專利名稱：制作盤形記錄介質(zhì)的旋涂裝置和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種通過采用一旋涂方法在一基本盤形結(jié)構(gòu)的盤件上形成涂覆膜的裝置。更具體地說，本發(fā)明涉及一種用于供給、移除及清洗在通過采用一旋涂方法執(zhí)行薄膜成形以制造一諸如CD、CD-R或CD-RW之類的CD類盤、一諸如DVD-ROM、DVD-R、DVD-RW或DVD-RAM之類的DVD類盤、一諸如近來正在發(fā)展中的可兼容藍(lán)色激光盤之類的光盤、或者一諸如MO或MD之類的磁光盤時使用的一掩膜的裝置。
背景技術(shù)：
旋涂是一種將一液態(tài)材料供應(yīng)給靠近一盤件中心的一部分并轉(zhuǎn)動該盤件以利用轉(zhuǎn)動作用的離心力散布該液態(tài)材料，從而在該盤件的表面上形成一液態(tài)材料膜的技術(shù)。該旋涂方法廣泛應(yīng)用于例如形成一小型盤、一DVD類盤或其類似物的保護(hù)層。
在這種盤中，形成有一用于在安裝到一盤驅(qū)動裝置上時定中心的孔(例如，15)。此外，還設(shè)置有一用于在注塑時固定一壓模的凹槽及類似物，這樣就沒有膜(層)形成在該盤基片的中央部內(nèi)。由此，當(dāng)利用該旋涂方法在這種盤上執(zhí)行薄膜成形(涂覆)時，從外周側(cè)起而不是從該凹槽等起執(zhí)行涂覆。當(dāng)要求更均勻的涂覆時，就設(shè)置一覆蓋該盤基片的中央部的掩膜，并從該掩膜上方供應(yīng)涂覆材料以形成一涂覆膜，由此就不用對該基片的中央部進(jìn)行涂覆。
圖6示出在一盤旋涂裝置中如何使用一掩膜的示例。圖6是示出一安置在一旋涂裝置的旋涂器上的盤以及一設(shè)置在該盤上的掩膜。一旋涂器臺202固定在一連接到一電機(jī)(未示出)并從而轉(zhuǎn)動的旋涂器軸200上。一墊圈203固定在旋涂器臺202上，以及一盤204設(shè)置在墊圈203上。利用一裝置(未示出)將盤204真空吸附到墊圈203上。一覆蓋該盤的中央部的掩膜206放置在盤204上。此時，一設(shè)在旋涂器臺202的上表面的中央部附近的環(huán)形凸起部205與一掩膜206的環(huán)形凹槽206a相互適配地接合。在旋涂時，經(jīng)由一路徑210對位于旋涂器臺202的中央部內(nèi)的一空隙212抽氣，由此吸引并固定掩膜206。
為進(jìn)行涂覆，一液態(tài)涂覆材料從上方供應(yīng)到靠近該掩膜中央部的一部分。隨后，轉(zhuǎn)臺高速轉(zhuǎn)動，并且供應(yīng)到掩膜上的涂覆材料通過一由轉(zhuǎn)動引起的離心力散布到該盤的未被該掩膜覆蓋的部分的整個表面上。結(jié)果，在盤的上述整個部分上形成一具有基本均勻厚度的涂覆材料膜(層)。在上述旋涂過程已經(jīng)完成后，解除對掩膜的真空吸引以移除該掩膜。
當(dāng)已經(jīng)如此在盤上執(zhí)行薄膜成形之后，在該盤表面上執(zhí)行諸如紫外線照射或盤加熱之類的處理以固化該膜。在近來正在發(fā)展中的一可兼容藍(lán)色激光DVR盤或其類似物中，利用一具有短波長的藍(lán)色激光讀取信息，這樣就要求一厚度更均勻的涂層。作為一用于制作這種DVR盤或其類似物的裝置，本申請人已經(jīng)提出這樣一系統(tǒng)，在該系統(tǒng)中，在維持高度均勻的同時將一涂覆材料供應(yīng)到一盤上，然后固化該涂覆膜，其中這些工藝基本上是連續(xù)進(jìn)行的。
在這種系統(tǒng)中，通常預(yù)先準(zhǔn)備大量掩膜，且在進(jìn)行薄膜成形工藝的同時，將這些掩膜相繼供應(yīng)給各張盤。如果使得某些涂覆材料殘留在一盤的表面上，并且將另外的涂覆材料供應(yīng)給那個表面，則擔(dān)心會出現(xiàn)用于獲得盤上的均勻涂層的條件存在差異。此外，如果某些涂覆材料殘留在掩膜206與盤204之間的交界部(圖6中由符號A所示部分)內(nèi)，則在掩膜206與盤204分離時會污染掩膜206的背面。如果同一掩膜繼續(xù)用于下次涂覆，這種污染會弄臟利用此掩膜形成一涂覆膜的下一張盤?？紤]到這點，有必要在每次薄膜成形工藝之后對掩膜進(jìn)行處理或者除去殘留在其上的任何涂覆材料；通常，當(dāng)其上附著有涂覆材料的掩膜數(shù)量到達(dá)一定量或更多時，將這些掩膜同時浸入一清洗劑或其類似物中，從而除去該涂覆材料。
如上所述，在施加涂覆材料時，掩膜206與盤204之間的交界部(圖6中由符號A所示部分)也覆蓋有該涂覆材料。通常，在此交界部內(nèi)，由于掩膜206的端部而存在一階部。如果涂覆膜的均勻部分要盡可能接近此交界部，則有必要使掩膜206的端部被制作得盡可能薄且具有一足夠的平整度，這樣就能夠可靠地使其與盤204的表面進(jìn)入緊密接觸。也就是說，掩膜206的周緣部被成形為一薄且尖銳的構(gòu)形。
但是，當(dāng)如上所述同時清洗大量掩膜時，它們會相互接觸從而損壞它們的周緣部，這樣就擔(dān)心某些掩膜變得不能用于下一次工藝。因此，對掩膜執(zhí)行清洗、干燥等的工藝需要花費相當(dāng)多的時間和精力，從降低盤制作的成本、對盤制作的產(chǎn)品控制等觀點來看，無可否認(rèn)的是還有許多有待改進(jìn)之處。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是考慮到現(xiàn)有技術(shù)的以上問題而做出的。相應(yīng)地，本發(fā)明的一個目的是提供一種用于清洗掩膜而不再擔(dān)心損壞該掩膜的方法及裝置。此外，本發(fā)明旨在提供一種可通過重復(fù)使用其狀況受良好控制的掩膜來連續(xù)制作盤或其類似物的旋涂裝置及磁記錄介質(zhì)制作方法。
為解決以上問題，依照本發(fā)明一方面的一旋涂裝置涉及一種用于通過給一盤件的靠近中央的部分供應(yīng)一液態(tài)材料并轉(zhuǎn)動所述盤件以利用一離心力散布所述液態(tài)材料而在所述盤件上形成所述液態(tài)材料的膜的旋涂裝置，所述旋涂裝置包括適于在轉(zhuǎn)動的同時夾持所述盤件的一旋涂器機(jī)構(gòu)；一掩膜供給/移除機(jī)構(gòu)，當(dāng)所述盤件在所述旋涂器機(jī)構(gòu)內(nèi)轉(zhuǎn)動時，所述掩膜供給/移除機(jī)構(gòu)給所述盤件供應(yīng)一覆蓋所述盤件中心及環(huán)繞所述中心的一部分的掩膜，并且在所述盤件已經(jīng)完成轉(zhuǎn)動后，所述掩膜供給/移除機(jī)構(gòu)將所述掩膜移離所述盤件；一分配器機(jī)構(gòu)，當(dāng)所述盤件和所述掩膜在所述旋涂器機(jī)構(gòu)內(nèi)保持并轉(zhuǎn)動時，所述分配器機(jī)構(gòu)給所述盤件與所述掩膜中的至少一個的上表面供應(yīng)所述液態(tài)材料；以及一清洗機(jī)構(gòu)，所述清洗機(jī)構(gòu)從所述掩膜供給/移除機(jī)構(gòu)接收一其上附著有所述液態(tài)材料的掩膜，清洗經(jīng)接收的所述掩膜以除去附著在其上的所述液態(tài)材料，以及將經(jīng)清洗的所述掩膜轉(zhuǎn)送到所述掩膜供給/移除機(jī)構(gòu)。
在上述旋涂裝置中，所述掩膜供給/移除機(jī)構(gòu)包括一具有一用于夾緊及釋放所述掩膜的夾盤機(jī)構(gòu)的掩膜供給臂，以及一適于在其自身與所述掩膜供給臂之間輸送所述掩膜并以預(yù)定角間隔間歇轉(zhuǎn)動的掩膜臺。
此外，所述清洗機(jī)構(gòu)優(yōu)選包括至少一個用清洗劑清洗所述掩膜的清洗部，一用于沖洗所述掩膜以除去附著在所述掩膜上的所述清洗劑的沖洗部，一用于在沖洗之后干燥所述掩膜的干燥部，以及一夾緊所述掩膜并將其插入所述清洗部、所述沖洗部及所述干燥部內(nèi)的輸送臂。
此外，優(yōu)選的是，所述清洗部、所述沖洗部及所述干燥部以預(yù)定角間隔基本設(shè)在一具有預(yù)定直徑的圓周內(nèi)，并且所述輸送臂繞所述圓周的一中心以所述預(yù)定角間隔間歇轉(zhuǎn)動，當(dāng)所述輸送臂停止轉(zhuǎn)動時，將所述掩膜插入所述清洗部、所述沖洗部及所述干燥部內(nèi)。
此外，本發(fā)明旨在提供一通過采用上述旋涂裝置在其上進(jìn)行涂覆的盤件。
另外，為解決以上問題，依照本發(fā)明的另一方面，提供了一種通過至少利用旋涂在一盤件上形成一涂覆膜制作一盤形記錄介質(zhì)的方法，所述方法包括步驟將所述盤件放置在一可繞一特定軸轉(zhuǎn)動的旋涂器上；將所述掩膜從一具有一掩膜供給及接收位置和至少一個掩膜待用位置的掩膜臺轉(zhuǎn)送至所述盤件的基本中央部上；給所述盤件和所述掩膜中的至少一個的上表面供應(yīng)一涂覆材料，并轉(zhuǎn)動所述旋涂器以散布所述涂覆材料以形成所述涂覆膜；將所述掩膜移離所述盤件，并使所述掩膜返回至所述掩膜臺的所述掩膜供給及接收位置；以及固化所述盤件上的所述涂覆材料，
其中，從所述盤件移離并轉(zhuǎn)送至所述掩膜臺的所述掩膜經(jīng)由與所述掩膜臺一起轉(zhuǎn)動而移動至一位置，并且從所述位置起，相繼地執(zhí)行將所述掩膜插入至少一個用于除去附著在所述掩膜上的所述涂覆材料的清洗部內(nèi)、將所述掩膜插入一用于沖洗所述掩膜以除去附著在所述掩膜上的一清洗劑的沖洗部內(nèi)、以及將所述掩膜插入一用于干燥所述掩膜的干燥部內(nèi)的操作，將已經(jīng)過上述操作的所述掩膜相繼地放置在另一盤件上。


圖1是示意性示出構(gòu)成本發(fā)明一實施例所涉及的旋涂裝置的主要部分的掩膜清洗部等的構(gòu)造的俯視圖；圖2是示出圖1所示掩膜供給/移除部(55a)的構(gòu)造的示意性側(cè)視圖；圖3是示出圖1所示掩膜供給/移除部(55b)的構(gòu)造的示意性側(cè)視圖；圖4是示出圖1所示清洗部等的構(gòu)造的示意性側(cè)視圖；圖5是示出圖1所示干燥部等的構(gòu)造的示意性側(cè)視圖；以及圖6是示出在一常規(guī)旋涂裝置中如何使用掩膜的示例的截面圖，并示出設(shè)置在旋涂器上的盤和掩膜。
具體實施例方式
以下，將參照

本發(fā)明的一優(yōu)選實施例。圖1是示出本發(fā)明一實施例所涉及的一旋涂裝置的主要部件例如一旋涂器和一掩膜供給部的構(gòu)造的示意圖。一基片(未示出)固定在構(gòu)成一旋涂器機(jī)構(gòu)的一部分的一旋涂器40的中央部處，并轉(zhuǎn)動該基片及施加一涂覆材料。構(gòu)成一掩膜供給/移除機(jī)構(gòu)的一掩膜供給/移除部50包括一掩膜臺55、一掩膜移動臂51以及一臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)52。
掩膜臺55繞一軸A沿圖中箭頭D所示方向間歇轉(zhuǎn)動，使其在轉(zhuǎn)動與四個位置55a至55d相對應(yīng)的每個預(yù)定角度后停留預(yù)定時間。
圖2是示出從位置55c方向看時的掩膜移動臂51等的構(gòu)造的示意性側(cè)視圖。一具有一上凸起部56b的掩膜56放置在掩膜臺55的位置55a處。掩膜移動臂51由一設(shè)置在臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)52內(nèi)的氣缸57垂直驅(qū)動。一設(shè)置在掩膜移動臂51遠(yuǎn)端的夾盤機(jī)構(gòu)53與臂51一起通過氣缸57下降至一夾盤機(jī)構(gòu)53能夠夾住上凸起部56b的高度。此外，驅(qū)動氣體或其類似物從外部供應(yīng)給夾盤機(jī)構(gòu)53，以閉合夾盤從而夾緊上凸起部56b。之后，掩膜移動臂51與夾持掩膜56的夾盤機(jī)構(gòu)53一起上升至一預(yù)定高度，并利用臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)52驅(qū)動掩膜移動臂51直至掩膜56位于旋涂器40中心的正上方。在此位置，降下該掩膜移動臂等并解除夾盤機(jī)構(gòu)53對掩膜上凸起部56b的夾緊，從而完成將掩膜放置到基片上的操作。
在已經(jīng)使一些涂覆材料附著到掩膜56上后，通過使掩膜移動臂52及夾盤機(jī)構(gòu)53執(zhí)行一與上述放置掩膜56的操作相反的操作，將掩膜56移離基片(未示出)。此外，掩膜56通過該夾盤機(jī)構(gòu)等返回至掩膜臺55上的位置55a，并放置在掩膜臺55上。利用掩膜臺55繞軸A的間歇轉(zhuǎn)動，掩膜56被運(yùn)送至位置55b并停留在那里。從此位置將掩膜56運(yùn)送至圖1所示的一掩膜清洗部120。掩膜清洗部120構(gòu)成一掩膜清洗機(jī)構(gòu)。
掩膜清洗部120由每個都是一處理部的第一和第二清洗部121和122、一沖洗部123以及一干燥部124、一用于輸送掩膜至這些處理部以及至構(gòu)成一掩膜取出/供給部的位置55b的輸送臂125等組成。輸送臂125繞一作為其中心的軸B沿圖中箭頭C所示方向間歇轉(zhuǎn)動，使其在轉(zhuǎn)動分別對應(yīng)于各處理部和位置55b的每個預(yù)定角度(在此例中是60度)后停留預(yù)定時間。此外，在其停留預(yù)定時間的過程中，使輸送臂125下降一預(yù)定量、在下降位置停留固定時間、以及經(jīng)由一垂直驅(qū)動機(jī)構(gòu)(未示出)提升至其正常位置。此外，輸送臂125繞一軸B具有多個以上述預(yù)定角度間隔徑向設(shè)置的臂部125a至125f，同時一清洗部夾盤機(jī)構(gòu)126設(shè)在每個臂部的一遠(yuǎn)端。
圖3是示出清洗部夾盤機(jī)構(gòu)126夾持位于位置55b處的掩膜56的上凸起部56b的狀態(tài)的示意性側(cè)視圖。所采用的夾盤機(jī)構(gòu)126是那種通常處于夾緊狀態(tài)且其夾盤部適于經(jīng)由外部操作打開或閉合的夾盤機(jī)構(gòu)。在此實施例中，一氣缸用作外部操縱機(jī)構(gòu)，并且一可經(jīng)由一驅(qū)動機(jī)構(gòu)(未示出)垂直驅(qū)動的清洗部氣缸131設(shè)在位置55b的正上方。當(dāng)輸送臂125下降使得夾盤機(jī)構(gòu)126能夠夾緊存在于位置55b處的掩膜的上凸起部56b時，或者當(dāng)夾緊凸起部56b的夾盤機(jī)構(gòu)126下降以將該掩膜放置于位置55b時，清洗部氣缸131下降并與夾盤機(jī)構(gòu)126連接，從而使得夾盤機(jī)構(gòu)126執(zhí)行夾緊或釋放操作。
以下，將參照示意性示出第一和第二清洗部內(nèi)的掩膜清洗處理以及干燥部內(nèi)的掩膜干燥處理的圖3，圖4和圖5詳細(xì)說明清洗處理等工序。隨著輸送臂125上升，夾緊位置55b處的掩膜的夾盤機(jī)構(gòu)126上升至正常位置，且夾盤機(jī)構(gòu)126繞軸B轉(zhuǎn)動一預(yù)定角度以執(zhí)行停止、下降、停止一固定時間并上升，之后再轉(zhuǎn)動一預(yù)定角度。利用這種下降操作，將掩膜56插入每個處理部。盡管在此實施例中由于掩膜清洗部120的布置，涉及掩膜及夾盤機(jī)構(gòu)126的與實際清洗處理毫無關(guān)系的垂直運(yùn)動等，但也可經(jīng)由處理部的布置等使這些運(yùn)動有助于該清洗處理。
夾盤機(jī)構(gòu)126再轉(zhuǎn)動一預(yù)定角度，并停在第一清洗部121的上方。第一清洗部121具有一貯存一清洗劑121a的超聲波清洗容器。通過下降至停止位置，夾盤機(jī)構(gòu)126的夾緊掩膜的部分以及掩膜56浸在清洗劑121a中，對清洗劑121a施加一超聲波段的振動，從而進(jìn)行諸如溶解附著在該掩膜表面的涂覆材料之類的處理。當(dāng)在此狀態(tài)保持一固定時間之后，掩膜56隨著輸送臂125上升，并且然后轉(zhuǎn)動至一位于第二清洗部上方的位置并停在那里。
第二清洗部122具有一貯存一成分類似于清洗劑121a的清洗劑122a的超聲波清洗容器，且具有一種類似于第一清洗部121的基本構(gòu)造。通過利用清洗劑122a再次對掩膜56的表面執(zhí)行超聲波清洗，可徹底溶解并除去殘留在該表面上的涂覆材料。在第二清洗部122內(nèi)保持一固定時間之后，如同第一清洗部121的情況，從清洗容器內(nèi)取出掩膜56并浸入一設(shè)在該輸送臂的下一停止位置處的沖洗部123內(nèi)。
沖洗部123具有一貯存一沖洗劑123a的超聲波清洗容器，且具有一種類似于第一清洗部121的基本構(gòu)造。通過在沖洗劑123a中沖洗掩膜56，可除去殘留在該掩膜表面上的任何清洗劑122a等。因此，希望沖洗劑123a是一種與清洗劑121a等相容的材料；此外，希望采用一比清洗劑121a等更易蒸發(fā)的材料。掩膜56在沖洗部123的內(nèi)部保持一固定時間，然后從該清洗容器中取出，如同第一清洗部121的情況，之后輸送至一設(shè)在該輸送臂的下一停止位置處的干燥部124內(nèi)。
干燥部124包括一用于供應(yīng)一干燥氣體以吹掉附著在掩膜表面上的沖洗劑123a的噴管127，一用于防止被吹掉的沖洗劑123a四處散布的殼體128，一用于排出積蓄在殼體128內(nèi)的沖洗劑的排出管129，以及一用于排出在該殼體內(nèi)蒸發(fā)的沖洗劑123a的進(jìn)氣管128a。在干燥部124內(nèi)，通過(朝向掩膜56)吹送一經(jīng)由噴管127引入的干燥氣體例如高度清潔的干燥氮氣除去附著在掩膜56表面上的沖洗劑123a等，從而干燥處于清潔狀態(tài)的掩膜56表面。
在吹送該干燥氣體一固定時間之后，完成對掩膜56表面的干燥，按照與上述相同的工序從干燥部124中取出掩膜56，并經(jīng)由轉(zhuǎn)動將掩膜56輸送至位置55b。在完成干燥之后，該掩膜在位置55b處轉(zhuǎn)送到掩膜臺55上，并經(jīng)由位置55c和55d到達(dá)位置55a。利用臂移動機(jī)構(gòu)52驅(qū)使掩膜56與夾緊掩膜56的夾盤機(jī)構(gòu)53等一起從位置55a到達(dá)一位于旋涂器40中央正上方的位置，從而經(jīng)清洗和干燥的掩膜56能再次用于在一基片上形成薄膜。由此向前，重復(fù)執(zhí)行上述操作。
通過給該旋涂裝置附加上述掩膜清洗部120并在每次給基片施加涂覆材料后執(zhí)行掩膜清洗，可進(jìn)行旋涂而不用擔(dān)心損壞該掩膜。此外，由于這種單獨操縱及清洗該掩膜的結(jié)構(gòu)，可在進(jìn)行旋涂的同時執(zhí)行掩膜控制。由此，可采用最少必要數(shù)量的掩膜來進(jìn)行旋涂，這樣能夠減少要求一高精度處理工序及可靠控制的掩膜數(shù)量，并降低用于旋涂的操作成本等。
盡管在此實施例中掩膜臺停在四個位置處并且清洗部內(nèi)的輸送臂由六根構(gòu)成，但這不應(yīng)被認(rèn)為是限制性的；有利的是，考慮每個基片的必要處理時間等或者更有效的清洗工序可進(jìn)行適當(dāng)?shù)母淖?。即，?dāng)用于一個基片的涂覆時間較短時，可增加掩膜臺的停止位置的數(shù)量。此外，當(dāng)在清洗工序中需要更多溶劑或其類似物時，有利地，可增加輸送臂以及清洗部的數(shù)量。
此外，盡管在此實施例中清洗劑121a和122a具有相同成分，但根據(jù)清洗條件等它們也可具有不同成分。有關(guān)清洗部，超聲波清洗不是必不可少的，而是可以省略的。相反，還可在不同時間點給同一清洗部施加不同頻率的超聲波振動，或者單獨給采用相同清洗劑的不同清洗部施加這種振動等。此外，用于溶解該涂覆材料的溶劑不限于一清洗劑；可采用各種溶劑，例如有機(jī)溶劑、無機(jī)溶劑、酸或堿。
此外，盡管在此實施例中沒有具體敘述該清洗劑等的溫度，但理想的是維持該清洗劑等的溫度在一固定水平。此外，考慮到處理時間等，還可維持清洗劑等處于一不高于其熔點的預(yù)定恒溫。在這種情況中，理想的是給該超聲波容器或其類似物額外配置一允許進(jìn)行溫度調(diào)節(jié)的加熱器、一用于防止經(jīng)蒸發(fā)的清洗劑擴(kuò)散的殼體、一進(jìn)氣管等。
此外，盡管在此實施例中所采用的夾盤機(jī)構(gòu)是一外部操縱式夾盤機(jī)構(gòu)，但也可采用一些其它類型的夾盤機(jī)構(gòu)，只要其具有一更簡便結(jié)構(gòu)；此外，驅(qū)動機(jī)構(gòu)并不限于如在此實施例中采用的一氣缸或其類似物。對于臂移動機(jī)構(gòu)沒有具體敘述，因為其可以采用各種類型的機(jī)構(gòu)；但從停止準(zhǔn)確性及便利性的觀點來看，理想的是采取一種由一滾珠絲杠或其類似物形成的臂移動機(jī)構(gòu)。
本發(fā)明的上述掩膜清洗部被設(shè)計為附加給一主要部件是旋涂器40的旋涂裝置。因此，對于其將要附加的旋涂裝置的類型等沒有特定限制；本發(fā)明的掩膜清洗部可附加給各種旋涂裝置，只要其可以確保一允許附加該掩膜清洗部的空間。
依照本發(fā)明，上述掩膜清洗部120附加給一旋涂裝置，且在每次給一基片施加涂覆材料之后就執(zhí)行掩膜清洗，從而可進(jìn)行旋涂而不用擔(dān)心損壞該掩膜。此外，由于這種在單獨處理掩膜的同時執(zhí)行清洗的構(gòu)造，可以在進(jìn)行旋涂的同時實現(xiàn)掩膜控制。由此，可以一最少必要數(shù)量的掩膜進(jìn)行旋涂。這意味著可以減少要求一高精度處理工序及可靠控制的掩膜數(shù)量，從而還可降低用于旋涂的操作成本等。
權(quán)利要求
1.一種用于通過給一盤件的靠近中央的部分供應(yīng)一液態(tài)材料并轉(zhuǎn)動所述盤件以利用一離心力散布所述液態(tài)材料而在所述盤件上形成所述液態(tài)材料的膜的旋涂裝置，所述旋涂裝置包括適于在轉(zhuǎn)動的同時夾持所述盤件的一旋涂器機(jī)構(gòu)；一掩膜供給/移除機(jī)構(gòu)，當(dāng)所述盤件在所述旋涂器機(jī)構(gòu)內(nèi)轉(zhuǎn)動時，所述掩膜供給/移除機(jī)構(gòu)給所述盤件供應(yīng)一覆蓋所述盤件中心及環(huán)繞所述中心的一部分的掩膜，并且在所述盤件已經(jīng)完成轉(zhuǎn)動后，所述掩膜供給/移除機(jī)構(gòu)將所述掩膜移離所述盤件；一分配器機(jī)構(gòu)，當(dāng)所述盤件和所述掩膜在所述旋涂器機(jī)構(gòu)內(nèi)保持并轉(zhuǎn)動時，所述分配器機(jī)構(gòu)給所述盤件與所述掩膜中的至少一個的上表面供應(yīng)所述液態(tài)材料；以及一清洗機(jī)構(gòu)，所述清洗機(jī)構(gòu)從所述掩膜供給/移除機(jī)構(gòu)接收一其上附著有所述液態(tài)材料的掩膜，清洗經(jīng)接收的所述掩膜以除去附著在其上的所述液態(tài)材料，以及將經(jīng)清洗的所述掩膜轉(zhuǎn)送到所述掩膜供給/移除機(jī)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋涂裝置，其特征在于，所述掩膜供給/移除機(jī)構(gòu)包括一具有一用于夾緊及釋放所述掩膜的夾盤機(jī)構(gòu)的掩膜供給臂，以及一適于在其自身與所述掩膜供給臂之間輸送所述掩膜并以預(yù)定角間隔間歇轉(zhuǎn)動的掩膜臺。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋涂裝置，其特征在于，所述清洗機(jī)構(gòu)包括至少一個用清洗劑清洗所述掩膜的清洗部，一用于沖洗所述掩膜以除去附著在所述掩膜上的所述清洗劑的沖洗部，一用于在沖洗之后干燥所述掩膜的干燥部，以及一夾緊所述掩膜并將其插入所述清洗部、所述沖洗部及所述干燥部內(nèi)的輸送臂。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的旋涂裝置，其特征在于，所述清洗部、所述沖洗部及所述干燥部以預(yù)定角間隔基本設(shè)在一具有預(yù)定直徑的圓周內(nèi)，并且所述輸送臂繞所述圓周的一中心以所述預(yù)定角間隔間歇轉(zhuǎn)動，當(dāng)所述輸送臂停止轉(zhuǎn)動時，將所述掩膜插入所述清洗部、所述沖洗部及所述干燥部內(nèi)。
5.一種利用如權(quán)利要求1至4之一所述的旋涂裝置在其上進(jìn)行涂覆的盤件。
6.一種通過至少利用旋涂在一盤件上形成一涂覆膜制作一盤形記錄介質(zhì)的方法，所述方法包括步驟將所述盤件放置在一可繞一特定軸轉(zhuǎn)動的旋涂器上；將所述掩膜從一具有一掩膜供給及接收位置和至少一個掩膜待用位置的掩膜臺轉(zhuǎn)送至所述盤件的基本中央部上；給所述盤件和所述掩膜中的至少一個的上表面供應(yīng)一涂覆材料，并轉(zhuǎn)動所述旋涂器以散布所述涂覆材料以形成所述涂覆膜；將所述掩膜移離所述盤件，并使所述掩膜返回至所述掩膜臺的所述掩膜供給及接收位置；以及固化所述盤件上的所述涂覆材料，其中，從所述盤件移離并轉(zhuǎn)送至所述掩膜臺的所述掩膜經(jīng)由與所述掩膜臺一起轉(zhuǎn)動而移動至一位置，并且從所述位置起，相繼地執(zhí)行將所述掩膜插入至少一個用于除去附著在所述掩膜上的所述涂覆材料的清洗部內(nèi)、將所述掩膜插入一用于沖洗所述掩膜以除去附著在所述掩膜上的一清洗劑的沖洗部內(nèi)、以及將所述掩膜插入一用于干燥所述掩膜的干燥部內(nèi)的操作，將已經(jīng)過上述操作的所述掩膜相繼地放置在另一盤件上。
全文摘要
本發(fā)明涉及制作盤形記錄介質(zhì)的旋涂裝置和方法。所述旋涂裝置可防止對一盤進(jìn)行旋涂時采用的一掩膜受到損壞。更具體地說，所述裝置結(jié)構(gòu)如下。首先，將一掩膜放置到一位于一旋涂器上的盤件上，然后進(jìn)行旋涂。緊接之后，連續(xù)地對移離該盤件的單個掩膜進(jìn)行清洗、沖洗及干燥處理，這些處理之后的掩膜相繼發(fā)送給下一旋涂操作。
文檔編號B05D1/00GK1669081SQ0381631
公開日2005年9月14日 申請日期2003年7月9日 優(yōu)先權(quán)日2002年7月10日
發(fā)明者山口晴彥, 淀川吉見, 宇佐美守, 丑田智樹, 出澤圣一 申請人:Tdk株式會社