專(zhuān)利名稱(chēng)：一種細(xì)縫式涂布裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種細(xì)縫式涂布裝置，特別涉及一種液晶顯示器彩色濾光片的細(xì)縫式涂布裝置。
背景技術(shù)：
液晶顯示器制造技術(shù)的進(jìn)步，尤其大尺寸液晶顯示器制造技術(shù)的進(jìn)步，使得真空管顯示器在許多應(yīng)用領(lǐng)域被液晶顯示器取代。液晶顯示器的相關(guān)產(chǎn)品成為近年來(lái)的流行產(chǎn)品。
在液晶顯示器的制作過(guò)程中，光刻工藝(Lithography)是一系列重要工藝之一。光刻工藝通過(guò)涂布光刻膠、顯影(exposure)、曝光(development)等步驟，圖案化液晶顯示器中的膜層。在第四代面板上，涂布光刻膠一般采用旋涂方式(Spin coating)涂布。從第五代面板開(kāi)始，因?yàn)槊姘宄叽邕^(guò)大，一般采用細(xì)縫式涂布法。光刻膠層厚度的均勻與否關(guān)系著后續(xù)工藝的良率。在大尺寸的面板上控制光刻膠層均勻厚度，考驗(yàn)著液晶顯示器相關(guān)制造商的技術(shù)能力。
現(xiàn)有的細(xì)縫式涂布法，通常在成膜開(kāi)始及成膜結(jié)束地方的涂布均勻性有問(wèn)題。因?yàn)?，?xì)縫式涂布噴嘴在開(kāi)始涂布和結(jié)束涂布時(shí)處于不穩(wěn)定的狀態(tài)，而進(jìn)行中間大部份薄膜的土不是，噴嘴吐出的狀態(tài)是穩(wěn)定的，所以膜厚比較均勻。為了解決上述問(wèn)題，液晶顯示器相關(guān)制造商積極提出創(chuàng)新的方法，解決現(xiàn)有細(xì)縫式涂布法的不足。

發(fā)明內(nèi)容
因此本發(fā)明的目的就是提供一種細(xì)縫式涂布裝置，用以改善細(xì)縫式涂布膜厚不均勻的情況。
根據(jù)本發(fā)明的上述目的，提出一種細(xì)縫式涂布裝置，適用于在基材上涂布均勻膜層。此細(xì)縫式涂布裝置包含基座、細(xì)縫式涂布噴嘴、可撓曲墊片及滾輪裝置。細(xì)縫式涂布噴嘴位于基座上方。當(dāng)涂布工藝開(kāi)始執(zhí)行時(shí)，將可撓曲墊片覆蓋在基材的兩側(cè)，并使細(xì)縫式涂布噴嘴在涂布開(kāi)始與涂布結(jié)束時(shí)，將不均勻膜層分別涂布于兩墊片，使均勻膜層被涂布在基材上?？蓳锨鷫|片通過(guò)滾輪裝置驅(qū)動(dòng)變?yōu)榭蓳锨鼔|片其它未被污染的區(qū)域。
由上述可知，使用本發(fā)明的細(xì)縫式涂布裝置，在裝置基座上增加可撓曲墊片，將其覆蓋在基材兩側(cè)，并使噴嘴在涂布開(kāi)始及涂布結(jié)束時(shí)，將不均勻膜層涂布在基材兩側(cè)的墊片上，從而涂布均勻的膜層在基材上。可撓曲墊片可通過(guò)滾輪裝置驅(qū)動(dòng)而變更為可撓曲墊片的其它未被污染區(qū)域，防止墊片上的涂布材料在工藝區(qū)停留過(guò)久污染基座。


圖1是繪示了依照本發(fā)明一較佳技術(shù)方案的一種細(xì)縫式涂布裝置的前視圖；圖2是繪示了依照本發(fā)明一較佳技術(shù)方案的一種細(xì)縫式涂布裝置的側(cè)視圖；圖3是繪示了依照本發(fā)明另一較佳技術(shù)方案的一種細(xì)縫式涂布裝置的側(cè)視圖。
圖號(hào)說(shuō)明基座100 基材102 均勻膜層104可撓曲墊片106容器110 清洗液108滾輪裝置112a/112b細(xì)縫式涂布噴嘴11具體實(shí)施方式
為解決現(xiàn)有細(xì)縫式涂布法在成膜的開(kāi)始及結(jié)束時(shí)，因噴嘴處于不穩(wěn)定的狀態(tài)，發(fā)生涂布不均勻的問(wèn)題，本發(fā)明提出一種細(xì)縫式涂布裝置。通過(guò)在裝置的基座上增加可撓曲墊片，將其覆蓋在基材兩側(cè)，噴嘴在涂布開(kāi)始及涂布結(jié)束時(shí)，將不均勻膜層涂布在基材兩側(cè)的墊片上，從而涂布均勻的膜層在基材上?？蓳锨鷫|片可通過(guò)滾輪裝置驅(qū)動(dòng)而變更為該可撓曲墊片的其它未受污染的區(qū)域。
請(qǐng)參照?qǐng)D1，其繪示了依照本發(fā)明一較佳技術(shù)方案的一種細(xì)縫式涂布裝置的正視圖。本較佳實(shí)施例在基座100上增加一厚度小于30微米的可撓曲墊片106。在涂布工藝開(kāi)始執(zhí)行前將可撓曲墊片106覆蓋在基材102的兩側(cè)，使得細(xì)縫式涂布噴嘴114涂布開(kāi)始與涂布結(jié)束時(shí)，將不均勻膜層104a分別涂布在兩個(gè)可撓曲墊片106上。如此一來(lái)，細(xì)縫式涂布噴嘴114就將均勻膜層104涂布在基材102上。為了使涂布材料不易沾附在可撓曲墊片106上，可以對(duì)可撓曲墊片106外可進(jìn)行奈米處理，使其易于清洗。
請(qǐng)參照?qǐng)D2，其繪示了依照本發(fā)明一較佳技術(shù)方案的一種細(xì)縫式涂布裝置的側(cè)視圖。在經(jīng)過(guò)數(shù)次工藝后，上述的可撓曲墊片106，可通過(guò)位于基座100兩側(cè)的滾輪裝置112a及112b驅(qū)動(dòng)?？蓳锨鷫|片106經(jīng)驅(qū)動(dòng)后可以移動(dòng)到容器110內(nèi)的清洗液108中洗凈，而后重復(fù)使用。上述的滾輪裝置112a及112b可通過(guò)手動(dòng)或馬達(dá)驅(qū)動(dòng)。
請(qǐng)參照?qǐng)D3，其繪示了依照本發(fā)明另一較佳技術(shù)方案的一種細(xì)縫式涂布裝置的側(cè)視圖。在經(jīng)過(guò)數(shù)次工藝后，上述的可撓曲墊片106可通過(guò)位于基座100兩側(cè)的滾輪裝置112a及112b驅(qū)動(dòng)而改變?yōu)榭蓳锨鷫|片106的其它未受污染的區(qū)域。受污染的可撓曲墊片106經(jīng)驅(qū)動(dòng)后可以直接回收。在本實(shí)施例中，滾輪裝置112a提供未使用(未受污染)的可撓曲墊片106，經(jīng)數(shù)次使用后，再經(jīng)滾輪裝置112b回收已使用(受污染)的可撓曲墊片106。上述的滾輪裝置112a及112b可通過(guò)手動(dòng)或馬達(dá)驅(qū)動(dòng)。
由上述本發(fā)明較佳實(shí)施例可知，本發(fā)明的細(xì)縫式涂布裝置，在裝置中的基座上增加可撓曲墊片覆蓋在基材兩側(cè)，使噴嘴在涂布開(kāi)始及涂布結(jié)束時(shí)，將不均勻膜層涂布在基材兩側(cè)的墊片上，從而涂布均勻的膜層在基材上。可撓曲墊片可通過(guò)滾輪裝置驅(qū)動(dòng)而變更為可撓曲墊片其它未受污染的區(qū)域，避免墊片上的涂布材料在工藝區(qū)停留過(guò)久污染基座。
雖然本發(fā)明通過(guò)較佳實(shí)施例說(shuō)明了本發(fā)明的實(shí)施過(guò)程，然而所述實(shí)施例并非用于限定本發(fā)明的范圍，任何本領(lǐng)域技術(shù)人員，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施的各種變化均包括在本發(fā)明權(quán)利要求書(shū)所保護(hù)的范圍中。
權(quán)利要求
1.一種細(xì)縫式涂布裝置，適用于在基材上涂布均勻膜層，其特征是，所述的涂布裝置至少包含一基座，承載一基材；一細(xì)縫式涂布噴嘴，位于基座上方；兩滾輪裝置，位于基座兩側(cè)；以及可撓曲墊片，覆蓋在所述的基材兩側(cè)，并使所述的細(xì)縫式涂布噴嘴在涂布開(kāi)始與涂布結(jié)束時(shí)，將不均勻膜層分別涂布在兩個(gè)所述的可撓曲墊片上，從而使均勻的膜層被涂布在所述的基材，其中所述的可撓曲墊片是通過(guò)所述的滾輪裝置驅(qū)動(dòng)而變更為所述的可撓曲墊片的其它未被污染的區(qū)域。
2.如權(quán)利要求1所述的細(xì)縫式涂布裝置，其特征是，所述的可撓曲的墊片厚度小于30微米。
3.如權(quán)利要求1所述的細(xì)縫式涂布裝置，其特征是，所述的可撓曲的墊片可進(jìn)行奈米處理，使所述的可撓曲墊片易于清洗。
4.如權(quán)利要求1所述的細(xì)縫式涂布裝置，其特征是，所述的滾輪裝置是由手動(dòng)或馬達(dá)驅(qū)動(dòng)。
5.如權(quán)利要求1所述的細(xì)縫式涂布裝置，其特征是，進(jìn)一步包含一容器，所述的容器位于所述的滾輪裝置下方并裝有清洗液。
6.如權(quán)利要求1至5所述的細(xì)縫式涂布裝置，其特征是，所述的可撓曲墊片的被污染的區(qū)域通過(guò)所述的滾輪裝置驅(qū)動(dòng)被浸入所述的清洗液中洗凈后，重復(fù)使用可撓曲墊片。
全文摘要
一種細(xì)縫式涂布裝置適用在基材上涂布均勻膜層。該細(xì)縫式涂布裝置包含基座、細(xì)縫式涂布噴嘴、可撓曲墊片及滾輪裝置。細(xì)縫式涂布噴嘴位于基座上方。當(dāng)涂布工藝開(kāi)始執(zhí)行時(shí)，將可撓曲墊片覆蓋在基材的兩側(cè)，并使細(xì)縫式涂布噴嘴將涂布開(kāi)始與涂布結(jié)束時(shí)的不均勻膜層分別涂布在兩個(gè)可撓曲墊片上，從而使均勻膜層被涂布在基材上。可撓曲墊片通過(guò)滾輪裝置驅(qū)動(dòng)而變更為可撓曲墊片其它未受污染的區(qū)域。
文檔編號(hào)B05C11/10GK1843636SQ20051006327
公開(kāi)日2006年10月11日 申請(qǐng)日期2005年4月7日 優(yōu)先權(quán)日2005年4月7日
發(fā)明者柯山文, 陳重廷, 顧鴻壽, 劉昱庭, 張?jiān)谰S, 陳志行 申請(qǐng)人:展茂光電股份有限公司