專利名稱：液體注入噴嘴的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及液體注入噴嘴，特別涉及能夠用于處理平面顯示板的表面和按預定方向噴射液體的液體注入噴嘴。
背景技術：
韓國實用新型號為20-0305052的專利公開了用于處理平面顯示板的表面的液體注入噴嘴。此專利所公開的噴嘴被設計為具有長度彼此不同的尖端。噴嘴放置在相對于平板處理表面傾斜的位置，以通過向平板的表面注入液體來處理表面。通過傾斜的噴嘴按預定方向注入液體，能夠提高處理效率。
然而，當噴嘴傾斜至一個狀態(tài)以至于該噴嘴處于靠近表面的位置時，噴嘴可能與面板相接觸，這將降低處理效率。此外，即使當噴嘴傾斜放置時，液體也可能不按預定方向注入。也就是說，如果液體的注入方向與平板的前進方向相同，將產生渦流和負壓，造成基片振動，從而降低處理效率。

發(fā)明內容
因此，本發(fā)明提出了一種液體注入噴嘴，該噴嘴充分克服了由于現(xiàn)有技術的局限和缺陷所引發(fā)的一個或多個問題。
本發(fā)明的一個目的在于提供一種用于處理平面顯示板表面的液體注入噴嘴，該噴嘴能夠安裝在注射器上，這樣，噴嘴可相對于基片充分傾斜，并且，即使在噴嘴相對于基片無傾斜時，該噴嘴也能夠按預定方向注入液體。
為了實現(xiàn)該目的，本發(fā)明提供了一種用于處理基片的液體注入噴嘴，該噴嘴包括具有第一尖端的第一板和具有第二尖端的第二板，第二板與第一板通過緊固件連接，其中第一板和第二板確定了液體通道，且第一尖端和第二尖端的長度不同。
優(yōu)選地，第一板和第二板中尖端較短的板相對于基片前進方向放置在基片的下游位置。
因此，由于注入噴嘴的各個尖端長度彼此不同，所以，即使當噴嘴不傾斜時，也可提高基片的處理效率。
當傾斜噴嘴以至較短的尖端靠近基片的表面放置時，可在尖端和基片之間保持足夠大的間隙，以防止噴嘴與表面接觸，并減少產品的缺陷。
而且，由于液體的注入方向與基片前進方向相反，因此將抑制渦流和負壓的產生，從而防止基片振動以增加基片的處理效率。
應該理解的是對本發(fā)明的上述概括描述和以下的詳細描述都是示例性的和解釋性的，這些描述的目的在于提供權利要求所聲明的本發(fā)明的深入說明。


圖1是根據本發(fā)明一優(yōu)選實施例的液體注入噴嘴的透視圖；圖2是沿圖1的A-A線的剖面圖；圖3是說明本發(fā)明的操作的示意圖。
具體實施例方式
下面，對

的本發(fā)明優(yōu)選實施例進行詳細描述。在任何可能的地方，同一標注號碼將在所有附圖中用于表示相同或相近的部件。
圖1和圖2示出了根據本發(fā)明一優(yōu)選實施例的液體注入噴嘴。
本發(fā)明的液體注入噴嘴1相對于基片G的表面以預定的角度θ傾斜放置。
噴嘴1包括第一板3和第二板5，每個板具有預定的寬度。第一板3和第二板5由諸如螺釘/螺母套件的緊固件彼此連接，在第一板3和第二板5之間確定了液體通道7。第二板5的尖端部分的長度比第一板3的尖端部分的長度短L。此外，優(yōu)選地，第二板5相對于基片G的前進方向(圖中的箭頭方向)放置在下游端。也就是說，優(yōu)選地，放置噴嘴以使得尖端長度較短的板位于下游端。
液體通道7由在第一板3和第二板5的相對表面上形成槽來確定，或由在第一板3和第二板5之間提供分離的間隙形成組件來確定。
下面參考圖3說明本發(fā)明的操作過程。
噴嘴1相對于基片G的表面以預定的角度θ傾斜放置，基片G由滾子R(見圖1)傳送。此時，尖端長度較短的第二板5相對于基片G前進方向(見圖1的箭頭方向)放置在下游端。當液體通過液體通道7注入時，液體通道7的中軸處的流速比液體通道7的通道壁處的流速高(見圖3的A，箭頭長度表示流速)。也就是說，因為沿通道7流動的外圍液體和通道壁產生碰撞，外圍液體的流速比中軸處的液體流速小。此外，當液體經過第二板5的尖端時，由于液體與通道壁的碰撞消失，流速將陡然增加(見圖3的B)。
由于流經第一板3和第二板5的液體向具有較長尖端的第一板3彎曲，因此液體被注入。而且，由于噴嘴1相對于基片G的前進方向傾斜，液體的注入方向和基片G的前進方向相反。結果，在對應于第一板3的第一板部分，抑制了渦流和負壓的產生，從而防止基片G振動，以穩(wěn)定地傳送基片G。
如上所述，通過按照與基片前進的方向相反的方向注入液體，基片G的處理效率將顯著增加。
此外，即使當噴嘴1靠近基片G放置時，第二板5的尖端和基片G之間仍能夠保持足夠大的距離，以防止噴嘴1接觸基片G，其中，該接觸可能由于滾子R的振動而導致。
如上所述，在本發(fā)明中，因為注入噴嘴的尖端的長度彼此不同，所以，即使噴嘴不傾斜，也可提高基片的處理效率。
當噴嘴的傾斜使得較短的尖端靠近基片的表面放置時，尖端和基片之間可保持足夠大的間隙，從而防止噴嘴接觸基片，并減少產品的缺陷。
而且，因為液體的注入方向與基片的前進方向相反，因此，可抑制渦流和負壓的產生，從而防止基片振動以提高基片的處理效率。
顯而易見，對本領域的普通技術人員來說，可對本發(fā)明進行各種改進和改變。因此，在附帶的權利要求和它們的同等物的范圍內，本發(fā)明包含本發(fā)明的改進和改變。
權利要求
1.一種用于處理基片的液體注入噴嘴，該噴嘴包括具有第一尖端的第一板；和具有第二尖端的第二板，第二板通過緊固件與第一板連接，其中第一板和第二板確定了一個液體通道，并且第一尖端和第二尖端的長度彼此不同。
2.根據權利要求1所述的液體注入噴嘴，其中第一板和第二板之中具有較短尖端的板，相對于基片前進方向放置在基片的下游端。
3.一種用于處理基片的液體注入噴嘴，該噴嘴包括具有第一尖端的第一板；具有第二尖端的第二板，第二板通過緊固件與第一板連接，第一板和第二板確定了一個液體通道；和用于在與基片前進方向相反的方向上注入液體的設備，該液體流經液體通道。
4.根據權利要求3所述的液體注入噴嘴，其中對所述設備的規(guī)定是第一尖端和第二尖端具有彼此不同的長度。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于處理基片的液體注入噴嘴，該噴嘴包括具有第一尖端的第一板和具有第二尖端的第二板，第二板通過緊固件與第一板連接。第一板和第二板確定了一個液體通道，且第一尖端和第二尖端的長度不同。
文檔編號B05C5/02GK1608740SQ20041004824
公開日2005年4月27日 申請日期2004年6月14日 優(yōu)先權日2003年10月17日
發(fā)明者許經憲 申請人:顯示器生產服務株式會社