專利名稱：抗反射薄膜、偏振片及其制備方法、液晶顯示元件、液晶顯示裝置和圖象顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種抗反射薄膜，一種含有該抗反射薄膜的偏振片，和它們的制備方法。本 發(fā)明還涉及一種液晶顯示元件和一種圖象顯示裝置例如液晶顯示裝置。
背景技術(shù)：
一般說(shuō)來(lái)，將抗反射薄膜置于圖象顯示裝置如陰極射線管顯示裝置(CRT)、等離子 體顯示板(PDP)、電致發(fā)光顯示裝置(ELD)和液晶顯示裝置(LCD)的最外面。這是為了防止 外界光在顯示器上的反射所導(dǎo)致的對(duì)比度降低或圖象反射，通常，因光在表面凸出部分的 散射或者多層薄膜的光干涉而致使其具有降低反射率的功能。通常，抗反射薄膜是通過(guò)在透明支持體上形成具有適宜厚度和比透明支持體的折 射率低的折射率的低折射率層的膜制得的。為了實(shí)現(xiàn)低折射率層的低折射率，要求制備低 折射率層的材料具有盡可能低的折射率。由于抗反射薄膜置于顯示器的最外面，因此要求 抗反射薄膜具有高的耐擦傷性。為了實(shí)現(xiàn)厚度為IOOnm左右的薄膜的高耐擦傷性，這些薄 膜必須具有高的機(jī)械強(qiáng)度并且必須能夠與下層粘合。為了提高抗反射性，由多層薄膜形成的抗反射薄膜的抗反射層通常具有主要由高 折射率層和低折射率層組成的層結(jié)構(gòu)。為了達(dá)到有效的抗反射，據(jù)有關(guān)文獻(xiàn)講，在高折射率 層和低折射率層之間的折射率之差必須在特定范圍內(nèi)(參見(jiàn)，例如，JP-A-59-50401)。為 此，有人研究了各種方法。MgF2和二氧化硅用作低折射率層的低折射率材料(參見(jiàn)，例如， JP-A-2-245702)；使用含氟化合物(參見(jiàn)，例如，JP-A-2003-121606)；或者將兩種或多種無(wú) 機(jī)顆粒堆積形成微孔(參見(jiàn)，例如，JP-A-11-6902)。然而，事實(shí)上所有這些方法都存在問(wèn) 題，因?yàn)檫@些材料難以獲得并且不穩(wěn)定，它們的薄膜不硬，不耐污漬，并且迄今還不能獲得 足夠令人滿意的低折射率材料。為了在一定程度上增加薄膜的機(jī)械強(qiáng)度以增強(qiáng)它們的耐擦傷性，在 JP-A-2002-265866和JP-A-2002-317152中提出了使用氟溶膠-凝膠薄膜的方法。然而， 這樣明顯的限制在于(1)固化薄膜需要長(zhǎng)時(shí)間加熱，并且因此帶來(lái)很大的生產(chǎn)負(fù)荷，和(2) 薄膜不耐皂化溶液(堿處理液)，并且在其上形成抗反射薄膜之后透明塑料薄膜基底的表 面皂化不能進(jìn)行。此外，薄膜不能耐污漬，這不能讓人滿意。為了同時(shí)滿足低折射率、良好 耐擦傷性和良好耐污漬性，需要折射率低、機(jī)械強(qiáng)度高以及表面上幾乎不被污染的低表面 自由能化合物。然而，大多數(shù)這些化合物經(jīng)常處于消長(zhǎng)關(guān)系，或者即，當(dāng)改善這些要求之一 時(shí)，另一個(gè)將受損。因此，難以同時(shí)滿足降低折射率以及提供耐擦傷性和耐污漬性的所有要 求。就所需的折射率降低而言，JP-A 7-287102公開(kāi)了一種增加硬涂層的折射率從而降低抗反射薄膜的折射率的工藝。然而，由于該硬涂層與支持體之間的折射率差值大，因此 該高折射率硬涂層給薄膜帶來(lái)色斑，而且薄膜的折射率的波長(zhǎng)依賴性增加很多。另一方面，在JP-A-11-189621、JP-A-11-228631 和 JP-A-2000-313709 中，提出了 一種提高薄膜的耐擦傷性的方法，通過(guò)將聚硅氧烷結(jié)構(gòu)加入到含氟聚合物中來(lái)降低薄膜表 面的摩擦系數(shù)。該方法在一定程度上可以有效地提高薄膜的耐擦傷性，但是由于通過(guò)本方 法并不能改善基本上沒(méi)有高強(qiáng)度和高界面粘合性的薄膜，使其具有足夠的耐擦傷性，因此 仍然不令人滿意。JP-2003-292831公開(kāi)了一種低折射率涂布劑和一種抗反射薄膜。其中，該試劑包 括至少一種含有在分子中帶(甲基)丙烯?；趸幕衔锏幕钚阅苌渚€可固化樹(shù)脂、和 平均粒徑為0. 5-200nm的中空顆粒。然而，這也存在問(wèn)題，當(dāng)這種薄膜系統(tǒng)在氧濃度接近空 氣中的氧濃度(氧濃度約20體積％ )的環(huán)境中固化時(shí)，薄膜中的反應(yīng)基團(tuán)因固化失敗而 不能充分反應(yīng)，因此固化薄膜的耐擦傷性不好。此外，由于JP-2003-292831中的低折射率 層未經(jīng)耐污漬加工，因此仍然存在以下問(wèn)題污點(diǎn)例如指印或水印會(huì)容易粘附在薄膜上并 且粘附在薄膜上的臟物難以擦掉。目前，特別是應(yīng)用于例如電視和監(jiān)視器的時(shí)候，需要具有 良好的耐擦傷性和良好的耐污漬性。在JP-A-7-133105和JP-A-2001-233611中，提出中空二氧化硅顆粒作為低折射率 材料。這些中空二氧化硅顆粒作為低折射率材料是優(yōu)異的，但是已發(fā)現(xiàn)，當(dāng)用于抗反射薄膜 的低折射率層時(shí)，這些中空二氧化硅顆粒的粘合性差，并且它們使顯示器的最外層薄膜的 商業(yè)價(jià)值降低，因此它們的用量必需受到限制。JP-A-7-333404描述了一種具有良好氣體屏蔽性、防眩光性和抗反射性的防眩光 抗反射薄膜。然而，由于它需要氧化聚硅氧烷薄膜以CVD模式形成，因此與濕涂薄膜相比其 可生產(chǎn)性低。本領(lǐng)域目前的趨勢(shì)是圖象顯示裝置(例如，IXD、PDP、CRT)大面板化，特別是朝著 其中安裝有防眩光抗反射薄膜的液晶顯示裝置發(fā)展。為了保護(hù)這種昂貴的大面板圖象顯示 裝置，需要進(jìn)一步提高圖象顯示裝置的防眩光薄膜和抗反射薄膜的保護(hù)薄膜。具體地說(shuō)， 要求薄膜具有更好的可見(jiàn)度(在顯示圖象中既沒(méi)有眩光也沒(méi)有外界光反射，具有高的圖象 清晰度和透明度)，顯示板不被其上粘附的指印或灰塵弄臟，并且它們高度耐擦傷。在液晶 顯示裝置(IXD)中，偏振片是一種必不可少的光學(xué)材料。該偏振片通常包括由兩個(gè)保護(hù)薄 膜保護(hù)的偏振薄片。為了減少液晶顯示裝置的構(gòu)成元件的數(shù)量，并降低其成本從而增加其 可生產(chǎn)性，需要使偏振片的保護(hù)薄膜具有抗反射功能，從而使所得偏振片具有更好的耐候 性、物理保護(hù)和抗反射性。這樣尤其實(shí)現(xiàn)了可生產(chǎn)性提高、成本降低和設(shè)備的厚度降低。作為偏振薄片的材料，主要使用聚乙烯醇(本說(shuō)明書(shū)后面稱之為PVA)。簡(jiǎn)言之，然 后PVA薄膜經(jīng)單軸拉伸，用碘和二色性染料著色，或者首先進(jìn)行染色然后拉伸，這樣與可固 化化合物交聯(lián)形成偏振薄片。一般說(shuō)來(lái)，該偏振薄片是在長(zhǎng)膜的加工方向(軸向)拉伸的 (沿軸向拉伸)，因此偏振薄片的吸收軸與軸向接近平行。保護(hù)薄膜是一種雙折射小的光學(xué)透明薄膜，它主要使用三乙酸纖維素。迄今，保 護(hù)薄膜與偏振薄片以這種方式粘連，從而使保護(hù)薄膜的慢軸可以與偏振薄片的透射軸垂直 (或者即，使保護(hù)薄膜的慢軸可以與偏振薄片的吸收軸平行)。抗反射處理是通過(guò)使用抗 反射薄膜實(shí)現(xiàn)的，該抗反射薄膜是具有不同折射率的不同材料的多層薄膜所形成的多層產(chǎn)物，并且抗反射薄膜經(jīng)過(guò)設(shè)計(jì)使其在一定的可見(jiàn)光范圍內(nèi)反射。然而，在該抗反射薄膜中， 多層產(chǎn)物的構(gòu)成層的厚度在每一層中恒定，因此，原則上，該抗反射薄膜在可見(jiàn)光的整個(gè)區(qū) 域不能完全實(shí)現(xiàn)其抗反射功能。因此，一般說(shuō)來(lái)，抗反射薄膜經(jīng)過(guò)設(shè)計(jì)，使得其對(duì)約550nm的高可見(jiàn)度光的抗反射 得到強(qiáng)化并且其抗反射可以覆蓋盡可能寬的波長(zhǎng)范圍。因?yàn)樵O(shè)計(jì)該薄膜的目的不同，目前 該薄膜的抗反射效果在除特定波長(zhǎng)范圍之外的范圍內(nèi)不足，并且該薄膜在可見(jiàn)光的一部分 短波長(zhǎng)區(qū)和一部分長(zhǎng)波長(zhǎng)區(qū)的反射率比在可見(jiàn)光區(qū)的其它波長(zhǎng)區(qū)要大。結(jié)果，存在的問(wèn)題 是反射光呈現(xiàn)特定色調(diào)并且使圖像顯示設(shè)備的顯示質(zhì)量下降。與其相反，已有人進(jìn)行了不同研究，對(duì)將偏振片和抗反射薄膜集成構(gòu)成一個(gè)集 成化的粘連產(chǎn)物以增加顯示圖象的質(zhì)量。具體公開(kāi)了一種含抗反射薄膜的偏振片，在 380-700nm的范圍內(nèi)它具有最大3. 5%的反射率(參見(jiàn)，例如，JP-A-2003-270441)。在反射型或半透射反射型液晶顯示裝置中，所用背面光在440nm、550nm和610nm 的三個(gè)波長(zhǎng)下通常具有明線峰。因此，重要的一點(diǎn)是在提高設(shè)備的顏色復(fù)現(xiàn)性方面，使 在這三個(gè)波長(zhǎng)下的透光率相同。提出了一種含有抗反射薄膜的偏振片，其中特別的規(guī)定 了在波長(zhǎng)440nm、550nm和6IOnm下的平行透光率和交叉透光率(JP-A-2002-22952和 JP-A-2003-344656)。另一方面，為了提高圖像顯示設(shè)備的顯示質(zhì)量，除了偏振片之外，在液晶面板的最 外面采用各種光學(xué)層。例如，使用延遲板(包括λ板例如1/2波長(zhǎng)板和1/4波長(zhǎng)板)、光學(xué) 補(bǔ)償薄膜和亮度改進(jìn)薄膜。具體地說(shuō)，實(shí)際使用通過(guò)將延遲板疊加在包含偏振薄片和保護(hù) 層的偏振片上構(gòu)成的橢圓形偏振片或圓形偏振片；通過(guò)將光學(xué)補(bǔ)償薄膜疊加在包含偏振薄 片和保護(hù)層的偏振片上構(gòu)成的偏振片；和通過(guò)將亮度改進(jìn)薄膜疊加在包括偏振薄片和保護(hù) 層的偏振片上構(gòu)成的偏振片。通常在液晶單元的背面(低端)采用通過(guò)將亮度改進(jìn)薄膜疊加在包括偏振薄片和 保護(hù)層的偏振片上所構(gòu)成的偏振片，起增加LCD的圖象顯示板的亮度的作用(參見(jiàn)，例如， "2003' s Views and Strategies inHigh-Function Film Market",p. 91(2003),by Yano Keizai Kenkyu-jo)。另一方面，對(duì)偏振片的可見(jiàn)端保護(hù)薄膜提出了一種防眩光和/或反射降低處理薄 膜，該偏振片安裝在液晶單元的可見(jiàn)端(上端)(參見(jiàn)，例如，JP-A-2003-149634)。

發(fā)明內(nèi)容
如上所述，目前沒(méi)有提出一種抗反射薄膜，它滿足良好的抗反射性能、良好的耐擦 傷性和良好的耐污漬性的所有要求，而且還滿足高的可生產(chǎn)性。 因此，本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種抗反射薄膜，它滿足良好的抗反射性能、良好 的耐擦傷性和良好的耐污漬性的所有要求，而且還滿足高的可生產(chǎn)性，并且可以操作簡(jiǎn)單 成本低廉地生產(chǎn)。本發(fā)明的另一目的是提供一種配備有具有上述性能的抗反射薄膜的偏振片，并提 供一種配備有該偏振片的液晶顯示裝置。本發(fā)明的再一目的是提供一種液晶顯示裝置，它包括具有上述優(yōu)異性能的抗反射薄膜。
本發(fā)明的再一目的是提供一種抗反射薄膜，它起顯示裝置的保護(hù)薄膜的作用，并 且該薄膜的優(yōu)點(diǎn)在于它防止顯示圖象上的眩光和外界光反射，具有高耐擦傷性、粘附在其 上的灰塵少，并且沒(méi)有粘合失敗。本發(fā)明的再一目的是提供一種圖象顯示裝置，其優(yōu)點(diǎn)在于顯示圖象上沒(méi)有眩光和 外界光反射，并且該設(shè)備具有良好耐擦傷性并且沒(méi)有粘合失敗。由于具有薄、重量輕和省電的優(yōu)點(diǎn)，因此LCDs廣泛地用作目前高水平信息和通訊 時(shí)期必不可少的平板顯示器。特別是，對(duì)于能夠表達(dá)高清晰彩色圖象的大面板或移動(dòng)監(jiān)視 器或電視的開(kāi)發(fā)是顯著的。高清晰彩色圖象顯示需要進(jìn)一步中和顯示圖象的色調(diào)。這些大 尺寸顯示圖象還需要整個(gè)面板均勻。具體地說(shuō)，在15英寸或更大的液晶監(jiān)視器中，希望解 決因偏振薄片隨時(shí)間收縮引起的從監(jiān)視器周圍的漏光問(wèn)題(框架破壞)。另一方面，從降低偏振片元件重量和降低其成本的角度，更希望降低偏振薄片的 厚度。然而，已發(fā)現(xiàn)，當(dāng)偏振薄片變薄時(shí)，在正交尼科耳下可見(jiàn)光的短波端和長(zhǎng)波端上的漏 光增加，因此薄膜的色調(diào)從中性灰色偏移。因此，本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種偏振片，其面內(nèi)色調(diào)均勻并且為中性，具有良 好耐久性并且在其上沒(méi)有外界光反射。本發(fā)明的另一目的是提供一種偏振片，即使其上的偏振薄片很薄，在正交尼科耳 下可見(jiàn)光的短波端和長(zhǎng)波端上也可防止漏光，并且可以具有良好色調(diào)，具有良好耐久性并 且在其上沒(méi)有外界光反射。本發(fā)明的再一目的是提供一種偏振片，它具有由斜向拉伸的聚合物薄膜形成的偏 振薄片，其中該薄膜是根據(jù)斜向拉伸法制得的并且在沖切步驟中有效地提高偏振片的產(chǎn) 率。該偏振片質(zhì)量?jī)?yōu)良，成本低廉。本發(fā)明的再一目的是提供一種耐久性良好和圖象質(zhì)量高的圖象顯示裝置，其中含 有提供有在其偏振薄片的一端形成的抗反射薄膜的偏振片。要求液晶顯示裝置具有寬視角和高速響應(yīng)，還要求其具有顯示明亮的和高清晰的 全色圖象的能力。具體地說(shuō)，在20英寸或更大的大面板顯示裝置中，迫切需要沒(méi)有不勻亮 度(或發(fā)光度)的明亮且清晰的圖象。而且，還希望增加用于這些顯示裝置的偏振片的耐 久性并降低其成本。具體地說(shuō)，迫切需要提供液晶顯示元件，要求它具有良好的光學(xué)性能并具有良好 的耐久性，可用于上述各種液晶顯示裝置中。另一方面，隨著對(duì)上面的大尺寸或移動(dòng)顯示面板的開(kāi)發(fā)，進(jìn)一步需要薄且重量輕 的液晶顯示裝置。常規(guī)液晶顯示裝置不能滿足目前所需的所有這些要求，因此需要開(kāi)發(fā)一種滿足所 有這些要求的液晶顯示裝置。因此，本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種液晶顯示元件，在其上沒(méi)有外界光反射并且 即使組裝在大尺寸液晶顯示裝置中也沒(méi)有眩光，能夠明亮且清晰地顯示圖象，并且具有良 好耐久性。本發(fā)明的另一目的是提供一種液晶顯示元件，它具有良好的耐久性并且薄且重量 輕。本發(fā)明的再一目的是提供一種液晶顯示裝置，它具有在其偏振薄片一端形成的亮度改進(jìn)薄膜的偏振片，和在其偏振薄片的一端形成的抗反射薄膜的偏振片，并且具有良好 的耐久性和良好的顯示質(zhì)量。根據(jù)本發(fā)明，提供了一種具有下述構(gòu)成的抗反射薄膜、偏振片及其制備方法、液晶 顯示裝置元件、圖象顯示裝置、和液晶顯示裝置(下面A-I至E-12)，并且由此達(dá)到上述目 的。A-1.(第一實(shí)施方案)一種抗反射薄膜，其包括透明支持體；和折射率比透明支持體的折射率低的低折射率層，其中該低折射率層是抗反射薄膜 的最外層，并且該低折射率層包括中空二氧化硅顆粒和降低該抗反射薄膜的表面自由能 的化合物。A-2.上面A-I的抗反射薄膜，其中該化合物是選自由聚硅氧烷化合物、含氟化合 物和氟烷基聚硅氧烷化合物組成的一組化合物中的至少一種。A-3.上面A-2的抗反射薄膜，其中該化合物是聚硅氧烷化合物。A-4.上面A-I至A-3任意項(xiàng)的抗反射薄膜，其中低折射率層包括粘合劑，并且該化 合物包括與粘合劑反應(yīng)的基團(tuán)。A-5.上面A-I至A-4任意項(xiàng)的抗反射薄膜，其中該化合物包括(甲基)丙烯?；?。A-6.(第二實(shí)施方案)一種抗反射薄膜，包括透明支持體；和折射率比透明支持體的折射率低的低折射率層，其中該低折射率層是抗反射薄膜 的最外層，并且低折射率層包括中空二氧化硅顆粒和能夠降低抗反射薄膜的表面自由能 的粘合劑。A-7.上面A-I至A-6任意項(xiàng)的抗反射薄膜，其中聚硅氧烷和氟烷基中至少一個(gè)在 低折射率層的外表面分聚，這樣在該外表面的光電子譜中的光譜強(qiáng)度比Si/C或F/C比距離 該外表面的深度為該低折射率層的厚度的80%處的Si/C或F/C大至少5倍。A-8.上面A-6或A-7的抗反射薄膜，其中所述粘合劑包括聚硅氧烷和氟中至少一 種。A-9.上面A-6至A_8任意項(xiàng)的抗反射薄膜，其中所述粘合劑是含氟聚合物。A-10.上面A-6至A-9任意項(xiàng)的抗反射薄膜，其中所述粘合劑是具有(甲基)丙烯 ?；幕衔铩-11.上面A-6至A_10任意項(xiàng)的抗反射薄膜，其中所述粘合劑是式(1)代表的化
合物
O
0-(L-tTCC=CH2 X 其中L代表具有1-10個(gè)碳原子的連接基團(tuán)；X代表氫原子或甲基；A代表由乙烯 基單體衍生的重復(fù)單元；x、y和ζ各自代表各個(gè)重復(fù)單元的mol%，并且滿足30 < χ彡60、5彡y彡70禾口 0彡ζ彡65。A-12.上面A-I至A-Il任意項(xiàng)的抗反射薄膜，其中表面自由能最大是25mN/m。A-13.上面A-I至A_12任意項(xiàng)的抗反射薄膜，其包括一含有有機(jī)硅烷的水解物和 有機(jī)硅烷的部分縮合物中的至少一種的層，其中該水解物和部分縮合物是在存在酸催化劑 和金屬螯合物中的至少一種的情況下制得的，并且該有機(jī)硅烷由式(A)代表(R10)mSi (X) 4_m其中Rki代表取代或未取代的烷基、或者取代或未取代的芳基；X代表羥基或可水 解基團(tuán)；和m代表1-3的整數(shù)。A-16. 一種偏振片，包括上面A-I至A-13任意項(xiàng)的抗反射薄膜。A-17. 一種液晶顯示裝置，包括上面A-I至A-13任意項(xiàng)的抗反射薄膜、或者上面 A-16的偏振片。本發(fā)明的第一和第二實(shí)施方案的抗反射薄膜生產(chǎn)操作簡(jiǎn)單并且成本低廉，并且 具有良好抗反射性能、耐擦傷性和耐污漬性。而且，本發(fā)明提供一種偏振片，它具有本發(fā)明的上述抗反射薄膜。在具有該抗反射 薄膜或該偏振片的本發(fā)明液晶顯示裝置中，由于在該液晶顯示裝置的面板的最外面安裝有 該抗反射薄膜，因此具有良好的可見(jiàn)度和良好的耐擦傷性和耐污漬性。B-1.(第三實(shí)施方案)一種抗反射薄膜，包括透明支持體；和折射率比透明支持體的折射率低的低折射率層，其中該低折射率層具有1. 30-1. 55的折射率，該低折射率層是通過(guò)如下形成的將一可固化組合物涂敷在該透明支持體上；將 該可固化組合物干燥；在氧濃度最大為15體積％的氣氛中通過(guò)電離輻射和施加熱量中的 至少一種將該可固化組合物固化，和該可固化組合物包括(A)包括交聯(lián)或聚合官能團(tuán)的可固化物質(zhì)；(B)中空無(wú)機(jī)顆 粒，其平均粒徑是該低折射率層厚度的30% -150%，該中空無(wú)機(jī)顆粒具有1. 17-1. 40的折 射率；(C)經(jīng)電離輻射能夠產(chǎn)生自由基的第一聚合引發(fā)劑和經(jīng)施加熱量能夠產(chǎn)生自由基的 第二聚合引發(fā)劑中的至少一種；和(D)能夠溶解或分散組分(A)-(C)的溶劑。B-2.上面B-I的抗反射薄膜，其中所述低折射率層還包括選自由下面化合物組成 的組中的至少一種聚硅氧烷化合物、含氟化合物和氟烷基聚硅氧烷化合物。B-3.上面B-I或B-2的抗反射薄膜，其中所述可固化物質(zhì)是多官能(甲基)丙烯 酸酯單體。B-4.上面B-I至B-3任意項(xiàng)的抗反射薄膜，其中所述可固化組合物主要含有可固 化物質(zhì)，該可固化物質(zhì)是含氟聚合物，其中該含氟聚合物包括35_85重量％的氟原子；和交聯(lián)或聚合官能團(tuán)，而且該含氟聚合物是共聚物，其中該共聚物包括含有氟的乙烯基單體的第一可聚合 單元；和具有側(cè)枝的第二聚合單元，該側(cè)枝包括(甲基)丙烯?；涂s水甘油基中之一的官 能團(tuán)，并且該共聚物具有由碳原子組成的主鏈。B-5.上面B-I至B-4任意項(xiàng)的抗反射薄膜，其中所述可固化組合物還包括有機(jī)硅烷化合物、有機(jī)硅烷化合物的水解物和有機(jī)硅烷化合物的部分縮合物中的至少一種，該有 機(jī)硅烷化合物由式(Al)表示(Rltll)mSi (X) 4_m其中Rlt11代表烷基；X代表羥基或可水解基團(tuán)；和m代表1_3的整數(shù)。B-6. —種偏振片，包括偏振薄片；和在偏振薄片一面上的透明保護(hù)薄膜，該透明保護(hù)薄膜包括上面B-I至B-5任意項(xiàng) 的抗反射薄膜。B-7.上面B-6的偏振片，依次具有所述偏振薄片；在所述偏振薄片另一面上的所 述透明保護(hù)薄膜；和所述光學(xué)補(bǔ)償薄膜，其中所述光學(xué)各向異性層包括一具有盤形結(jié)構(gòu)的化合物，該盤形結(jié)構(gòu)的盤形面相對(duì)于所述透明保護(hù)薄膜的薄膜表面傾斜，并且在盤形面和薄膜表面之間的角度在光學(xué)各向異性層的深度方向變化。B-8. 一種液晶顯示裝置，包括上面B-6或B_7的偏振片。B-9. 一種抗反射薄膜的制備方法，其包括將可固化組合物涂敷到透明支持體上；將該可固化組合物干燥；和在氧濃度不高于15體積％的氣氛中通過(guò)電離輻射和施加熱量中的至少一種將該 可固化組合物固化，從而在透明支持體上形成具有1. 30-1. 55的折射率的低折射率層，其中該可固化組合物包括(A)包括交聯(lián)或聚合官能團(tuán)的可固化物質(zhì)；(B)中空無(wú)機(jī)顆 粒，其平均粒徑是低折射率層厚度的30% -150%，該中空無(wú)機(jī)顆粒具有1. 17-1. 40的折射 率；(C)經(jīng)電離輻射能夠產(chǎn)生自由基的第一聚合引發(fā)劑和經(jīng)施加熱量能夠產(chǎn)生自由基的第 二聚合引發(fā)劑中的至少一種；和(D)能夠溶解或分散組分(A)-(C)的溶劑。本發(fā)明的第三實(shí)施方案的抗反射薄膜具有良好抗反射性能以及良好耐擦傷性和 良好可生產(chǎn)性。因此，直接具有本發(fā)明的抗反射薄膜或者含有配備有該薄膜的偏振片的顯 示裝置，例如液晶顯示裝置，具有良好耐擦傷性和極好可見(jiàn)度，這是由于它們沒(méi)有外界光反 射或背景物反射的麻煩。C-1.(第四實(shí)施方案)一種抗反射薄膜，其包括包括纖維素?；锉∧さ闹С煮w，該纖維素?；锉∧ぞ哂?0-120 μ m的厚度；抗反射層，該層依次包括光漫射層和高折射率層中的至少一種，該高折射率層具 有比該支持體的折射率高的折射率；和具有比該支持體的折射率低的折射率的低折射率 層，其中纖維素?；锉∧な情L(zhǎng)100-5，OOOm和寬至少0. 7m的長(zhǎng)膜；纖維素?；锉∧?具有-3-3%的厚度波動(dòng)范圍；并且纖維素?；锉∧ぴ诶w維素酰化物薄膜的寬度方向具 有-7-+7/m的卷邊，而且該低折射率層包括折射率為1. 17-1. 40的中空二氧化硅顆粒。
C-2.上面C-I的抗反射薄膜，其中所述纖維素酰化物薄膜滿足式(I)和(II)(1)2. 3 ^ SA' +SB'彡 3. 0、(II)O ^ SA' ^ 3. 0其中SA'是指乙?；娜〈龋撘阴；〈w維素中羥基的氫原子；并且SB' 是指具有3-22個(gè)碳原子的?；娜〈龋擋；〈w維素中羥基的氫原子。C-3.上面C-I或C-2的抗反射薄膜，其中所述纖維素?；锉∧ぐ?，作為增塑劑 的脂族多元醇與一元羧酸的多元醇酯，并且纖維素酰化物薄膜在25°C和90% RH的條件下持續(xù)24小時(shí)具有20_260g/m2的透 濕性。C-4.上面C-I至C-3任意項(xiàng)的抗反射薄膜，其中所述多元醇酯中的一元羧酸包括 芳香環(huán)和脂環(huán)中的至少一種。C-5.上面C-I至C-4任意項(xiàng)的抗反射薄膜，其中所述纖維素?；锉∧ぞ哂?0-2.0%的滲出度。C-6.上面C-I至C-5的抗反射薄膜，其中所述纖維素?；锉∧ぐㄔ?80nm下 具有至少4，000的摩爾消光系數(shù)的紫外線吸收單體和烯鍵式不飽和單體的紫外線吸收共 聚物，并且該紫外線吸收共聚物具有2，000-20, 000的重均分子量。C-7.上面C-I至C-6任意項(xiàng)的抗反射薄膜，其中所述纖維素酰化物薄膜具有根據(jù) JIS B0601-1994方法測(cè)量具有如下的表面粗糙度(或不勻度)的表面算術(shù)平均粗糙度 (Ra)是0. 0005-0. 1 μ m ；十點(diǎn)平均粗糙度(Rz)是0. 001-0. 3ym；以及表面粗糙度的平均距 離(Sm)最大是2 μ m，和在表面各自具有至少100 μ m的可見(jiàn)大小的光缺陷的數(shù)量最大是1/m2。C-8.上面C-I至C-7任意項(xiàng)的抗反射薄膜，其中來(lái)自所述抗反射薄膜的反射光在 色空間CE1976L*a*b*中的L*、a*和b*值的各自面內(nèi)變化最大是20%，其中反射光是入射角為5度的入射光的規(guī)則反射光，該入射光具有380nm-780nm 的波長(zhǎng)，并且入射光是來(lái)自CIE標(biāo)準(zhǔn)光源D65的光。C-9.上面C-I至C-8任意項(xiàng)的抗反射薄膜，其中在耐候試驗(yàn)之前和之后在 380nm-680nm的波長(zhǎng)范圍內(nèi)的平均反射率的變化最大是0. 4%，和在L*a*b色度圖上反射光的色調(diào)變化ΔΕ最大是15。C-10.上面C-I至C-9任意項(xiàng)的抗反射薄膜，其在纖維素?；锉∧ず凸饴鋵踊?纖維素?；锉∧づc高折射率層之間包含一個(gè)含有導(dǎo)電材料的透明抗靜電層，其中透明抗靜電層具有最大2χ1012 Ω / 口的表面電阻率；最大20%的霧度；和在波 長(zhǎng)550nm下至少50%的透光率。C-11.上面C-I至C-IO任意項(xiàng)的抗反射薄膜，其中所述透明抗靜電層是一個(gè)含有 導(dǎo)電無(wú)機(jī)細(xì)粒的可固化樹(shù)脂層，該導(dǎo)電無(wú)機(jī)細(xì)粒具有3-lOOnm的平均初級(jí)粒徑，和該透明抗靜電層表面的表面粗糙度為算術(shù)平均粗糙度(Ra)最大是0.03 μ m;十 點(diǎn)平均粗糙度(Rz)最大是0. 06 μ m ；和最大高度(Ry)最大是0. 09 μ m。C-12.上面C-I至C-IO任意項(xiàng)的抗反射薄膜，其中所述低折射率層還包括一組合 物，該組合物包括有機(jī)硅烷的水解物和有機(jī)硅烷的部分縮合物中的至少一種，并且有機(jī)硅 烷由式(A2)表示
RmSi(X)n其中X代表-0H、鹵原子、-ORlt12或-OCOR1q2 ；R和Rltl2各自代表具有1-10個(gè)碳原子 的取代或未取代的烷基；m+n = 4，并且m和η各自代表0或更大的整數(shù)。C-13.上面C-I至C-12任意項(xiàng)的抗反射薄膜，其中所述透明抗反射層具有一個(gè)表 面自由能為15-26mN/m并且動(dòng)摩擦系數(shù)為0. 05-0. 20的最外表面。C-14.上面C-I至C-13任意項(xiàng)的抗反射薄膜，其中所述低折射率層還包括具有可 固化反應(yīng)基團(tuán)的含氟化合物。C-15. —種偏振片，其包括偏振薄片；和在該偏振薄片一面上的透明保護(hù)薄膜，該透明保護(hù)薄膜包括上面C-I至C-14任意 項(xiàng)的抗反射薄膜。C-16. —種偏振片，包括偏振薄片；在該偏振薄片一面上的第一透明保護(hù)薄膜，該透明保護(hù)薄膜包括上面C-I至C-14 任意項(xiàng)的抗反射薄膜；和在該偏振薄片另一面上的第二透明保護(hù)薄膜，該第二透明保護(hù)薄膜是具有光學(xué)各 向異性的光學(xué)補(bǔ)償薄膜。C-17. 一種圖象顯示裝置，其包括上面C-I至C-14任意項(xiàng)的抗反射薄膜或上面 C-15或C-16的偏振片。在本發(fā)明的第四實(shí)施方案的抗反射薄膜中用作支持體的纖維素?；锉∧な且?長(zhǎng)壓延薄膜，該壓延薄膜長(zhǎng)100-5，000m、寬至少0. 7m、厚度波動(dòng)在士3%的范圍內(nèi)，并且其 在寬度方向的卷邊是-7/m至+7/m。在涂布有抗反射層的一面上，薄膜的表面粗糙度優(yōu)選具 有根據(jù)JIS B0601-1994方法測(cè)量的特定粗糙度分布。因此，即使薄膜具有長(zhǎng)壓延形狀，也可以形成沒(méi)有涂布不勻度的均勻抗反射層，此 外，該層可以與支持體良好粘合。由此形成的抗反射薄膜防止具有光缺陷并且可以延遲其 厚度波動(dòng)，結(jié)果可以降低反射薄膜上反射光的色調(diào)不勻度。優(yōu)選用作本發(fā)明的第四實(shí)施方案的防反射薄膜的支持體的纖維素?；锉∧ぃ?括具有特定組成比的纖維素?；镒鳛槠渲饕煞郑?yōu)選按照溶液流延成膜法形成。此 外，該薄膜含有能夠提高薄膜的物理性能(抗卷曲性、尺寸穩(wěn)定性、擦傷強(qiáng)度、抗?jié)裥?的增 塑劑，該增塑劑均勻分散而且在薄膜中沒(méi)有分聚，并且控制薄膜的透濕性落入本發(fā)明定義 的范圍內(nèi)。結(jié)果，薄膜保持良好透明度并且如上所述其物理性能提高。該增塑劑的滲出小，并且這樣可以有利于提高薄膜的內(nèi)層粘合性。滲出是指，當(dāng)薄 膜處于高溫高濕環(huán)境下時(shí)，其中所含的添加劑例如增塑劑從薄膜中滲出并蒸發(fā)，由此薄膜 的重量減輕。而且，用于本發(fā)明的纖維素?；锉∧ず凶贤饩€吸收單體與烯鍵式不飽和單體 的紫外線吸收共聚物，并且具有特定摩爾消光系數(shù)。因此，紫外線吸收劑幾乎不沉積在薄膜 外面，并且圖象清晰度和粘合性良好。本發(fā)明的第四實(shí)施方案的抗反射薄膜的特征在于波長(zhǎng)范圍為380nm-780nm的 來(lái)自CIE標(biāo)準(zhǔn)光源D65的入射光以5度的入射角照射到該抗反射薄膜上時(shí)，其規(guī)則反射光在色空間CE1976L*a*b*中的L*、a*和b*值的各自面內(nèi)變化最大是20 %，并且根據(jù)JIS K5600-7-7 1999方法測(cè)量時(shí)，薄膜在耐候試驗(yàn)之前和之后，在L*a*b色度圖上的反射光色 調(diào)變化ΔΕ最大是15。因此，該薄膜滿足低反射和反射色減少的兩個(gè)要求。至于在帶有熒 光燈的室內(nèi)，當(dāng)明亮外界光在薄膜上反射時(shí)，薄膜的色調(diào)是中性，并且薄膜保持良好的顯示 圖象質(zhì)量。通過(guò)將低折射率層的折射率和和半透明樹(shù)脂的折射率之間的平衡最佳化以形成 薄膜的高折射率層的防眩光硬涂層，從而可以獲得在其上具有中性反射光色調(diào)并且具有低 折射率的抗反射薄膜。優(yōu)選，本發(fā)明的第四實(shí)施方案的抗反射薄膜在其支持體和光漫射層之間還有一透 明抗靜電層。具體地說(shuō)，該層可以通過(guò)在支持體上涂敷含有導(dǎo)電無(wú)機(jī)細(xì)粒的可固化組合物 然后將其在支持體上固化形成。以這種方式，可以以很高的可生產(chǎn)性形成具有長(zhǎng)壓延形式 的薄膜。在薄膜中由此形成的抗靜電層具有特定的粗糙化表面，其中沒(méi)有光缺陷，并且在其 上形成的涂層可以具有均勻表面并具有與下層良好的粘合性。我們已發(fā)現(xiàn)本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)。而且，抗反射層的最外表面(抗反射薄膜的最外表面)的表面自由能優(yōu)選最大 是26mN/m，并且其動(dòng)摩擦系數(shù)優(yōu)選最大是0. 25。更優(yōu)選，其表面自由能是15-25. 8mN/m, 而且動(dòng)摩擦系數(shù)是0. 05-0. 25 ；甚至更優(yōu)選，其表面自由能是15-22mN/m，動(dòng)摩擦系數(shù)是 0.05-0.15。在該范圍內(nèi)，也用作保護(hù)薄膜的抗反射薄膜的耐污漬性良好。在〈低折射率層 >部分中詳細(xì)描述了表面自由能控制。本發(fā)明的第四實(shí)施方案的抗反射薄膜的低折射率層優(yōu)選含有一種包括有機(jī)硅烷 的任意一種水解物或部分縮合物的組合物。含有它，則該層的粘合性將進(jìn)一步提高并且其 表面耐擦傷性也進(jìn)一步提高。本發(fā)明的第四實(shí)施方案的抗反射薄膜可以用作顯示裝置的保護(hù)薄膜，并且其優(yōu)點(diǎn) 是顯示圖象不眩光并且其上面沒(méi)有外界光反射，圖象清晰并且它們的可見(jiàn)度良好，其上反 射光的色調(diào)幾乎是中性并且在薄膜上呈現(xiàn)良好的圖象。此外，薄膜具有良好的粘合性、良好 的耐久性和耐候性。而且，薄膜的可生產(chǎn)性良好，并且可以低成本制備該薄膜。本發(fā)明的偏振片含有本發(fā)明的上述抗反射薄膜，并且具有良好的質(zhì)量和耐久性。本發(fā)明的圖象顯示裝置含有本發(fā)明的上述抗反射薄膜或偏振片，并且具有良好的 耐久性和良好的圖象質(zhì)量。D-1. —種偏振片，其包括偏振薄片；和在偏振薄片每一面上的透明保護(hù)薄膜，其中在該偏振薄片一面上的透明保護(hù)薄膜具有多層抗反射薄膜，該多層抗反射薄膜包括折射率高于透明保護(hù)薄膜的折射率的高折射率層；和折射 率低于透明保護(hù)薄膜的折射率的低折射率層，該高折射率層和該低折射率層是通過(guò)依次涂敷其各自的涂布液形成的，該低折射率層包括中空無(wú)機(jī)顆粒，該中空無(wú)機(jī)顆粒具有1. 17-1. 37的折射率和為 該低折射率層厚度的30% -100%的平均粒徑。D-2.上面D-I的偏振片，其在正交尼科耳條件下具有在700nm下0. 001% -0.3%的第一透光率，和在正交尼科耳條件下具有在410nm下0. 001% -0. 3%的第二透光率。D-3.上面D-I或D-2的偏振片，其具有得自CIE標(biāo)準(zhǔn)光源D65在380nm-780nm的波長(zhǎng)范圍內(nèi)的入射光以5度的入射角照 射時(shí)，在該偏振片上的第一規(guī)則反射光在色空間CIE1976L*a*b*中的a*和b*值，其中該a* 和b*值滿足0彡a*彡7和-10彡b*彡0 ；和入射角為5-45°的入射光的第二規(guī)則反射光在色空間的另一 a*和b*值，其中該 a* 禾口 b* {tii^ a* > 0 禾口 b* < 0。D-4.上面D-I至D-3任意項(xiàng)的偏振片，其中從該偏振片上反射的反射光在色空間 CE1976L*a*b*中的L*、a*和b*值的各自面內(nèi)變化不超過(guò)20%，其中反射光是入射角為5度的入射光的規(guī)則反射光，該入射光具有380nm-780nm 的波長(zhǎng)，并且入射光是來(lái)自CIE標(biāo)準(zhǔn)光源D65的光。D-5.上面D-I至D-4任意項(xiàng)的偏振片，其中所述高折射率層包括折射率不同的兩 個(gè)高折射率層，并且該抗反射薄膜至少有3層，這至少3層滿足數(shù)字式(IV-2)-(IV-4)(IV-2) (IIi1 λ /4) χ0· 60 < 叫屯 < (Hi1 λ /4) χ0· 80(IV-3) (m2 λ /4) xl. 00 < n2d2 < (m2A /4)xl. 50(IV-3) (m3 λ /4) xO. 85 < n3d3 < (m3 λ /4) xl. 05其中Hi1是1 ;ni是所述兩個(gè)高折射率層中具有較低折射率的中等折射率層的折射 率汍是該中等折射率層的厚度(nm) ;m2是2 ;n2是兩個(gè)高折射率層中具有較高折射率的較 高折射率層的折射率；d2是較高折射率層的厚度(nm) ;m3是1 ;n3是所述低折射率層的折射 率；d3是低折射率層的厚度(nm) ； λ是測(cè)定用光的波長(zhǎng)。D-6.上面D-I至D-4任意項(xiàng)的偏振片，其中所述高折射率層是一個(gè)光散射層，它包 括半透明樹(shù)脂；和平均粒徑為0. 5-5 μ m的半透明顆粒，其中該半透明顆粒分散在該半透 明樹(shù)脂中，而且該高折射率層的半透明顆粒和半透明樹(shù)脂之間的折射率差值是0. 02-0. 5。D-7.上面D-I至D-6任意項(xiàng)的偏振片，其中所述透明保護(hù)薄膜是一在60°C和95% RH下的透濕性為400g/m2 · 24小時(shí)-2，000g/m2 · 24小時(shí)的纖維素酰化物薄膜。D-8.上面D-I至D-7任意項(xiàng)的偏振片，其中以絕對(duì)值計(jì)，該偏振片在60°C和90% RH的環(huán)境下靜置500小時(shí)之前和之后其透光率變化和偏振變化均不超過(guò)3%。D-9.上面D-I至D-8任意項(xiàng)的偏振片，其中該偏振片在70°C的加熱條件下靜置 120小時(shí)之前和之后該偏振片在吸收軸和偏振軸的每一方向上的尺寸變化在士0. 6%內(nèi)。D-10.上面D-I至D-9任意項(xiàng)的偏振片，其中在所述透明保護(hù)薄膜的拉伸軸和該偏 振薄片的拉伸軸之間的角度是從10°到小于90°。D-11.上面D-I至D-IO任意項(xiàng)的偏振片，其中在該偏振薄片另一面上的所述透明 保護(hù)薄膜具有一個(gè)含有光學(xué)各向異性層的光學(xué)補(bǔ)償薄膜。D-12. 一種上面D-I的偏振片的制備方法，其包括用于偏振薄片的聚合物薄膜；用夾具夾持聚合物薄膜的每一邊；和在聚合物薄膜的軸向移動(dòng)夾具的同時(shí)，通過(guò)給聚合物薄膜施加張力將聚合物薄膜 拉伸，
其中在滿足式(III)的條件下進(jìn)行拉伸L2-L11 > 0. 4W其中Ll代表在聚合物薄膜的一邊上第一夾具從真正夾持起點(diǎn)到真正夾持釋放點(diǎn) 的軌跡；L2代表在聚合物薄膜的另一邊上第二夾具從真正夾持起點(diǎn)到真正夾持釋放點(diǎn)的 軌跡；和W代表在第一夾具和第二夾具的兩個(gè)真正夾持釋放點(diǎn)之間的距離，而且在第一夾具和第二夾具之間的移動(dòng)速度差值小于1%。D-13.上面D-12的偏振片的制備方法，其中在保持聚合物薄膜的揮發(fā)物含量至少 為5體積％的條件下進(jìn)行拉伸，并且在聚合物薄膜收縮的同時(shí)降低揮發(fā)物含量。D-14.上面D-12或D-13的偏振片的制備方法，其包括將透明保護(hù)薄膜粘在該偏振 薄片的一面上，并且該保護(hù)薄膜具有抗反射薄膜。D-15. 一種圖象顯示器裝置，其包括上面D-I至D-11任意項(xiàng)的偏振片，該偏振片安 裝在圖象顯示器裝置的圖象顯示器上。D-16.上面D-15的圖象顯示器裝置，該圖像顯示裝置是TN、STN、IPS、VA或OCB的 任意模式的透射型、反射型或半透射型液晶顯示裝置。根據(jù)本發(fā)明，提供了一種具有均勻和中性面內(nèi)色調(diào)和良好耐久性的偏振片。該偏 振片沒(méi)有外界光在其上反射的麻煩。即使本發(fā)明的偏振片中偏振薄片很薄，該偏振片在正 交尼科耳下仍然能夠有效地防止短波和長(zhǎng)波可見(jiàn)光的漏光。因此，該偏振片具有良好色調(diào) 和良好耐久性，并且沒(méi)有外界光在其上反射的麻煩。在本發(fā)明制備偏振片的方法中，將斜向 拉伸的聚合物薄膜用于偏振薄片，并且在將該薄膜沖切成偏振片的步驟中產(chǎn)率很高。因此， 本發(fā)明的偏振片質(zhì)量?jī)?yōu)良成本低廉。本發(fā)明的圖象顯示裝置在其圖象顯示面的面上具有該 偏振片，并且因此具有良好耐久性和良好圖象質(zhì)量。E-1. 一種液晶顯示元件，其依次包括上偏振片；包括兩個(gè)單元基片的液晶單元；和下偏振片，其中上偏振片和下偏振片各自依次包括上透明保護(hù)薄膜、偏振薄片和 下透明保護(hù)薄膜，并且下偏振片包括亮度改進(jìn)薄膜，其中所述上透明保護(hù)薄膜包括透明支持體和抗反射薄膜，該抗反射薄膜包括折射率 比透明支持體的折射率低的低折射率層，其中低折射率層是透明支持體的最外層，并且低 折射率層包括中空無(wú)機(jī)顆粒，該中空顆粒具有1. 17-1.37的折射率和低折射率層厚度的 30% -100%的平均粒徑。E-2.上面E-I的液晶顯示元件，其中所述低折射率層是通過(guò)涂敷并固化可固化組 合物所形成的固化薄膜，其中該可固化組合物包括中空無(wú)機(jī)顆粒、包括可固化反應(yīng)基團(tuán)的含氟聚合物、和 有機(jī)硅烷的水解物和有機(jī)硅烷的部分縮合物中的至少一種，其中該水解物和部分縮合物是 在存在酸催化劑和金屬螯合物中的至少一種的情況下制得的，并且該有機(jī)硅烷由式(A)代 表(R10)mSi 004_m
其中Rltl代表取代或未取代的烷基、或者取代或未取代的芳基；X代表羥基或可水 解基團(tuán)；和m代表1-3的整數(shù)。E-3.上面E-I或E-2的液晶顯示元件，其中該抗反射薄膜包括在所述低折射率層 和所述透明支持體之間的折射率比透明支持體的折射率高的高折射率層。E-4.上面E-I或E-2的液晶顯示元件，其中該抗反射薄膜具有在所述低折射率層 和所述透明支持體之間的折射率比透明支持體的折射率高的防眩光層。E-5.上面E-I至E-4任意項(xiàng)的液晶顯示元件，其中從所述上偏振片的最外側(cè)起該 上偏振片依次包括抗反射薄膜；透明支持體；偏振薄片；和另一透明支持體，它們粘連并 集成為上偏振片。E-6.上面E-I至E-5任意項(xiàng)的液晶顯示元件，其中在與所述液晶單元相鄰側(cè)上該 上偏振片還包括光學(xué)補(bǔ)償薄膜。E-7.上面E-I至E-6任意項(xiàng)的液晶顯示元件，其中從與液晶單元相鄰側(cè)起該下偏 振片依次包括光學(xué)補(bǔ)償薄膜；偏振薄片、透明保護(hù)薄膜和亮度改進(jìn)薄膜。E-8.上面E-I至E-7任意項(xiàng)的液晶顯示元件，其中透明支持體是纖維素?；锉?膜，其含有滿足式(I)和(II)的纖維素酰化物、辛醇-水分配系數(shù)(log P)為0-10的增塑 劑和平均初級(jí)粒徑為3-lOOnm的細(xì)粒，并且該纖維素?；锉∧ぞ哂?0-120 μ m的厚度(1)2. 3 ^ SA' +SB'彡 3. 0、(II)O ^ SA' ^ 3. 0其中SA'是指用來(lái)取代纖維素中羥基的氫原子的乙?；娜〈龋徊⑶襍B'是 指用來(lái)取代纖維素中羥基的氫原子的具有3-22個(gè)碳原子的?；娜〈取-9.上面E-I至E-8任意項(xiàng)的液晶顯示元件，其中來(lái)自所述抗反射薄膜的反射光 在色空間CE1976L*a*b*中的L*、a*和b*值的各自面內(nèi)變化小于15%，其中所述反射光是入射角為5度的入射光的規(guī)則反射光，該入射光具有 380nm-780nm的波長(zhǎng)，并且該入射光是來(lái)自CIE標(biāo)準(zhǔn)光源D65的光。E-10.上面E-I至E-8任意項(xiàng)的液晶顯示元件，其中在耐候試驗(yàn)之前和之后在 380nm-680nm的波長(zhǎng)范圍內(nèi)所述抗反射薄膜的平均反射率的變化最大是0. 5%，和在L*a*b色度圖上來(lái)自抗反射薄膜的反射光的色調(diào)變化ΔΕ最大是15。E-11. 一種液晶顯示裝置，其包括上面E-I至E-IO任意項(xiàng)的液晶顯示元件。E 一 12.上面E-Il的液晶顯示裝置，其還包括背面光。本發(fā)明的液晶顯示元件的顯示圖象明亮且清晰，圖象不模糊也沒(méi)有圖象不勻性和 亮度不勻性。在本發(fā)明的液晶顯示元件中，如果將抗反射薄膜直接層合在偏振薄片，可以使該 元件變薄并且可以降低其重量。因此，使用該元件，可以使顯示裝置變薄，并且可以使其重 量減輕，而且可以降低其成本。由于該顯示裝置包括特定抗反射薄膜，因此其耐候性良好并 且可以延長(zhǎng)其壽命。而且，當(dāng)將一光學(xué)補(bǔ)償薄膜層合在本發(fā)明的元件的液晶單元的面上時(shí)，包括該元 件的液晶顯示裝置的視角可以變寬，并且該構(gòu)造在大面板顯示器中特別有效。此外，由于光 學(xué)補(bǔ)償薄膜直接在偏振薄片的保護(hù)薄膜上形成，因此該元件可以變得更薄并且其重量可以 降得更低。因此，使用該元件，可以使顯示裝置變薄，并且可以降低其重量和成本。
由于本發(fā)明的液晶顯示裝置含有本發(fā)明的液晶顯示元件，因此它提供明亮和清晰 的顯示圖象，既沒(méi)有圖象模糊也沒(méi)有圖象不勻性和亮度不勻性。本發(fā)明的抗反射薄膜可以采用操作簡(jiǎn)單且成本低廉的方法進(jìn)行生產(chǎn)，具有良好的 抗反射性能、耐擦傷性和耐污漬性。此外，根據(jù)本發(fā)明，提供了一種薄膜厚度均勻性良好的 抗反射薄膜的制備方法。而且，本發(fā)明提供了 一種偏振片，它含有本發(fā)明的上述抗反射薄膜。在含有抗反 射薄膜或偏振片的本發(fā)明液晶顯示裝置中，由于在其面板的最外表面上安裝有該抗反射薄 膜，因此具有良好的可見(jiàn)度以及良好的耐擦傷性和耐污漬性。


圖1是顯示本發(fā)明的抗反射薄膜的一個(gè)實(shí)例的橫截面示意圖。圖2是顯示本發(fā)明的抗反射薄膜的層結(jié)構(gòu)的橫截面示意圖。圖3是顯示本發(fā)明的多層抗反射薄膜的層結(jié)構(gòu)的橫截面示意圖。圖4是顯示本發(fā)明的抗反射薄膜的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案的橫截面示意圖。圖5是顯示使用高折射率層作為本發(fā)明的抗反射薄膜的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案的一 個(gè)實(shí)例的橫截面示意圖。圖6是顯示用于連續(xù)涂布層的設(shè)備的構(gòu)造的一個(gè)實(shí)例的橫截面示意圖。圖7是顯示聚合物薄膜的斜向拉伸方法的一個(gè)實(shí)例的示意平面圖。附圖標(biāo)記說(shuō)明1抗反射薄膜2透明基底3導(dǎo)電層4硬涂層5中等折射率層6高折射率層7低折射率層8無(wú)光澤顆粒9光散射層10半透明顆粒11光漫射層12半透明樹(shù)脂13第一半透明顆粒14第二半透明顆粒100，200，300，400 成膜單元101，201，301，401涂敷涂布液的步驟102，202，302，402干燥涂布薄膜(或涂布液)的步驟103，203，303,403固化涂布薄膜的步驟⑴薄膜加入方向(ii)薄膜運(yùn)輸?shù)较乱徊降姆较?br> (a)薄膜加入步驟(b)薄膜拉伸步驟(c)將拉伸薄膜向前移動(dòng)到下一步的步驟Al夾具中薄膜嚙合位置和薄膜拉伸開(kāi)始位置(右邊夾持的有效開(kāi)始位置)Bl夾具中薄膜嚙合位置(左邊)Cl薄膜拉伸開(kāi)始位置(左邊夾持的有效開(kāi)始位置)Cx薄膜釋放位置和薄膜拉伸終點(diǎn)的基準(zhǔn)位置(左邊夾持的有效終點(diǎn)位置)Ay薄膜拉伸終點(diǎn)的基準(zhǔn)位置(右邊夾持的有效終點(diǎn)位置)I L1-L2 |左邊和右邊薄膜夾具之間的移動(dòng)長(zhǎng)度差W在拉伸步驟結(jié)束時(shí)的有效薄膜寬度θ拉伸方向和薄膜前進(jìn)方向之間的角度21入口側(cè)的薄膜中心線22前進(jìn)到下一步的薄膜的中心線23薄膜夾具的軌跡(右邊)24薄膜夾具的軌跡(左邊)25入口側(cè)的薄膜26前進(jìn)到下一步的薄膜27,27'在左邊和右邊夾持薄膜的開(kāi)始(嚙合)點(diǎn)28,28'在左邊和右邊薄膜夾具的釋放點(diǎn)
具體實(shí)施例方式在本說(shuō)明書(shū)中，當(dāng)數(shù)值數(shù)據(jù)顯示物理數(shù)據(jù)或特征數(shù)據(jù)時(shí)，表達(dá)式“一個(gè)量到另一量 (或者從一個(gè)量到另一量)”是指落入前一數(shù)量和后一數(shù)量(包含二者)之間的范圍。<抗反射薄膜>參照附圖描述本發(fā)明的抗反射薄膜的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案的基本構(gòu)造。圖1是圖示本發(fā)明的第一和第二實(shí)施方案的抗反射薄膜的一個(gè)實(shí)例的橫截面示 意圖。在此，抗反射薄膜1具有透明支持體2、導(dǎo)電層3、硬涂層4、中等折射率層5、高折射 率層6和低折射率層7依次疊加的層構(gòu)造。中等折射率層5和高折射率層6是任選層，它 們?cè)谠搶訕?gòu)造中可以有也可以沒(méi)有，并且硬涂層4可以任選地含有無(wú)光澤顆粒8或者可以 不含。優(yōu)選，低折射率層7的折射率是1.38-1. 49。當(dāng)在層構(gòu)造中有高折射率層6和中等折 射率層5時(shí)，它們的折射率可以滿足如下條件“低折射率層7的折射率<中等折射率層5 的折射率<高折射率層6的折射率”。盡管不是必不可少的，但是在層構(gòu)造中優(yōu)選有導(dǎo)電 層3。導(dǎo)電層3可以不在透明支持體2和硬涂層4之間，而可以在抗反射薄膜的構(gòu)造中的任 意位置。如果需要的話，導(dǎo)電層3可以與層構(gòu)造中的任意層集成。圖2是圖示本發(fā)明的第三實(shí)施方案的抗反射薄膜的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案的橫截面 圖。該實(shí)施方案是防眩光_抗反射薄膜的一個(gè)優(yōu)選實(shí)例，它具有良好耐擦傷性，并且當(dāng)涂敷 到高清晰度顯示器上時(shí)呈現(xiàn)良好防眩光性能。圖2的實(shí)施方案的抗反射薄膜1包括透明支持體2、在透明支持體2上形成的光散 射層9、和在光散射層9上形成的低折射率層7。
光散射層9包括半透明樹(shù)脂和分散在該半透明樹(shù)脂中的半透明顆粒10。在本實(shí)施方案中，光散射層9用作防眩光和硬涂層。在本實(shí)施方案中這是一層，但 是可以由多層，例如，2-4層構(gòu)成。如本實(shí)施方案中的，它可以直接安裝在透明支持體上，但 是它們也可以經(jīng)任意其它層例如抗靜電層或防潮層安裝在透明載體上。在本實(shí)施方案中，理想的是在C光源下反射光滿足條件a*值是-2-2，b*值 是-3-3，在380nm-780nm的范圍內(nèi)折射率的最小值與最大值之比落入0. 5-0. 99的范圍內(nèi)， 這是由于在這種條件下反射光的色調(diào)可以是中性。同樣優(yōu)選，在C光源下透射光的b*值 是0-3，這是由于當(dāng)將該薄膜涂敷到顯示裝置上時(shí)，經(jīng)該薄膜的白色表達(dá)的黃色色調(diào)可以降 低。同樣優(yōu)選，將120μπιΧ40μπι的晶格插入平面光源和本發(fā)明的抗反射薄膜之間，以便在 薄膜上測(cè)定的亮度分布標(biāo)準(zhǔn)偏差最大可以是20。這是由于當(dāng)本發(fā)明的這類薄膜施加到高清 晰面板上時(shí)，面板上的眩光有效地降低。圖3是圖示本發(fā)明第三個(gè)實(shí)施方案的抗反射薄膜的另一優(yōu)選實(shí)施方案的橫截面 圖。該實(shí)施方案是清晰型多層抗反射薄膜的一個(gè)優(yōu)選實(shí)例，其平均折射率降低至0.5%或更 小。因此，它優(yōu)選用于電視和監(jiān)視器。圖3的本實(shí)施方案的抗反射薄膜1包括透明支持體2、在透明支持體2上形成的硬 涂層4、以及都在硬涂層4上形成的中等折射率層5、高折射率層6和低折射率層7。至于其光學(xué)性能，該實(shí)施方案的抗反射薄膜優(yōu)選具有最大0. 5%的鏡面反射率和 至少90 %的透光率，這樣可以防止其上的外界光反射并且可以呈現(xiàn)良好可見(jiàn)度?；趫D4，它是圖示本發(fā)明的第四個(gè)實(shí)施方案防反射薄膜的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案的 橫截面示意圖，描述了本發(fā)明的光漫射層的一個(gè)優(yōu)選實(shí)例。抗反射薄膜1包括支持體2、在支持體2上形成的光漫射層11、和在光漫射層11 上形成的低折射率層7。光漫射層11包括分散于半透明樹(shù)脂12中的兩種不同類型的半透 明顆粒13和14。由此設(shè)計(jì)，光漫射層可以具有由其中第一半透明顆粒和第二半透明顆粒形成的不 規(guī)則性的粗糙表面。在圖4中，表面因半透明顆粒的不規(guī)則性而粗糙化，但是沒(méi)有表面粗糙度的光漫 射層可以加工或經(jīng)磨光處理由此使其具有粗糙表面。〈高折射率層〉本發(fā)明的第四個(gè)實(shí)施方案的抗反射薄膜選擇性地包括至少一個(gè)高折射率層和上 述光漫射層以具有更好抗反射性能。該高折射率層的折射率是1. 55-2. 40。只要該抗反射薄膜的層構(gòu)造具有折射率落 入該范圍內(nèi)的層，那么可以說(shuō)該薄膜含有高折射率層。該折射率范圍通常用于較高折射率 層和中等折射率層。然而，在本說(shuō)明書(shū)中，這些層通常稱之為“高折射率層”。當(dāng)薄膜包括多 個(gè)高折射率層時(shí)，可以稱之為高折射率層-1、高折射率層_2等，這取決于它們之間的折射
率差值。當(dāng)薄膜既包括較高折射率層又包括中等折射率層時(shí)，折射率在1. 8-2. 4的層可以 稱之為較高折射率層，折射率在1. 55到小于1. 8的層可以稱之為中等折射率層。然而，這 些層之間較高/中等折射率的關(guān)系彼此相關(guān)，并且邊界折射率可以變化約0. 2。根據(jù)加入的 無(wú)機(jī)顆粒和粘合劑的類型及其比例可以適當(dāng)?shù)乜刂普凵渎省?br> 圖5是圖示本發(fā)明的抗反射薄膜的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案的橫截面示意圖，它包括高 折射率層。在圖5中，抗反射薄膜1包括支持體2、硬涂層4、高折射率層-1 (5)、高折射率 層-2 (6)，和低折射率層7。<低折射率層>首先描述本發(fā)明的低折射率層。從降低低折射率層的反射率的角度，優(yōu)選，本發(fā)明的抗反射薄膜中的低折射率層 滿足下式(IV-I)。(IV-I) (m λ /4) χ0· 7 < 仏 < (m λ /4) xl. 3其中m是正奇數(shù)；ηι是低折射率層的折射率汍是低折射率層的厚度(nm) ； λ是 落入500-550nm范圍的波長(zhǎng)。滿足式(IV-I)是指存在m(它是正奇數(shù)，并且通常是1)，在上 述波長(zhǎng)范圍內(nèi)它滿足式(IV-I)。從薄膜的抗反射性能和機(jī)械強(qiáng)度的角度，本發(fā)明的抗反射薄膜中低折射率層的折 射率優(yōu)選是1. 30-1. 55。也優(yōu)選，低折射率層的折射率比支持體的低，更優(yōu)選比支持體的折 射率低0. 02-0. 2。具體地說(shuō)，本發(fā)明的第一和第二實(shí)施方案的抗反射薄膜中低折射率層的折射率優(yōu) 選是1. 38-1. 49，更優(yōu)選1. 38-1. 44。在第三個(gè)實(shí)施方案中，折射率優(yōu)選是1. 30-1. 55，更優(yōu) 選1. 35-1. 40。在第四個(gè)實(shí)施方案中，折射率更優(yōu)選是1. 31-1. 48。在本發(fā)明的抗反射薄膜中，低折射率層優(yōu)選是具有耐擦傷性和耐污漬性的最外層。低折射率層含有帶中空結(jié)構(gòu)的無(wú)機(jī)顆粒(中空無(wú)機(jī)顆粒)。也優(yōu)選，含氟或含聚 硅氧烷化合物(降低層的表面自由能的化合物)和粘合劑(能夠降低層的表面自由能的粘 合劑)可以加入到該層中由此降低抗反射薄膜的表面自由能。<無(wú)機(jī)顆粒>位于本發(fā)明的低折射率層中的無(wú)機(jī)顆粒的折射率可以是1. 17-1. 40，優(yōu)選 1. 17-1. 35，更優(yōu)選1. 17-1. 30。這里針對(duì)顆粒所述的折射率是指整個(gè)顆粒的折射率。因此， 在中空無(wú)機(jī)顆粒中，折射率不僅僅是針對(duì)其無(wú)機(jī)外殼部分。在這種情況下，當(dāng)顆粒中空穴的 半徑由“a”表示并且顆粒外殼的半徑由“b”表示時(shí)，由下式(V)表示的顆粒的孔隙率“X” 優(yōu)選是10-60 %，更優(yōu)選20-60 %，最優(yōu)選30-60 %。(V)X= (4 3ia3/3)/(4 3ib3/3)xl00當(dāng)進(jìn)一步降低中空無(wú)機(jī)顆粒的折射率并且進(jìn)一步增加其孔隙率時(shí)，外殼的厚度會(huì) 變薄并且顆粒的機(jī)械強(qiáng)度會(huì)降低。因此，從其耐擦傷性的角度，折射率低于1. 17的低折射 率顆粒是不可行的。用Abbe ‘ s折光計(jì)(Atago制造)測(cè)定無(wú)機(jī)顆粒的折射率。無(wú)機(jī)細(xì)粒的一個(gè)實(shí)例是中空二氧化硅顆粒。從折射率、硬度和成本的角度，最優(yōu)選 中空二氧化硅。無(wú)機(jī)顆?？梢允墙Y(jié)晶或無(wú)定形的，并且可以是單分散顆?；蚓奂w粒，只要 它們滿足預(yù)定粒徑。至于它們的形態(tài)，顆粒最優(yōu)選為球形，但是可以為無(wú)定形，沒(méi)有任何問(wèn) 題。例如在JP-A-2001-233611和JP-A-2002-79616中描述了中空二氧化硅的制備方法。
從降低低折射率層的折射率、提高該層的耐擦傷性、改善該層因顆粒的的突出部 分的形成導(dǎo)致的黑色外觀、和防止層的總反射增加的角度，無(wú)機(jī)顆粒的涂布量?jī)?yōu)選是Img/ m2-100mg/m2,更優(yōu)選5mg/m2-80mg/m2，甚至更優(yōu)選10mg/m2-60mg/m2。無(wú)機(jī)顆粒的平均粒徑 優(yōu)選是低折射率層的厚度的20% -150%，更優(yōu)選30% -100%,甚至更優(yōu)選40% -70%。 因此，當(dāng)?shù)驼凵渎蕦拥暮穸仁荌OOnm時(shí)，無(wú)機(jī)顆粒的粒徑優(yōu)選是30nm-150nm，更優(yōu)選 30nm-100nm,甚至更優(yōu)選 40nm-70nm。當(dāng)其粒徑落入上面范圍內(nèi)時(shí)，無(wú)機(jī)顆粒可以有效低降低低折射率層的折射率，防 止在該層的表面上形成凸起，改善該層的黑色外觀并降低該層上的總反射。無(wú)機(jī)顆粒可以是結(jié)晶或無(wú)定形的。優(yōu)選是單分散顆粒。至于形態(tài)，最優(yōu)選球形，但 是可以是無(wú)定形，沒(méi)有任何問(wèn)題?？梢栽陬w粒的電子顯微鏡照片上測(cè)定無(wú)機(jī)顆粒的平均粒徑。在本發(fā)明中，非中空二氧化硅或其它任意無(wú)機(jī)顆粒可以與中空無(wú)機(jī)顆粒一起使 用。除二氧化硅之外的其它無(wú)機(jī)顆粒優(yōu)選低折射率化合物例如氟顆粒(氟化鎂、氟化鈣、 氟化鋇)的顆粒。非中空無(wú)機(jī)顆粒的粒徑優(yōu)選是30nm-150nm，更優(yōu)選35nm-80nm，最優(yōu)選 40nm_60nmo優(yōu)選，至少一種平均粒徑小于低折射率層厚度的25%的無(wú)機(jī)顆粒(將其稱為“小 粒徑無(wú)機(jī)顆粒”)與具有上述粒徑的無(wú)機(jī)顆粒(將其稱之為“大粒徑無(wú)機(jī)顆?！?混合。由于小粒徑無(wú)機(jī)顆?？梢源嬖谟诖罅綗o(wú)機(jī)顆粒之間的空間，因此它們可以用作 大粒徑無(wú)機(jī)顆粒的固定器。小粒徑無(wú)機(jī)顆粒的平均粒徑優(yōu)選是lnm-20nm，更優(yōu)選5nm-15nm，甚至更優(yōu)選 10nm-15nm。從材料的成本和顆粒作為固定器的效果的角度，優(yōu)選使用這類無(wú)機(jī)顆粒。(中空)無(wú)機(jī)顆粒和其它無(wú)機(jī)顆?？梢越?jīng)過(guò)物理表面處理例如等離子體放電處理 或電暈放電處理，或者經(jīng)過(guò)用表面活性劑或偶聯(lián)劑的化學(xué)表面處理，以確保它們?cè)诜稚Ⅲw 或涂布液中的分散穩(wěn)定性和提高它們與粘合劑組分的親和力和粘合能力。更優(yōu)選，使用偶 聯(lián)劑處理。偶聯(lián)劑優(yōu)選烷氧基金屬化合物(例如，鈦偶聯(lián)劑、硅烷偶聯(lián)劑)。尤其是，用具有 丙烯?；蚣谆；墓柰榕悸?lián)劑處理特別有效。在制備低折射率層的涂布液之前，偶聯(lián)劑作為該層中無(wú)機(jī)填料的表面處理劑用于 表面處理，但是優(yōu)選在制備涂布液的同時(shí)將其作為添加劑加入到該層的涂布液中，并由此 加入到層中。為了降低表面處理的載荷，優(yōu)選在表面處理之前將(中空)無(wú)機(jī)顆粒和其它無(wú)機(jī) 顆粒分散在介質(zhì)中。〈表面自由能〉參照S. K. Owens，J. Appl. Polym. Sci.，13，1741 (1969)，本發(fā)明的抗反射薄膜的表 面自由能(Y sv 單位，mN/m)由作為值Y sv( = Y sd+y sh)計(jì)算的該抗反射薄膜的表面張 力定義，或者即，根據(jù)下面聯(lián)立方程組(1)和(2)由在抗反射薄膜上試驗(yàn)測(cè)定的純凈水H2O 和二碘甲烷CH2I2的接觸角Θ·和Oqi212獲得的Y sd+Y sh之和。當(dāng)γ Sv較小并且表面自 由能較低時(shí)，薄膜具有高的排斥性并因此具有良好耐污漬性。優(yōu)選，抗反射薄膜的表面自由 能最大是26mN/m，更優(yōu)選最大25mN/m，甚至更優(yōu)選最大20mN/m。(1) 1+cos θ H20 = 2 V ysd( V YH20d/ V YH20v)+2 V Ysh( V Yh20V V Y H20v)
(2) 1+cos θ CH2I2 = 2 V Ysd( V Y CH2I2d/ V Y CH2I2V) +2 V Ysh( V Y CH2I2h/ V Y CH2I2V)* Y H2o — 21.8 Y Π20 — 51. 0，γ h2o — 72. 8，Y CH2:[2 — 49. 5，Y Cmi2 — 1.3，Y CH2i2 =50. 8?？狗瓷浔∧ぴ?5°C和60% RH下調(diào)理至少1小時(shí)。在與預(yù)處理相同的條件下，在 該抗反射薄膜上測(cè)定接觸角。用于本發(fā)明降低表面自由能的化合物(降低表面自由能的化合物)和能夠降低表 面自由能的粘合劑(降低表面自由能的粘合劑)可以是任意的，在結(jié)構(gòu)及其組成方面沒(méi)有 限制，只要將它涂敷到薄膜上時(shí)它有效地顯著降低上面定義的抗反射薄膜的表面自由能即 可。一般說(shuō)來(lái)，相對(duì)涂敷到薄膜上的化合物的量，表面自由能的降低不是線性的，隨著其量 增加，它會(huì)飽和。例如，相對(duì)由粘合劑例如DPHA形成的固化基質(zhì)的量繪制表面自由能降低 點(diǎn)，在這樣制得的表面自由能降低分布曲線中，相對(duì)加入到表面自由能降低飽和點(diǎn)的化合 物的量的表面自由能降低優(yōu)選至少10mN/m，更優(yōu)選至少20mN/m，甚至更優(yōu)選至少25mN/m， 最優(yōu)選至少30mN/m。<降低表面自由能化合物>降低表面自由能的化合物可以是任意已知的聚硅氧烷化合物、含氟化合物或氟烷 基聚硅氧烷化合物。優(yōu)選，加入到低折射率層中的該化合物的量是該層所有固體組分總重 量的0. 01-20重量％，更優(yōu)選0. 05-10重量％，甚至更優(yōu)選0. 1-5重量％。聚硅氧烷化合物的優(yōu)選實(shí)例是在含有多個(gè)二甲基甲硅氧基單元作為重復(fù)單元的 化合物鏈的任意末端和側(cè)枝的至少一個(gè)位置具有取代基的那些聚硅氧烷。含有重復(fù)二甲基 甲硅氧基單元的化合物鏈可以含有除二甲基甲硅氧基單元之外的任意其它結(jié)構(gòu)單元。優(yōu) 選，該化合物含有多個(gè)相同或不同的取代基。取代基的優(yōu)選實(shí)例有任意含有丙烯?；?、甲 基丙烯?；?、乙烯基、芳基、肉桂酰基、環(huán)氧基、氧雜環(huán)丁烷基、羥基、氟烷基、聚氧化烯基、羧 基和氨基的取代基。盡管沒(méi)有具體的定義，該化合物的分子量?jī)?yōu)選最大100，000，更優(yōu)選 最大50，000，最優(yōu)選3，000-30, 000。同樣沒(méi)有特別的限制，聚硅氧烷化合物中聚硅氧烷原 子含量?jī)?yōu)選至少18. O重量％，更優(yōu)選25. 0-37. 8重量％，最優(yōu)選30. 0-37. O重量％。聚硅 氧燒化合物的優(yōu)選實(shí)例是 Shin-etsuChemical ‘ s X-22-174DX、X-22-2426、X-22-164B、 X22-164C、X-22-170DX、X-22-176D、X-22-1821 (都是商品名)、Chisso ‘ s FM-0725、 FM-7725、FM-4411、FM-5521、FM-6621、FM-1121 和 Gelest' sDMS_U22、RMS-033、RMS-083、 UMS-182、DMS-H21、DMS-H31、HMS-301(都是商品名)，然而本發(fā)明并不限于此。含氟化合物優(yōu)選是具有氟烷基的化合物。優(yōu)選，氟烷基具有1-20個(gè)碳原子，更 優(yōu)選1-10個(gè)碳原子，并且可以具有線性結(jié)構(gòu)(例如，-CF2CF3、CH2(CF2)4H, -CH2(CF2)8CF3 、-CH2CH2 (CF2) 4)、或支化結(jié)構(gòu)(例如，-CH (CF3) 2、-CH2CF (CF3) 2、-CH (CH3) CF2CF3、-CH (CH3) (CF2)5CF2H)、或脂環(huán)族結(jié)構(gòu)(優(yōu)選5-元的或6-元的、例如，全氟環(huán)己基、全氟環(huán)戊基、或由任 意這些基團(tuán)取代的烷基)；或者它可以具有醚鍵(例如，-ch2och2cf2cf3、-ch2ch2och2c4f8h、-c H2CH2OCH2CH2C2F17、-CH2CH2OCF2CF2OCF2CF2H)。該化合物的一個(gè)分子中可以具有多個(gè)氟烷基。優(yōu)選，含氟化合物含有一個(gè)有利于與低折射率層的薄膜形成粘合或者與該薄膜相 容的取代基。也優(yōu)選，該化合物具有多個(gè)這類取代基，它們可以相同或不同。取代基的優(yōu)選 實(shí)例有丙烯酰基、甲基丙烯?；⒁蚁┗?、芳基、肉桂?；?、環(huán)氧基、氧雜環(huán)丁烷基、羥基、聚 氧化烯基、羧基和氨基。含氟化合物可以是與不含氟原子的化合物的聚合物或低聚物，并 且其分子量沒(méi)有特別的限制。同樣沒(méi)有特別限制，該含氟化合物中氟原子含量?jī)?yōu)選至少20重量％，更優(yōu)選30-70重量％，最優(yōu)選40-70質(zhì)量％。含氟化合物的優(yōu)選實(shí)例有Daikin' s 尺-2020、] -2020、1 -3833、]\1-3833(都是商品名)、03丨-附？？011 Ink' s MegafacF_171、F_172、 F-179A, Diffenser MCF-300 (都是商品名)，然而本發(fā)明并不限于此。氟烷基聚硅氧烷化合物的實(shí)例有Gelest' s FMS121、FMS123、FMS131、FMS141、 FMS221，然而本發(fā)明并不限于此。盡管沒(méi)有特別的限制，化合物的氟含量和聚硅氧烷含量、 和化合物分子中的取代基的優(yōu)選實(shí)例可以與上面針對(duì)聚硅氧烷化合物和含氟化合物所述 的相同。降低表面自由能的化合物在分子中優(yōu)選具有至少一種與粘合劑反應(yīng)的基團(tuán)。反應(yīng) 基團(tuán)的優(yōu)選實(shí)例有熱固性活性氫原子、羥基、蜜胺、活性能射線可固化的(甲基)丙烯?；?和環(huán)氧基。其中，特別優(yōu)選蜜胺或(甲基)丙烯?；；覊m抑制劑和抗靜電劑，例如已知的陽(yáng)離子表面活性劑或聚氧化烯化合物可以加 入到該低折射率層中使該層防塵和抗靜電。聚硅氧烷化合物和含氟化合物可以含有灰塵抑 制劑和抗靜電劑的結(jié)構(gòu)單元作為其功能的一部分。當(dāng)將它們作為添加劑加入到該層中時(shí)， 它們的量?jī)?yōu)選是低折射率層的總固體組分重量的0.01-20重量％，更優(yōu)選0. 05-10重量％， 甚至更優(yōu)選0. 1-5重量％。該化合物的優(yōu)選實(shí)例有Dai-Nippon Ink' s Megafac F_150(商 品名)和Toray-Dow Corning' sSH_3747(商品名)，然而本發(fā)明并不限于此。描述了可用在本發(fā)明的抗反射薄膜的低折射率層的粘合劑。該粘合劑優(yōu)選是具有 飽和烴鏈或聚醚鏈作為其主鏈結(jié)構(gòu)的聚合物，更優(yōu)選具有飽和烴鏈作為其主鏈結(jié)構(gòu)的聚合 物。也優(yōu)選，粘合劑聚合物具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)。具有飽和烴鏈作為主鏈結(jié)構(gòu)的粘合劑聚合物優(yōu)選是烯鍵式不飽和單體的聚合物。 具有飽和烴鏈作為主鏈結(jié)構(gòu)并具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)的粘合劑聚合物優(yōu)選是具有兩個(gè)或多個(gè)烯鍵 式不飽和基團(tuán)的單體的(共)聚合物。具有兩個(gè)或多個(gè)烯鍵式不飽和基團(tuán)的單體包括多元醇和(甲基)丙烯酸類的酯類 (例如，乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4_環(huán)己烷二丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸 酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲 基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四 醇六(甲基)丙烯酸酯、1，2，3_環(huán)己烷四甲基丙烯酸酯、聚氨酯聚丙烯酸酯、聚酯聚丙烯酸 酯)、乙烯基苯及其衍生物(例如，1,4- 二乙烯基苯、2-丙烯酰基乙基4-乙烯基苯甲酸酯、 1，4-二乙烯基環(huán)己酮)、乙烯基砜類(例如，二乙烯基砜)、丙烯酰胺類(例如，亞甲雙丙烯 酰胺)、和甲基丙烯酰胺類?？梢詫煞N或多種的這些單體混合使用。在本說(shuō)明書(shū)中，“(甲 基)丙烯酸酯”是指“丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯”。這些具有烯鍵式不飽和基團(tuán)的單體的聚合可以在有光學(xué)自由基引發(fā)劑或熱自由 基引發(fā)劑的情況下通過(guò)暴露于活性能射線中或者暴露于熱量下進(jìn)行。因此，制備含有烯鍵式不飽和單體、光學(xué)自由基引發(fā)劑或熱自由基引發(fā)劑、無(wú)光澤 顆粒和無(wú)機(jī)填料的涂布液，并將該涂布液涂敷到透明支持體上，然后通過(guò)暴露于活性能射 線或暴露于熱量下聚合并固化，從而形成抗反射薄膜。光學(xué)自由基引發(fā)劑包括苯乙酮類、苯偶姻類、二苯甲酮類、氧化膦類、酮縮醇類、 蒽醌類、噻噸酮類、偶氮化合物、過(guò)氧化物、2，3_ 二烷基二酮化合物、二硫化物化合物、氟胺 (fluoroamine)化合物、和芳香锍類。苯乙酮類的實(shí)例有2，2-二乙氧基苯乙酮、對(duì)-二甲基苯乙酮、1-羥基二甲基苯基酮、1-羥基環(huán)己基苯基酮、2-甲基-4-甲硫基-2-嗎啉代苯 基乙基酮、和2-芐基-2-二甲氨基-l-(4-嗎啉代苯基)丁酮。苯偶姻類的實(shí)例有苯偶姻 苯磺酸酯類、苯偶姻甲苯磺酸酯類、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、和苯偶姻異丙基醚。二 苯甲酮類的實(shí)例有二苯甲酮、2，4_ 二氯二苯甲酮、4，4_ 二氯二苯甲酮、和對(duì)-氯二苯甲酮。 氧化膦類的一個(gè)實(shí)例是2，4，6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦。在theNewest UV Curing Technology (ρ· 159,由 Kazuhiro Takatsu 發(fā)表，Gijutsu Joho Kyokai 發(fā)行，1991)中描述 了這些化合物的不同實(shí)例，并且它們可用于本發(fā)明。市售的、光裂化光學(xué)自由基聚合引發(fā) 劑的優(yōu)選實(shí)例是 Ciba Speciality Chemicals' Irgacure (651，184，907)。優(yōu)選，相對(duì) 100 重量份的多官能單體，光聚合引發(fā)劑以0. 1-15重量份的量使用，更優(yōu)選1-10重量份?？?以向該光聚合引發(fā)劑中加入光增感劑。光增感劑的實(shí)例有正丁基胺、三乙胺、三正丁基膦、 Michler' s酮和噻噸酮。熱自由基引發(fā)劑包括有機(jī)或無(wú)機(jī)過(guò)氧化物、和有機(jī)偶氮以及重氮化合物。具體地 說(shuō)，有機(jī)過(guò)氧化物包括過(guò)氧化苯甲酰、過(guò)氧化商代苯甲酰、過(guò)氧化月桂酰、過(guò)氧化乙酰、過(guò)氧 化二丁基、氫過(guò)氧化枯烯、丁基氫過(guò)氧化物；無(wú)機(jī)過(guò)氧化物包括過(guò)氧化氫、過(guò)硫酸銨、過(guò)硫 酸鉀；偶氮化合物包括2-偶氮二異丁腈、2-偶氮二丙腈、2-偶氮二環(huán)己烷-二腈；和重氮化 合物重氮氨基苯和對(duì)_硝基苯_重氮化合物。用作低折射率層的粘合劑的具有聚醚主鏈結(jié)構(gòu)的聚合物優(yōu)選多官能環(huán)氧基化合 物的環(huán)裂開(kāi)聚合物。多官能環(huán)氧基化合物的環(huán)裂開(kāi)聚合可以在有光學(xué)產(chǎn)酸劑或熱產(chǎn)酸劑的 情況下通過(guò)暴露于活性能射線下或者暴露于熱量下進(jìn)行。因此，制備出含有多官能環(huán)氧基 化合物、光學(xué)產(chǎn)酸劑或熱產(chǎn)酸劑、無(wú)光澤顆粒和無(wú)機(jī)填料的涂布液；并將該涂布液涂敷到透 明支持體上，然后通過(guò)暴露于活性能射線下或者暴露于熱量下進(jìn)行聚合和固化形成抗反射 薄膜。代替用于制備具有飽和烴鏈作為主鏈結(jié)構(gòu)并具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)的粘合劑聚合物的具 有兩個(gè)或多個(gè)的烯鍵式不飽和基團(tuán)的單體或者除該單體之外，還可以使用具有交聯(lián)官能團(tuán) 的單體以便將該交聯(lián)官能團(tuán)引入聚合物中，并且通過(guò)交聯(lián)官能團(tuán)的反應(yīng)，可以將交聯(lián)結(jié)構(gòu) 引入到粘合劑聚合物中。交聯(lián)官能團(tuán)的實(shí)例有異氰酸酯基、環(huán)氧基、氮丙啶基、嗯唑啉基、醛基、羰基、胼 基、羧基、羥甲基和活性亞甲基。也可以使用乙烯基磺酸類、酸酐類、氰基丙烯酸酯衍生物、 蜜胺類、醚化羥甲基類、酯類和尿烷類、和金屬醇鹽類(例如四甲氧基硅烷)作為向聚合物 中引入交聯(lián)結(jié)構(gòu)的單體。也可以使用分解反應(yīng)后可以交聯(lián)的官能團(tuán)，例如嵌段異氰酸酯基。 因此，在本發(fā)明中，交聯(lián)官能團(tuán)可能不是直接可以反應(yīng)的，但是可以是分解后變得可以反應(yīng) 的。在涂敷到支持體上之后，具有這種交聯(lián)官能團(tuán)的粘合劑聚合物可以涂敷受熱形成所需 的交聯(lián)結(jié)構(gòu)。沒(méi)有特別的限制，用于本發(fā)明的抗反射薄膜的低折射率層中的降低表面自由能的 粘合劑可以是當(dāng)將該粘合劑添加到通過(guò)固化丙烯酸烷基酯單體例如典型地DPHA形成的層 上時(shí)可顯著降低該層的表面自由能的任意一種。特別優(yōu)選，該粘合劑使得僅僅通過(guò)粘合劑 固化并形成的層的表面自由能最大是30mN/m，更優(yōu)選最大25mN/m，甚至更優(yōu)選最大20mN/ m。該粘合劑優(yōu)選是含有選自如下基團(tuán)中至少一種的化合物氟烷基、二甲基硅氧烷基和聚 二甲基硅氧烷(聚硅氧烷)基。固化之前，粘合劑可以為單體或者為聚合物，或者可以是單體和聚合物的混合物，或者可以是多種化合物的混合物。描述用于低折射率層的降低表面自由能的粘合劑的優(yōu)選實(shí)例。降低表面自由能的 粘合劑優(yōu)選是低折射率粘合劑例如含氟聚合物。該含氟聚合物優(yōu)選具有0. 03-0. 15的動(dòng)摩 擦系數(shù)和90-120°C的相對(duì)水的接觸角，并優(yōu)選當(dāng)暴露于活性能射線下時(shí)可以交聯(lián)。本發(fā)明的抗反射薄膜的低折射率層優(yōu)選含有含氟化合物。具體地說(shuō)，本發(fā)明的低 折射率層優(yōu)選由主要為熱固性或電離輻射-可固化交聯(lián)的含氟化合物的固化氟樹(shù)脂形成。在本發(fā)明中，術(shù)語(yǔ)“主要為含氟化合物”是指低折射率層中含氟化合物的含量是低 折射率層總重量的至少50重量％，更優(yōu)選至少60重量％。優(yōu)選，含氟化合物的折射率是1. 35-1. 50，更優(yōu)選1. 36-1. 47。也優(yōu)選，含氟化合物 的氟原子含量是35-80重量％。含氟化合物包括含氟聚合物、含氟表面活性劑、含氟醚、含氟硅烷化合物、含氟 單體和含氟低聚物，它們都可以稱之為含氟化合物。具體地說(shuō)，這些化合物在例如JP-A 9-222503 第
-
段、JP-A11-38202 第
-
段、和 JP-A 2001-40284 第W027]-W028]段有描述，并且它們可用于本發(fā)明。(含氟聚合物)含氟聚合物優(yōu)選是包括含氟原子的重復(fù)結(jié)構(gòu)單元、含交聯(lián)或聚合官能團(tuán)的重復(fù)結(jié) 構(gòu)單元和任意其它取代基的其它重復(fù)結(jié)構(gòu)單元的共聚物。特別優(yōu)選含氟單體和賦予其交 聯(lián)基團(tuán)的共聚單體的共聚物，或者即，含有用作交聯(lián)和聚合官能團(tuán)的可固化反應(yīng)基團(tuán)的含 氟聚合物。與任意其它單體共聚合的其它含氟聚合物也可用于本發(fā)明。該交聯(lián)或聚合官能團(tuán)可以是任意已知的。交聯(lián)官能團(tuán)的實(shí)例有異氰酸酯基、環(huán)氧基、氮丙啶基、嗯唑啉基、醛基、羰基、胼 基、羧基、羥甲基、和活性亞甲基。而且，乙烯基磺酸類、酸酐類、氰基丙烯酸酯衍生物、蜜胺 類、醚化羥甲基類、酯類和尿烷類、和金屬醇鹽類(例如四甲氧基硅烷)也可用作向該聚合 物中引入交聯(lián)結(jié)構(gòu)的單體。也可以使用分解反應(yīng)之后可以交聯(lián)的官能團(tuán)，例如也可以使用 嵌段異氰酸酯基。因此，在本發(fā)明中，交聯(lián)官能團(tuán)可能不是直接可以反應(yīng)的，但是可以是分 解后變得可以反應(yīng)的。在涂敷到支持體上之后，具有這種交聯(lián)官能團(tuán)的化合物可以涂敷受 熱形成所需的交聯(lián)結(jié)構(gòu)。聚合官能團(tuán)包括自由基聚合基團(tuán)和陽(yáng)離子聚合基團(tuán)。優(yōu)選自由基聚合基團(tuán)(例如，(甲基)丙烯酰基、苯乙烯基、乙烯氧基)和陽(yáng)離子 聚合基團(tuán)(例如，環(huán)氧基、硫代環(huán)氧基、氧雜環(huán)丁烷基)。其它重復(fù)結(jié)構(gòu)單元優(yōu)選是由用于溶解在溶劑中的烴類共聚物組分形成的那些。優(yōu) 選，含氟聚合物含有與聚合物約50重量％的這類結(jié)構(gòu)單元。也優(yōu)選，含氟聚合物與聚硅氧 烷化合物混合。聚硅氧烷化合物是具有聚硅氧烷結(jié)構(gòu)的化合物。優(yōu)選，它在聚合物鏈中含有可固 化官能團(tuán)或聚合官能團(tuán)，并且它可以交聯(lián)從而使薄膜內(nèi)具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)。例如，本發(fā)明可以使 用市售的活性聚硅氧烷類例如Silaplane (Chisso制造)、和如JP-A-11-258403中在其聚硅 氧烷結(jié)構(gòu)的兩個(gè)末端具有硅烷醇基的化合物。具有交聯(lián)和聚合基團(tuán)的含氟聚合物的交聯(lián)或聚合反應(yīng)優(yōu)選在將可固化組合物涂 敷到支持體上來(lái)形成最外層的同時(shí)或者其涂敷之后進(jìn)行，并且可以通過(guò)將該層暴露于光或熱下獲得。在該步驟中，可以使用聚合引發(fā)劑和增感劑，并且它們可以與用于光漫射層的聚 合引發(fā)劑和增感劑相同。沒(méi)有特別的限制，共聚單體包括，例如，烯烴(例如，乙烯、丙烯、異戊二烯、氯乙 烯、二氯乙烯)、丙烯酸酯類(例如，丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸2-乙基己酯)、甲基丙 烯酸酯類(例如，甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、乙二醇二甲基丙烯 酸酯)、苯乙烯衍生物(例如，苯乙烯、二乙烯基苯乙烯、乙烯基甲苯、α-甲基苯乙烯)、乙 烯基醚類(例如，甲基乙烯基醚)、乙烯基酯類(例如，乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、肉桂酸乙烯 酯)、丙烯酰胺類(例如，N-叔丁基丙烯酰胺、N-環(huán)己基丙烯酰胺)、甲基丙烯酰胺類、丙烯 腈衍生物。例如可以將固化劑適當(dāng)?shù)丶尤氲皆摼酆衔镏?，如JP-A-10-25388和 JP-A-10-147739 中。就低折射率層而言，也優(yōu)選使用在存在催化劑的情況下通過(guò)縮合固化有機(jī)金屬化 合物例如硅烷偶聯(lián)劑和具有特定含氟烴基的硅烷偶聯(lián)劑形成的溶膠_凝膠固化薄膜。例如，提及有含有多氟烷基的硅烷化合物和它們的部分水解縮合物(例如， JP-A-58-142958,58-147483,58-147484 中所述的化合物)；JP-A-9-157582 中所述的含有 全氟烷基的硅烷偶聯(lián)劑；含有含氟長(zhǎng)鏈基團(tuán)、多-全氟烷基醚基的甲硅烷基化合物(例如， JP-A-2000-117902,2001-48590,2002-53804 中所述的化合物)。用于本發(fā)明的催化劑可以是任意已知的化合物，并且其優(yōu)選實(shí)例在上述文獻(xiàn)中有 描述。用于低折射率層的含氟聚合物包括含有全氟烷基的硅烷化合物的水解脫水縮合 物(例如，十七氟_1，1，2，2-四氫癸基)三乙氧基硅烷)、以及含有含氟單體單元和用于賦 予聚合物交聯(lián)反應(yīng)活性的結(jié)構(gòu)單元作為其構(gòu)成成分的含氟共聚物。含氟單體的具體實(shí)例有氟烯烴(例如，氟乙烯、二氟乙烯、四氟乙烯、全氟_辛基乙 烯、六氟丙烯、全氟_2，2- 二甲基-1，3- 二氧雜環(huán)戊烯)、(甲基)丙烯酸的部分或完全氟化 的烷基酯衍生物(例如，Biscoat6FM (Osaka Yuki Kagaku 制造)、M-2020 (Daikin 制造))、 和完全和部分氟化的乙烯基醚類。優(yōu)選全氟烯烴；從其折射率、溶解度、透明度和可用度的 角度更優(yōu)選六氟丙烯。用于賦予聚合物交聯(lián)反應(yīng)活性的結(jié)構(gòu)單元是，例如，通過(guò)分子內(nèi)固有地具有自交 聯(lián)官能團(tuán)的單體聚合形成的結(jié)構(gòu)單元，例如縮水甘油基(甲基)丙烯酸酯或縮水甘油基乙 烯基醚；通過(guò)具有羧基、羥基、氨基和磺基的單體聚合形成的結(jié)構(gòu)單元(例如，(甲基)丙烯 酸、(甲基)丙烯酸羥甲酯、(甲基)丙烯酸羥烷基酯、丙烯酸烯丙酯、羥乙基乙烯基醚、羥 丁基乙烯基醚、馬來(lái)酸、巴豆酸)；通過(guò)聚合反應(yīng)向這些結(jié)構(gòu)單元中引入交聯(lián)反應(yīng)基團(tuán)例如 (甲基)丙烯?；鶚?gòu)成的結(jié)構(gòu)單元(例如，可以按照使丙烯酰氯與羥基反應(yīng)的方法而加入這 些基團(tuán))。 尤其可用于本發(fā)明的低折射率層的含氟聚合物是全氟_烯烴與乙烯基醚或乙烯 基酯類的無(wú)規(guī)共聚物。特別優(yōu)選，聚合物具有本身可以進(jìn)行交聯(lián)反應(yīng)的基團(tuán)(例如，自由 基反應(yīng)基團(tuán)例如(甲基)丙烯?；?、和環(huán)裂開(kāi)聚合基團(tuán)例如環(huán)氧基或氧雜環(huán)丁烷基)。優(yōu) 選，含有交聯(lián)反應(yīng)基團(tuán)的聚合物單元的量是聚合物中所有聚合物單元的5-70mol %，更優(yōu)選30-60mol%。用于低折射率層的共聚物(含氟聚合物)的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案下式(1)的聚合 物
權(quán)利要求
一種抗反射薄膜，其包括透明支持體；和折射率比透明支持體的折射率低的低折射率層，其中該低折射率層是抗反射薄膜的最外層，并且該低折射率層包括中空二氧化硅顆粒和降低該抗反射薄膜的表面自由能的化合物；其中，所述化合物是聚硅氧烷化合物；其中，聚硅氧烷在所述低折射率層的外表面分聚，這樣在該外表面的光電子譜中的光譜強(qiáng)度比Si/C比距離該外表面的深度為該低折射率層的厚度的80％處的Si/C大至少5倍；其中，所述低折射率層包含粘合劑，并且所述化合物包含與所述粘合劑反應(yīng)的基團(tuán)；其中，所述化合物包含(甲基)丙烯酰基；其中，所述粘合劑是具有兩個(gè)或更多個(gè)烯鍵式不飽和基團(tuán)的單體的(共)聚合物，并且所述具有兩個(gè)或更多個(gè)烯鍵式不飽和基團(tuán)的單體是多元醇和(甲基)丙烯酸的酯。
2.如權(quán)利要求1所述的抗反射薄膜，其包括一個(gè)含有有機(jī)硅烷的水解物和有機(jī)硅烷的 部分縮合物中的至少一種的層，其中該水解物和部分縮合物是在存在酸催化劑和金屬螯合 物中的至少一種的情況下制得的，并且該有機(jī)硅烷由式(A)代表(R10)mSi 004_m其中Rki代表取代或未取代的烷基、或者取代或未取代的芳基；X代表羥基或可水解基 團(tuán)；和m代表1-3的整數(shù)。
3.一種抗反射薄膜，其包括 透明支持體；和折射率比透明支持體的折射率低的低折射率層，其中該低折射率層是抗反射薄膜的最 外層，并且該低折射率層包括中空二氧化硅顆粒和降低該抗反射薄膜的表面自由能的化 合物；其中，表面自由能最大是25mN/m ； 其中，所述化合物是聚硅氧烷化合物；其中，所述低折射率層包含粘合劑，并且所述化合物包含與所述粘合劑反應(yīng)的基團(tuán)； 其中，所述化合物包含(甲基)丙烯?；黄渲?，所述粘合劑是具有兩個(gè)或更多個(gè)烯鍵式不飽和基團(tuán)的單體的(共)聚合物，并且 所述具有兩個(gè)或更多個(gè)烯鍵式不飽和基團(tuán)的單體是多元醇和(甲基)丙烯酸的酯。
4.一種偏振片，其包括權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)的抗反射薄膜。
5.一種偏振片，其包括 偏振薄片；和在該偏振薄片一面上的透明保護(hù)薄膜，該透明保護(hù)薄膜包括權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)的抗 反射薄膜。
6.一種圖象顯示裝置，其包括權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)的抗反射薄膜或者權(quán)利要求4或5 的偏振片。
7.如權(quán)利要求6所述的圖象顯示裝置，其是液晶顯示裝置。
8.如權(quán)利要求6所述的圖象顯示裝置，其是TN、STN、IPS、VA或OCB的任意模式的透射 型的、反射型的或半透射型的液晶顯示裝置。
全文摘要
本發(fā)明提供一種廉價(jià)易生產(chǎn)并且具有足夠的抗反射性能、耐擦傷性和耐污漬性的抗反射薄膜，以及利用具有這種優(yōu)異性能的抗反射薄膜的偏振片和液晶顯示裝置，其中該抗反射薄膜包括透明支持體和折射率比透明支持體的折射率低的低折射率層，其中該低折射率層是最外層，并且低折射率層含有中空二氧化硅顆粒和降低最外層的表面自由能的化合物。
文檔編號(hào)C08F216/12GK101957460SQ201010281870
公開(kāi)日2011年1月26日 申請(qǐng)日期2004年12月24日 優(yōu)先權(quán)日2003年12月26日
發(fā)明者中村和浩, 加藤榮一, 村松雄三, 池田顯 申請(qǐng)人:富士膠片株式會(huì)社