿Z軸配置。伺服馬達(dá)432以對滾珠絲杠軸431的繞其軸線進行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的方式安裝在滾珠絲杠軸431。因此，通過由伺服馬達(dá)432對滾珠絲杠軸431進行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動，球形螺母43能夠沿Z方向進退移動。由此，能夠使銷框架42沿Z方向進行升降動作。 關(guān)于提升銷41如下所述。如圖4所示，提升銷41具有銷上端部41S和銷基部41H。
銷上端部41S是能夠插通提升銷孔33的部位。銷上端部41S為比提升銷孔33的內(nèi)徑細(xì)的尺寸的粗度，其前端部為尖狀。而且，在其下部形成有用于與銷基部41H聯(lián)結(jié)的外螺紋41a。 銷基部41H是用于垂直支承銷上端部41S的部位，在銷上端部41S中配置在吸附載物臺3的背面?zhèn)?，并與銷上端部41S聯(lián)結(jié)。銷基部41H具有安裝部44A和緩沖機構(gòu)44。具體來說，銷基部41H具有聯(lián)結(jié)桿23，在聯(lián)結(jié)桿23設(shè)置有安裝部44A和緩沖機構(gòu)44。
聯(lián)結(jié)桿23具有圓柱狀的大徑部231和與該大徑部231同心且延伸設(shè)置在其軸線方向下方的小徑部232。大徑部231在上部具有沿其中心軸線的內(nèi)螺紋孔23bl。通過將銷上端部41S的外螺紋41a螺合在內(nèi)螺紋孔23bl，使銷上端部41S與聯(lián)結(jié)桿23聯(lián)結(jié)。而且，小徑部232在下部具有沿其中心軸的內(nèi)螺紋孔23b。在該內(nèi)螺紋孔23b螺合有用于安裝下部墊圈29的螺栓27。 安裝部44A是以相對于銷框架42維持垂直姿勢的方式安裝銷上端部41S的部位。具體來說，小徑部232以嵌合安裝中空的圓筒套環(huán)26的狀態(tài)插通框架孔421。圓筒套環(huán)26的上端部與上部墊圈28抵接，并且圓筒套環(huán)26的下端與下部墊圈29抵接，下部墊圈29通過螺栓27固定在上述小徑部232。因此，嵌合安裝圓筒套環(huán)26的小徑部232安裝在上部墊圈28與下部墊圈29之間以維持垂直姿勢，從而銷上端部41S能夠相對于銷框架部42維持垂直姿勢。 緩沖機構(gòu)44是在提升銷41的前端部與玻璃基板K抵接時發(fā)揮緩沖作用的機構(gòu)。具體來說，具有螺旋彈簧25、彈簧收容筒24及鎖緊螺母22。在緩沖機構(gòu)44中，彈簧收容筒24具有用于收容螺旋彈簧25的內(nèi)部空間。而且，彈簧收容筒24具有能夠與聯(lián)結(jié)桿23的外螺紋23a螺合的內(nèi)螺紋24b，并通過螺合外螺紋23a與內(nèi)螺紋24b而與聯(lián)結(jié)桿23 —體化。鎖緊螺母22在通過彈簧收容筒24的上部與彈簧收容筒24抵接的狀態(tài)下與聯(lián)結(jié)桿23的外螺紋23a螺合。通過該鎖緊螺母22限制彈簧收容筒24向上下方向移動。
螺旋彈簧25在收容于彈簧收容筒24的狀態(tài)下在聯(lián)結(jié)桿23的小徑部232中安裝在靠大徑部231的根側(cè)。具體來說，螺旋彈簧25設(shè)置為，其上端部與大徑部231抵接且其下端部與上部墊圈28抵接，且為比自然長度收縮的狀態(tài)。因此，由于對大徑部231向上施力并且對上部墊圈28向下施力，因此在彈簧收容筒24與上部墊圈28之間形成有間隙L。由此，在提升銷41的前端部與玻璃基板K抵接而聯(lián)結(jié)桿23下降時，螺旋彈簧25收縮，能夠發(fā)揮緩沖作用。 S卩，如果提升銷41的前端部與玻璃基板K抵接，則隨著聯(lián)結(jié)桿23從圖9(A)的狀態(tài)下降，螺旋彈簧25進行收縮。此時圓筒套環(huán)26、下部墊圈29及螺栓27與聯(lián)結(jié)桿23 —起下降。g卩，由于下部墊圈29通過螺栓27 —體地安裝于上述小徑部232，因此圓筒套環(huán)26及下部墊圈29與小徑部232 —起下降。因此，成為如下的狀態(tài)，即，圓筒套環(huán)26離開上部墊圈28且下部墊圈29離開銷框架42 (圖9 (B))。
另外，在提升銷41的下方位置設(shè)置有用于檢測玻璃基板K的支承的傳感器45。如 圖4所示，傳感器45包括微型開關(guān)，并經(jīng)由托架452安裝在銷框架42的下部，其中所述微 型開關(guān)通過按壓接通并具有輸出接通信號SG1的開關(guān)部451。該安裝位置位于從螺栓27比 上述間隙L的距離短距離的下方。 S卩，在提升銷41的前端部與玻璃基板K抵接后，如果圓筒套環(huán)26、下部墊圈29及 螺栓27隨著聯(lián)結(jié)桿23從圖9(B)的狀態(tài)進一步下降而下降，則如圖9(C)所示，通過螺栓27 按壓開關(guān)部451而使開關(guān)部451輸出接通信號SG1。該接通信號SG1進入后述的控制裝置 10。此外，這樣的傳感器45可以相對于各提升銷41一個一個地進行設(shè)置，但是也可以只相 對于特定的一部分的提升銷41設(shè)置以檢測玻璃基板K的支承。而且，此時，螺旋彈簧25從 圖9(B)的狀態(tài)進一步收縮，且彈簧收容筒24與上部墊圈28的間隙L消失。由此，彈簧收 容筒24與上部墊圈28抵接。其結(jié)果，玻璃基板K的負(fù)載由銷框架42支承。
此外，在用于檢測玻璃基板K的支承的機構(gòu)中，除上述的通過按壓而接通的類型 的傳感器45之外，可以使用例如透射型光電開關(guān)、反射型光電開關(guān)、非接觸式傳感器、磁性 開關(guān)等。使用上述透射型光電開關(guān)時，在例如螺栓27的位置設(shè)置用于對透射型光電開關(guān)的 透射光進行遮光的擋塊(遮光板)，在提升銷41由于支承玻璃基板K而下降時，通過設(shè)置透 射型光電開關(guān)以使上述擋塊對透射型光電開關(guān)的透射光進行遮光，能夠檢測玻璃基板K的 支承。 另外，緩沖機構(gòu)44能夠調(diào)節(jié)緩沖作用的強弱，由此，即使對于重量不同的玻璃基 板K也能夠施加適當(dāng)?shù)木彌_作用。具體來說，通過松弛第二螺母22、松弛彈簧收容筒24與 聯(lián)結(jié)桿23的緊固、改變間隙L的長度，來調(diào)節(jié)螺旋彈簧25的施力的強度。
如此，基于提升銷41，由于銷基部41H配置在吸附載物臺3的背面?zhèn)?，且該銷基部 41H具有緩沖機構(gòu)44，因此能夠抑制設(shè)置在吸附載物臺3的提升銷孔33必要以上地大徑。 即，如現(xiàn)有的提升銷，由于在插通提升銷孔的部位未設(shè)置用于吸收沖擊的機構(gòu)，因此只要銷 上端部41S能夠插通提升銷孔33即可，無須使提升銷孔33大徑化為必要以上。因此，能夠 對提升銷孔33成為必要以上的大徑的情況進行抑制，同時吸收在提升銷41的前端部與玻 璃基板K抵接時產(chǎn)生的沖擊。 另外，如圖2所示，設(shè)置在吸附載物臺3的定心單元5具有插入部件51及驅(qū)動裝 置52。插入部件51以成為左右一對的方式設(shè)置在吸附載物臺3的Y方向兩側(cè)。在各插入 部件51安裝有用于按壓玻璃基板K的Y方向兩側(cè)端面的襯墊53。在襯墊53中，預(yù)定高度 調(diào)整為與吸附載物臺3的載置面31的Z方向的間隙為0. lmm 0. 3mm。驅(qū)動裝置52由例 如相互同步并沿±Y方向運動的氣缸構(gòu)成，且各自的促動器部與各插入部件51聯(lián)結(jié)。
如圖1所示，涂敷單元6具有隔開比吸附載物臺3的寬度寬一些的間隔相對豎立 設(shè)置的兩根可動支柱部66和架設(shè)在這兩根可動支柱部66之間的模唇(金口 )60，且是設(shè)置 為橫跨吸附載物臺3的門型形狀體。通過線性馬達(dá)67X能夠沿X方向驅(qū)動兩根可動支柱部 66。線性馬達(dá)67X沿X方向相互平行配置在基臺2。通過線性馬達(dá)67Z能夠沿Z方向驅(qū)動 模唇60。線性馬達(dá)67Z沿Z方向分別配置在兩根可動支柱部66。 模唇60是以Y方向作為長度方向配置的大致柱狀體，如圖5所示，由前進方向側(cè) 的支承唇部61和其相反側(cè)的調(diào)整唇部62組合而成。在與玻璃基板K相對的下表面形成有 用于使光致抗蝕劑液20滲出的狹縫狀的噴出口63。在模唇60的內(nèi)部形成有與狹縫狀的噴
7出口 63連通的作為內(nèi)部流路的集管64，以及間隙通常設(shè)定為幾十P m的連通路(land) 65。 經(jīng)由連通路65壓出的光致抗蝕劑液20潤濕作為涂料接觸面的唇部前端面60a、60b的同時 涂敷于玻璃基板K。 模唇60通過由線性馬達(dá)67Z進行的升降動作能夠有選擇地配置在涂敷高度H2與 退讓高度Hl。涂敷高度H2為保持在載置面31上的玻璃基板K的表面與模唇61的噴出口 63的間隙為100 ii m 200 y m左右的高度。退讓高度HI為保持在載置面31上的玻璃基板 K的表面與模唇60的噴出口 63充分遠(yuǎn)離的高度。 如圖1所示，涂敷液供給部7具有涂敷液存儲罐71 、涂敷液輸送泵72及單向閥73、 74。 涂敷液存儲罐71是用于暫時存儲成為涂敷液的規(guī)定量(例如，能夠涂敷于多枚玻 璃基板K的量)的光致抗蝕劑液20的槽，并經(jīng)由單向閥73與涂敷液輸送泵72進行配管連 接。 涂敷液輸送泵72經(jīng)由單向閥74與模唇60進行配管連接。在類似于液晶顯示器 或等離子顯示器的平板顯示器的制造中使用的玻璃基板或半導(dǎo)體制造中涉及的晶片等的 平坦且片狀方式的基板進行涂敷的裝置中，要求涂敷方向的膜厚分布均勻且能夠形成不含 有氣泡或雜質(zhì)的涂敷膜。因此，涂敷液輸送泵72優(yōu)選脈動微小且供給開始時的調(diào)試時間 短、而且耐溶劑性優(yōu)良且在泵內(nèi)不產(chǎn)生液體的凝集或發(fā)泡、富有氣密性及耐久性的材料，例 如優(yōu)選注射(活塞)泵或風(fēng)箱泵等。特別由于注射泵是通過活塞直接輸出內(nèi)液的方式，因 此響應(yīng)性及定流量特性優(yōu)良。另一方面，由于注射泵是間接輸出內(nèi)液的方式，因此能夠防止 混入空氣。 如圖6所示，清洗單元8具有刮板81、刮板驅(qū)動裝置82及污液接收缸83等。刮板 81以合成橡膠等的彈性體作為材質(zhì)，是具有與模唇60的狹縫狀的噴出口 63側(cè)的外形大致 相似的V字形槽的塊狀體。在其內(nèi)部具有清洗液噴射噴嘴81a及干燥用氣體噴射噴嘴81b。 雖然圖示省略，但是清洗液噴射噴嘴81a經(jīng)由控制閥與填充了清洗液的清洗液存儲罐進行 配管連接。干燥用氣體噴射噴嘴81b經(jīng)由控制閥與填充了干燥用的壓縮氣體的干燥用氣體 存儲罐進行配管連接。刮板驅(qū)動裝置82是使刮板81能夠沿±Y方向移動的結(jié)構(gòu)，包括例 如驅(qū)動側(cè)滑輪、從動側(cè)滑輪、架設(shè)在這兩個滑輪的環(huán)形帶以及用于對驅(qū)動側(cè)滑輪進行旋轉(zhuǎn) 驅(qū)動的旋轉(zhuǎn)式伺服馬達(dá)等。污液接收缸83由以Y方向為長度方向且具有比模唇60大一些 的俯視面積(從Z方向觀察的面積)的長條有壁器皿構(gòu)成。此外，也可以與清洗動作一起 并列設(shè)置用于使狹縫狀的噴出口 63的浸濕狀態(tài)等返回恒定狀態(tài)的初始化裝置。
控制裝置10包括觸摸面板等的輸入輸出裝置、以存儲器裝置或微型處理器等為 主體的適當(dāng)?shù)挠布?、裝入用于使該硬件動作的計算機程序的硬盤裝置、以及與狹縫噴嘴涂 料器1的各驅(qū)動裝置等的結(jié)構(gòu)部及基板輸送機器人9進行數(shù)據(jù)通信的適當(dāng)?shù)慕涌陔娐返龋?并構(gòu)成為以使狹縫噴嘴涂料器1進行一連串的涂敷動作的方式向各結(jié)構(gòu)部輸出適當(dāng)?shù)目?制信號。具體來說，控制裝置10如下所述驅(qū)動控制框架驅(qū)動部43。 即，如果通過基板輸送機器人9將玻璃基板K搬入搬入位置P2 (參照圖8 (B))，則 控制裝置10驅(qū)動控制框架驅(qū)動部43，使玻璃基板K上升到基板待機位置P3，并停止在該位 置。具體來說，控制裝置10中的上述存儲器裝置預(yù)先存儲比玻璃基板K的搬入位置P2 (參 照圖8(B))高的位置的基板待機位置P3(參照圖8(C))的高度數(shù)據(jù)。如果玻璃基板K保持在基板待機位置P3 (參照圖8 (C))，則控制裝置10將作為該保持結(jié)束的信號的基板保持結(jié) 束信號向基板輸送機器人9輸出。而且，如果控制裝置10從基板輸送機器人9接收到機器 手93退讓的信號的手退讓結(jié)束信號，則驅(qū)動控制框架驅(qū)動部43以使將玻璃基板K保持在 基板待機位置P3的提升銷41下降。此時的驅(qū)動控制進行到將玻璃基板K載置在吸附載物 臺3的載置面31為止。此外，在支承玻璃基板K的時刻，從傳感器45輸出接通信號SG1，但 是，如果未輸出該接通信號SG1時，控制裝置10判斷為由提升銷41進行的玻璃基板K的支 承存在某些問題而輸出錯誤信號。 如圖1所示，基板輸送機器人9具有馬達(dá)91、臂92及機器手93。機器手93為能 夠支承玻璃基板K的叉狀體，構(gòu)成為通過馬達(dá)91的驅(qū)動經(jīng)由臂92沿XYZ e各方向移動自 如，并通過水平移動能夠有選擇地配置在下述的退讓位置P1和搬入位置P2。 S卩，退讓位置 Pl是吸附載物臺3的外方，從Z方向觀察時是在吸附載物臺3與機器手93無共有區(qū)域的位 置。而且，搬入位置P2是吸附載物臺3的正上方，此時的機器手93的高度與退讓位置P1 的高度一致。此外，機器手93的控制通過與控制裝置10不同的基板輸送機器人9自身具 有的控制裝置進行。 接下來，參照圖7、8、9說明狹縫噴嘴涂料器1的涂敷動作。圖7是狹縫噴嘴涂料 器1的涂敷動作的流程圖，圖8是時間序列地示出狹縫噴嘴涂料器的涂敷動作的圖，在圖8 中，空心的箭頭表示機器手93的動作方向，黑色的粗箭頭表示提升銷41的動作方向。
如圖7所示，狹縫噴嘴涂料器1的涂敷動作經(jīng)過玻璃基板接收步驟Sl、定心步驟 S2、涂敷步驟S3、刮削步驟S4、玻璃基板傳送步驟S5進行。在圖8中，說明狹縫噴嘴涂料器 1處于接下來的初始狀態(tài)的情況。即，提升銷41為埋設(shè)于載置面31的下方的狀態(tài)，機器手 93在支承玻璃基板K的狀態(tài)下位于退讓位置Pl (參照圖8 (A))。而且，模唇60位于退讓高 度Hl及待機位置Ql (參照圖5)。
(玻璃基板接收步驟Sl) 玻璃基板接收動作如下進行。首先基板輸送機器人9沿水平方向驅(qū)動支承玻璃基 板K的機器手93，使機器手93從退讓位置Pl向搬入位置P2移動(參照圖8 (B))。從退讓 位置Pl向搬入位置P2移動玻璃基板K時，機器手93僅進行水平移動。
接下來，通過控制裝置10驅(qū)動控制框架驅(qū)動部43而對銷框架42進行上升驅(qū)動， 由此使埋藏在載置面31的下方的提升銷41上升。由此，提升銷41的前端部從載置面31 突出并與處于搬入位置P2的玻璃基板K的背面抵接。此后，通過使提升銷41進一步上升， 緩沖機構(gòu)44的螺旋彈簧25進行收縮，并如圖9(B)所示，對提升銷41向上施力。S卩，緩沖 機構(gòu)44在提升銷41的前端部與玻璃基板K抵接時發(fā)揮緩沖作用。 提升銷41支承玻璃基板K時，如圖9(C)所示，開關(guān)部451接通。并且，各開關(guān)部 451的接通信號SG1產(chǎn)生。此后，提升銷41通過其前端部支承玻璃基板K并上升，將玻璃基 板K保持在基板待機位置P3(參照圖8(C))。如此，玻璃基板K的支承從機器手93向提升 銷41轉(zhuǎn)移。 如果將玻璃基板K保持在基板待機位置P3，則控制裝置10向基板輸送機器人9輸 出基板保持結(jié)束信號。根據(jù)該基板保持結(jié)束信號，基板輸送機器人9沿水平方向驅(qū)動脫離 玻璃基板K的機器手93，并使其移動到退讓位置Pl (參照圖8 (D))。如果基板輸送機器人 9退讓到退讓位置P1，則基板輸送機器人9向控制裝置IO輸出手退讓結(jié)束信號。
接下來，控制裝置10基于上述手退讓結(jié)束信號，通過驅(qū)動控制框架驅(qū)動部43而對 銷框架42進行下降驅(qū)動，由此使提升銷41下降。提升銷41支承玻璃基板K并下降，在完 全埋沒于載置面31下的位置停止。由此玻璃基板K載置于載置面31 (參照圖8 (E))。
這樣，根據(jù)玻璃基板接收步驟Sl，在將由機器手93搬入搬入位置P2的玻璃基板K 載置于載置面31時，不使支承玻璃基板K的機器手93下降，而通過使提升銷41上升并用 其前端部支承玻璃基板K，在使玻璃基板K保持在比搬入位置P2高位置的基板待機位置P3 后，使提升銷41下降。從而，機器手93僅進行水平移動即可，不需要使機器手93下降。因 此，基板輸送機器人9的動作步驟少，這樣，能夠?qū)崿F(xiàn)生產(chǎn)節(jié)拍時間的縮減化，并能夠提高 生產(chǎn)效率。而且，基板輸送機器人9與狹縫噴嘴涂料器1的控制裝置不同，但是基板輸送機 器人9的動作步驟減少的量、兩控制裝置間的機器手93與提升銷41之間的玻璃基板K的 傳送涉及的控制數(shù)據(jù)的交換少即可，從該點出發(fā)也能實現(xiàn)生產(chǎn)節(jié)拍時間的縮減化。而且，由 于緩沖機構(gòu)44在提升銷41與玻璃基板K抵接時發(fā)揮緩沖作用，因此緩和、吸收玻璃基板K 從提升銷41的前端部受到的沖擊。因此，能夠抑制在玻璃基板K產(chǎn)生劃痕或裂紋。
(定心步驟S2) 定心動作如下進行。在定心單元5中，通過由驅(qū)動裝置52(參照圖2)驅(qū)動插入部 件51，而從Y方向兩側(cè)夾持載置于載置面31上的玻璃基板K。由此，玻璃基板K從吸附載 物臺3的Y方向兩端分別成為等間隔的位置，并使玻璃基板K的X方向中心線與載置面31 的X方向中心線(通過Y方向?qū)挾鹊闹行亩豖方向平行的中心線) 一致，進行所謂定心。 此后，驅(qū)動裝置52使插入部件51返回原來的位置。
(涂敷步驟S3) 涂敷動作如下進行。在定心結(jié)束后，首先，在吸附載物臺3的真空吸附孔32產(chǎn)生 真空壓，將玻璃基板K真空吸附保持在載置面31上。接下來，通過驅(qū)動線性馬達(dá)67X，使模 唇60從待機位置Q1向涂敷開始位置Q2移動(參照圖5)。接下來，通過驅(qū)動線性馬達(dá)67Z， 使模唇60從退讓高度Hl向涂敷高度H2移動。 接下來，涂敷液輸送泵72向模唇60輸送光致抗蝕劑液20，并使光致抗蝕劑液20 從狹縫狀的噴出口 63滲出。此時，在狹縫狀的噴出口 63與玻璃基板K的表面之間形成有 與該雙方相接的薄膜聯(lián)結(jié)部(bead)20B(參照圖5)。在該狀態(tài)下通過驅(qū)動線性馬達(dá)67X使 模唇60沿+X方向移動(參照圖8(F))。伴隨著模唇60的移動，在玻璃基板K的表面向+X 方向涂敷有光致抗蝕劑液20。如果模唇60到達(dá)涂敷結(jié)束位置Q3，則涂敷液輸送泵72停止 供給光致抗蝕劑液20，線性馬達(dá)67X通過停止驅(qū)動可動支柱部61而停止模唇60的移動。 接下來，驅(qū)動線性馬達(dá)67Z，使模唇60上升到退讓高度Hl。接下來，沿-X方向反轉(zhuǎn)驅(qū)動線 性馬達(dá)67X，在模唇60的狹縫狀的噴出口 63到清洗單元8的上方處停止。
(刮削步驟S4) 刮削動作如下進行。首先，驅(qū)動線性馬達(dá)67Z，對模唇60的狹縫狀的噴出口 63與 刮板81的V字形槽(參照圖6)進行非接觸配置。接下來，清洗液噴射噴嘴81a噴射清洗 液。噴射清洗液的同時，刮板驅(qū)動裝置82沿+Y方向驅(qū)動刮板81。由此，清洗狹縫狀的噴 出口63。如果刮板81到達(dá)+Y方向的端部，則刮板驅(qū)動裝置82停止驅(qū)動刮板81。與此同 時清洗液的噴射也停止。此后，刮板驅(qū)動裝置82沿-Y方向反轉(zhuǎn)驅(qū)動刮板81。此時干燥用 氣體噴射噴嘴81b噴射干燥用氣體，并對清洗過的狹縫狀的噴出口 63進行干燥。如果刮板81到達(dá)-Y方向的端部，則刮板驅(qū)動裝置82停止驅(qū)動刮板81。與此同時停止干燥用氣體的 噴射。(玻璃基板傳送步驟S5) 玻璃基板傳送動作如下進行。首先，破壞在吸附載物臺3的真空吸附孔32產(chǎn)生的 真空壓力。接下來，通過控制裝置10驅(qū)動控制框架驅(qū)動部43而對銷框架42進行上升驅(qū)動， 由此使提升銷41從吸附載物臺3突出并與玻璃基板K抵接。此后，使提升銷41在支承玻 璃基板K的狀態(tài)下上升到基板待機位置P3。此時也與接收玻璃基板K時相同，在提升銷41 與玻璃基板K抵接時發(fā)揮緩沖作用。由此，能夠抑制在玻璃基板K產(chǎn)生劃痕或裂紋。接下 來，基板輸送機器人9沿水平方向驅(qū)動處于退讓位置Pl的機器手93，使其移動到搬入位置 P2。接下來，通過控制裝置10驅(qū)動控制框架驅(qū)動部43，使支承玻璃基板K的提升銷41下 降。通過使玻璃基板K下降，機器手93接取涂敷結(jié)束的玻璃基板K。接下來，基板輸送機器 人9沿水平方向驅(qū)動在搬入位置P2接取到玻璃基板K的機器手93，向作為下一工序的減壓 干燥工序傳送。 此外，在上述實施方式中，作為狹縫噴嘴涂料器1的初始狀態(tài)，示出了提升銷41埋 藏于載置面31的下方的情況，但是也可以使提升銷41預(yù)先突出到規(guī)定高度，并將該規(guī)定高 度作為提升銷41的上升開始位置。即，使搬入搬入位置P2的玻璃基板K與提升銷41不干 涉的高度、例如提升銷41的前端部比搬入搬入位置P2的玻璃基板K低的位置為規(guī)定高度， 并使該規(guī)定高度為提升銷41的上升開始位置。由此，在玻璃基板接收步驟S1中，由于使玻 璃基板K上升到基板待機位置P3所需要的提升銷41的上升距離變短，因此能夠縮短使玻 璃基板K上升到基板待機位置P3所需要的時間。 以上，關(guān)于本發(fā)明的實施方式進行了說明，但是上述公開的實施方式只不過是例 示，本發(fā)明的范圍并不局限于該實施方式。本發(fā)明的范圍通過權(quán)力要求書記載而公示，并進 一步包含與權(quán)利要求書的范圍等同的意思及范圍內(nèi)的全部變更。即，提升銷41的整體或一 部分的構(gòu)造、形狀、尺寸、個數(shù)等按照本發(fā)明的主旨可以進行各種變更。而且，在本實施方式 中，使裝入提升銷41的基板處理裝置為狹縫噴嘴涂料器，但是除此以外，也能夠適用于例 如曝光裝置、清洗裝置、干燥裝置及檢查裝置等。
1權(quán)利要求
一種提升銷，其從設(shè)置在載物臺(3)的插通孔(33)露出沒入，并在載物臺(3)的表面(31)載置基板(K)，其特征在于，具有銷上端部(41S)，其能夠插通于載物臺(3)的插通孔(33)，并且與基板(K)的背面抵接而將基板(K)支承在規(guī)定的位置；銷基部(41H)，其配置在載物臺(3)的背面?zhèn)炔⑴c銷上端部(41S)聯(lián)結(jié)，所述銷基部(41H)具有緩和所述銷上端部(41S)與基板(K)抵接時的沖擊的緩沖機構(gòu)(44)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的提升銷，其特征在于，所述緩沖機構(gòu)(44)具有向銷上端部(41S)從插通孔(33)突出的方向施力的施力機構(gòu)(25)，當(dāng)銷上端部(41S)與基板(K)抵接時，通過使該施力機構(gòu)(25)收縮來緩和與基板(K)抵接時的沖擊。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的提升銷，其特征在于，所述緩沖機構(gòu)(44)具有調(diào)節(jié)所述施力機構(gòu)(25)的作用力的調(diào)節(jié)機構(gòu)(22、24)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種提升銷，所述提升銷能夠?qū)μ嵘N孔成為必要以上的大徑的情況進行抑制，同時吸收在提升銷的前端部與基板抵接時產(chǎn)生的沖擊。一種提升銷(41)，其從設(shè)置在載物臺(3)的插通孔(33)露出沒入，并在載物臺(3)的表面(31)載置基板(K)，其特征在于，具有銷上端部(41S)，其能夠插通于載物臺(3)的插通孔(33)，并且與基板(K)的背面抵接將基板(K)支承在規(guī)定的位置；銷基部(41H)，其配置在載物臺(3)的背面?zhèn)炔⑴c銷上端部(41S)聯(lián)結(jié)，所述銷基部(41H)具有緩和所述銷上端部(41S)與基板(K)抵接時的沖擊的緩沖機構(gòu)(44)
文檔編號B05C13/02GK101712023SQ200910178729
公開日2010年5月26日 申請日期2009年9月28日 優(yōu)先權(quán)日2008年10月1日
發(fā)明者釜谷學(xué) 申請人:東麗工程株式會社