專利名稱：用于制造光學(xué)薄膜的組合物及光學(xué)薄膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及組合物及光學(xué)薄膜。
背景技術(shù)：
平板顯示裝置(FPD)中使用著含有偏光板及相位差薄膜等光學(xué)薄膜的構(gòu)件。作為光學(xué)薄膜，已知通過將含有聚合性液晶化合物、光致聚合引發(fā)劑及溶劑的組合物涂布在基材上制造而成的光學(xué)薄膜。例如，專利文獻(xiàn)I中，記載著在實(shí)施了取向處理的基材上涂布組合物得到涂布膜，使涂布膜中包含的聚合性液晶化合物取向之后，通過使聚合性液晶化合物聚合而形成的光學(xué)薄膜。[現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)][專利文獻(xiàn)][專利文獻(xiàn)I]日本專利特開2007-148098號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
解決問題的手段本發(fā)明包括以下的發(fā)明。 [I] 一種含有以下的(A)、(B)及(C)的組合物。(A)聚合性液晶化合物(B)分子內(nèi)具有碳-碳不飽和鍵和活性氫反應(yīng)性基團(tuán)的化合物(C)光致聚合引發(fā)劑[2]根據(jù)[I]記載的組合物，(B)是具有作為活性氫反應(yīng)性基團(tuán)的異氰酸基的化合物。[3]根據(jù)[I]記載的組合物，(B)是下述式(X)所表示的化合物，
權(quán)利要求
1.一種含有以下的(A)、(B)及(C)的組合物， (A)聚合性液晶化合物 (B)分子內(nèi)具有碳-碳不飽和鍵和活性氫反應(yīng)性基團(tuán)的化合物 (C)光致聚合引發(fā)劑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1記載的組合物，其中，(B)是具有異氰酸基作為活性氫反應(yīng)性基團(tuán)的化合物。
3.根據(jù)權(quán)利要求1記載的組合物，其中，(B)是下述式(X)所表示的化合物，
4.根據(jù)權(quán)利要求1 3的任意一項(xiàng)記載的組合物，其中，(A)是式(A)所表示的化合物，
5.根據(jù)權(quán)利要求4記載的組合物，其中，(A)是式(A)的L1為式(Al)所表示的基團(tuán)且L2為式(A2)所表示的基團(tuán)時(shí)的化合物， P1-F1- (B1-A1)k-E1-(Al) P2-F2- (B2-A2)1-E2-(A2) 式(Al)及式(A2)中，B1 >B2>E1 及 E2 分別獨(dú)立地表不-CR4R5->-CHg-CH2->_0_>_S_>-CO-O->-O-CO-O->-CS-O->_0_CS_0_> -CO-NR1 -O-CH2-> -S-CH2-或單鍵， A1及A2分別獨(dú)立地表示碳原子數(shù)5 8的2價(jià)脂環(huán)式烴基或碳原子數(shù)6 18的2價(jià)芳烴基，構(gòu)成所述脂環(huán)式烴基的亞甲基被氧原子、硫原子或-NH-取代或不被取代，構(gòu)成所述脂環(huán)式烴基的次甲基被叔氮原子取代或不被取代， k及I分別獨(dú)立地表示O 3的整數(shù)，k是2以上的整數(shù)時(shí)，多個(gè)B1互相相同或不同，多個(gè)A1互相相同或不同，I是2以上的整數(shù)時(shí)，多個(gè)B2互相相同或不同，多個(gè)A2互相相同或不同， F1及F2表示碳原子數(shù)I 12的2價(jià)脂肪族烴基， P1表示聚合性基團(tuán)， P2表示氫原子或聚合性基團(tuán)， R1、R4及R5表示與上述相同的意思。
6.一種光學(xué)薄膜， 其由權(quán)利要求1 5的任意一項(xiàng)記載的組合物中包含的聚合性液晶化合物聚合形成。
7.一種光學(xué)薄膜的制造方法，包括以下的(I)及(2)， (1)將權(quán)利要求1 5的任意一項(xiàng)記載的組合物涂布在基材上的工序； (2)通過使由(I)得到的涂布在基材上的涂布膜中包含的聚合性液晶化合物聚合而形成光學(xué)薄膜的工序。
8.根據(jù)權(quán)利要求7記載的光學(xué)薄膜的制造方法，其中，基材由具有羥基的材料構(gòu)成。
9.根據(jù)權(quán)利要求8記載的光學(xué)薄膜的制造方法，其中，具有羥基的材料是將三乙酰纖維素皂化得到的材料。
10.根據(jù)權(quán)利要求7 9的任意一項(xiàng)記載的光學(xué)薄膜的制造方法,其中,基材的表面上設(shè)置有由光取向性聚合物形成的取向膜。
11.根據(jù)權(quán)利要求10記載的光學(xué)薄膜的制造方法，其中，取向膜是通過光取向性聚合物經(jīng)光照射形成了交聯(lián)結(jié)構(gòu)而設(shè)置的。
12.一種光學(xué)薄膜，其通過權(quán)利要求7 11的任意一項(xiàng)記載的制造方法制得。
13.根據(jù)權(quán)利要求6或12記載的光學(xué)薄膜,其具有相位差性。
14.一種偏光板,其含有權(quán)利要求6、12或13記載的光學(xué)薄膜。
15.一種平板顯示裝置，其具備權(quán)利要求6、12或13記載的光學(xué)薄膜。
16.一種組合物，其含有以下的(D)及(B)， (D)光取向性聚合物 (B)分子內(nèi)具有碳-碳不飽和鍵和活性氫反應(yīng)性基團(tuán)的化合物。
17.根據(jù)權(quán)利要求16記載的組合物，其中，(D)是通過光照射能夠形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)的光取向性聚合物。
18.根據(jù)權(quán)利要求16或17記載的組合物，其中，(B)是具有異氰酸基作為活性氫反應(yīng)性基團(tuán)的化合物。
19.根據(jù)權(quán)利要求16或17記載的組合物，其中，(B)是下述式(X)所表示的化合物，
20.一種光學(xué)薄膜，其由權(quán)利要求16 19的任意一項(xiàng)記載的組合物中包含的光取向性聚合物交聯(lián)形成。
21.一種光學(xué)薄膜的制造方法，包括以下(I)及(2)， (I)將權(quán)利要求16 19的任意一項(xiàng)記載的組合物涂布在基材上的工序； (2 )通過使由(I)得到的涂布在基材上的涂布膜中包含的光取向性聚合物交聯(lián)而形成光學(xué)薄膜的工序。
22.根據(jù)權(quán)利要求21記載的光學(xué)薄膜的制造方法，其中，基材由具有羥基的材料構(gòu)成。
23.根據(jù)權(quán)利要求22記載的光學(xué)薄膜的制造方法，其中，具有羥基的材料是三乙酰纖維素皂化得到的材料。
24.一種光學(xué)薄膜，其由權(quán)利要求21 23的任意一項(xiàng)記載的制造方法制得。
25.—種相位差板,其是在權(quán)利要求20或24記載的光學(xué)薄膜上進(jìn)一步形成光學(xué)各向異性層而成。
26.—種偏光板,其含有權(quán)利要求20或24記載的光學(xué)薄膜。
27.一種平板顯示裝置，其具備權(quán)利要求20或24記載的光學(xué)薄膜。
28.一種光學(xué)薄膜，其按照基材、由組合物(A)形成的A層及由組合物(B)形成的B層的順序積層而成，其中， 組合物(A)含有以下的(D)及(B-1)，組合物(B)含有以下的(A)、(B-2)及(C)， (D)光取向性聚合物 (B-1)具有碳-碳不飽和鍵和活性氫反應(yīng)性基團(tuán)的化合物 (A)聚合性液晶化合物 (B-2)具有碳-碳不飽和鍵和活性氫反應(yīng)性基團(tuán)的化合物 (C)光致聚合引發(fā)劑。
29.根據(jù)權(quán)利要求28記載的光學(xué)薄膜，其中，(D)是通過光照射能夠形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)的光取向性聚合物。
30.根據(jù)權(quán)利要求28或29記載的光學(xué)薄膜，其中，(B-1)及(B-2)皆是具有作為活性氫反應(yīng)性基團(tuán)的異氰酸基的化合物。
31.根據(jù)權(quán)利要求28或29記載的光學(xué)薄膜，其中，(B-1)及(B-2)分別獨(dú)立地為下述式(X)所表示的化合物，
32.根據(jù)權(quán)利要求28 31的任意一項(xiàng)記載的光學(xué)薄膜，其中，A層是由組合物(A)中含有的(D)交聯(lián)形成的層。
33.根據(jù)權(quán)利要求28 32的任意一項(xiàng)記載的光學(xué)薄膜，其中，基材由具有羥基的材料構(gòu)成。
34.根據(jù)權(quán)利要求33記載的光學(xué)薄膜，其中，具有羥基的材料是由三乙酰纖維素皂化得到的材料。
35.根據(jù)權(quán)利要求28 34的任意一項(xiàng)記載的光學(xué)薄膜，其具有相位差性。
36.一種光學(xué)薄膜的制造方法，其包括以下〈1> 〈4>的工序， 〈1>通過在基材上涂布含有以下的(D)及(B-1)的組合物(A)，在基材上形成第I涂布膜的工序； (D)光取向性聚合物 (B-1)具有碳-碳不飽和鍵和活性氫反應(yīng)性基團(tuán)的化合物 <2>通過使由〈1>得到的涂布在基材上的第I涂布膜中包含的(D)交聯(lián)，將第I涂布膜轉(zhuǎn)變?yōu)锳層的工序； <3>通過在由〈2>形成的A層上涂布含有以下的(A)、(B-2)及(C)的組合物(B)，在A層上形成第2涂布膜的工序； (A)聚合性液晶化合物 (B-2)具有碳-碳不飽和鍵和活性氫反應(yīng)性基團(tuán)的化合物 (C)光致聚合引發(fā)劑 <4>使由〈3>形成的第2涂布膜中包含的聚合性液晶化合物聚合的工序。
37.一種光學(xué)薄膜，其由權(quán)利要求36記載的制造方法制得。
38.一種偏光板,其含有權(quán)利要求28 35的任意一項(xiàng)或權(quán)利要求37記載的光學(xué)薄膜。
39.一種平板顯示裝置，其具備權(quán)利要求28 35的任意一項(xiàng)或權(quán)利要求37記載的光學(xué)薄膜。
全文摘要
本發(fā)明的課題是提供在基材或偏光膜與光學(xué)薄膜之間顯示優(yōu)異的緊貼性的光學(xué)薄膜制造用組合物、以及由該組合物制造的光學(xué)薄膜。解決手段是提供含有以下的(A)、(B)及(C)的組合物以及由該組合物形成的光學(xué)薄膜。(A)聚合性液晶化合物(B)分子內(nèi)具有碳-碳不飽和鍵和活性氫反應(yīng)性基團(tuán)的化合物(C)光致聚合引發(fā)劑優(yōu)選所述(B)為具有異氰酸基作為活性氫反應(yīng)性基團(tuán)的化合物。
文檔編號(hào)C08F267/06GK103214620SQ20131002209
公開日2013年7月24日 申請日期2013年1月21日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月23日
發(fā)明者小林忠弘 申請人:住友化學(xué)株式會(huì)社