本發(fā)明涉及裝飾玻璃及制備方法技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃及其制備方法。
背景技術(shù)：
在家居、家電和建筑等使用裝飾玻璃的領(lǐng)域，隨著人們的物質(zhì)和文化生活的逐步提高，對(duì)裝飾的要求也越來(lái)越高。目前的玻璃印刷只是簡(jiǎn)單的不同油墨的堆積，包含高溫油墨和低溫油墨、或者無(wú)機(jī)油墨和有機(jī)油墨。印刷的圖案只是自身油墨的反射，缺少其他元素的反射。為了克服印刷油墨的不足，增加印刷圖案的亮度、顯現(xiàn)出印刷油墨圖案的精細(xì)紋理結(jié)構(gòu)，滿足視覺的感官效果；同時(shí)，減少或阻止紫外線對(duì)油墨的損害（例如：退色、黃變、老化等）。就需要使油墨印刷與物理鍍膜工藝相結(jié)合，提高玻璃亮度、豐富玻璃印刷圖案質(zhì)感，增強(qiáng)視覺的沖擊力。
趙青南、張乃芝和趙修建利用氧化鈰和氧化鈦復(fù)合，發(fā)明了“紫外線截止鍍膜玻璃及其制備方法（發(fā)明專利：200410061019.3）”，趙青南、倪佳苗和趙修建發(fā)明了“截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃及其制備方法（發(fā)明專利：200410061018.9）；二者都是利用氧化鈰和氧化鈦復(fù)合隔絕紫外線。由于二氧化鈦的光催化降解性能，它能降解高分子或有機(jī)油墨，這種膜系不適合與印刷的高分子或有機(jī)油墨復(fù)合。趙青南等發(fā)明的“一種具有裂紋涂層的鍍膜裝飾玻璃的制備方法”（發(fā)明專利：201310049147.5），是利用鍍膜的方法把金屬等材料鑲嵌在油墨裂紋里。這些技術(shù)都沒有在膜層上印刷油墨，沒有利用膜層的性能使印刷油墨紋理產(chǎn)生更好、更精細(xì)的感官效果，以及保護(hù)油墨不被外界紫外線損害。
在玻璃上產(chǎn)生金屬光澤的專利技術(shù)有，“具有金屬光澤的彩晶玻璃，申請(qǐng)?zhí)枺?01110357556.2”采取玻璃上粘貼鋁箔；“仿不銹鋼彩晶玻璃，申請(qǐng)?zhí)枺?01510941712.8”采取黏結(jié)劑中填加青金粉印刷到玻璃上；“具有拉絲效果的仿不銹鋼彩晶玻璃，申請(qǐng)?zhí)枺?01110357558.1”采取玻璃上粘貼拉絲鋁箔。
目前的絲網(wǎng)印刷裝飾玻璃的圖案紋理，由于邊部滲透產(chǎn)生鋸齒狀外觀，表觀顯得粗糙，達(dá)不到精細(xì)紋理的效果，影響圖案的裝飾效果。
綜上，并沒有既能防紫外線又可以實(shí)現(xiàn)精細(xì)紋理印刷圖案的裝飾玻璃。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明的主要目的在于提供一種防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃及其制備方法。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃，包括玻璃基板以及依次設(shè)置于玻璃基板上的不導(dǎo)電底膜層、不導(dǎo)電防紫外線膜層、不導(dǎo)電高反射膜層、印刷油墨圖案層以及保護(hù)油墨層，其中，
所述不導(dǎo)電底膜層為siox膜層，x=1~2，膜層厚度5nm~25nm；所述不導(dǎo)電防紫外線膜層為金屬氧化物膜層與非晶硅膜層形成的復(fù)合膜層，膜層總厚度90nm~156nm；所述不導(dǎo)電高反射膜層為氧化不銹鋼膜層、氮化硅膜層或氮氧化硅膜層，膜層總厚度110nm~220nm，不導(dǎo)電高反射膜層的光學(xué)帶隙小于3.1ev。
優(yōu)選地，所述金屬氧化物為氧化鈰、氧化鈮、氧化鋯、氧化錫、氧化鎢或氧化鎳。
優(yōu)選地，所述不導(dǎo)電高反射膜層的折射率為1.8~2.2。
一種防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃的制備方法，包括以下步驟：
在真空室中采用磁控濺射工藝鍍制不導(dǎo)電底膜層；
在不導(dǎo)電底膜層上采用磁控濺射工藝鍍制不導(dǎo)電防紫外線膜層；
在不導(dǎo)電防紫外線膜層上采用磁控濺射工藝鍍制不導(dǎo)電高反射膜層;
在不導(dǎo)電高反射膜層上形成印刷油墨圖案層；
在印刷油墨圖案層上形成保護(hù)油墨層。
優(yōu)選地，鍍制不導(dǎo)電底膜層的操作條件為：在真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例5~15%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材進(jìn)行磁控濺射。
優(yōu)選地，所述在不導(dǎo)電底膜層上采用磁控濺射工藝鍍制不導(dǎo)電防紫外線膜層的步驟具體包括：
在真空箱體中，使用氬氣為工作氣體，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材沉積得到非晶硅膜層；
空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15~25%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純金屬鎢、純金屬鈮、純金屬鋯、純金屬錫、純金屬鎳、氧化鈰、氧化鎢、氧化鈮、氧化鋯、氧化錫或氧化鎳做靶材。
優(yōu)選地，鍍制不導(dǎo)電高反射膜層的操作條件為：
當(dāng)不導(dǎo)電高反射膜層為氧化不銹鋼膜層或氮化硅膜層時(shí)，在真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15~25%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用304不銹鋼、純硅或硅硼做靶材沉積得到氧化不銹鋼膜層或氮化硅膜層；
當(dāng)不導(dǎo)電高反射膜層為氮氧硅膜層時(shí)，真空箱體中，氧氣和氮?dú)饬髁勘壤?~15%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材沉積得到氮氧硅膜層。
優(yōu)選地，在不導(dǎo)電防紫外線膜層上形成印刷油墨圖案層的方法為絲網(wǎng)印刷、熱轉(zhuǎn)印、uv轉(zhuǎn)印、噴繪或打印。
優(yōu)選地，形成印刷油墨圖案層時(shí)采用熱固化處理或者紫外線固化處理，采用熱固化處理時(shí)，在140℃~260℃熱處理5~15分鐘固化；采用紫外固化油墨時(shí)，紫外輻射波長(zhǎng)為280nm~385nm，照射3~15分鐘；形成保護(hù)油墨層時(shí)，采用熱固化處理或者紫外線固化處理，采用熱固化處理時(shí)，在140℃~260℃熱處理5~15分鐘固化；采用紫外固化油墨時(shí)，紫外輻射波長(zhǎng)為280nm~385nm，照射3~15分鐘。
優(yōu)選地，在不導(dǎo)電高反射膜層上形成印刷油墨圖案層之前還包括：對(duì)不導(dǎo)電高反射膜層進(jìn)行等離子體處理，電壓1000~1200伏，氣壓10-1~10-2pa。
本發(fā)明提出的防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃，不導(dǎo)電防紫外線膜層為金屬氧化物膜層與非晶硅膜層形成的復(fù)合膜層，在避免降解高分子或有機(jī)油墨的同時(shí)保護(hù)油墨不被外界紫外線降解或老化，實(shí)現(xiàn)了對(duì)油墨層的防紫外線功能。本裝飾玻璃的紫外線截止率為100%，且鍍制的膜層與油墨結(jié)合牢固。另外，通過(guò)合理控制不導(dǎo)電底膜層、不導(dǎo)電防紫外線膜層和不導(dǎo)電高反射膜層的厚度，使玻璃反射率在15%~35%之間可調(diào)。通過(guò)反射可見光來(lái)掩蓋印刷圖案的邊部鋸齒狀，使印刷圖案呈現(xiàn)精細(xì)紋理。當(dāng)裝飾玻璃大于10cm距離處，人眼通過(guò)非鍍膜和非印刷的玻璃面觀測(cè)不到印刷紋理邊部的鋸齒形狀。本發(fā)明提出的裝飾玻璃可廣泛應(yīng)用于家電、家居和建筑等使用裝飾玻璃的領(lǐng)域，鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)，印刷油墨圖案達(dá)到gb/t29757-2013彩晶裝飾玻璃要求。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中，1、玻璃基板；2、不導(dǎo)電底膜層；3、不導(dǎo)電防紫外線膜層；4、不導(dǎo)電高反射膜層；5、印刷油墨圖案層；6、保護(hù)油墨層。
本發(fā)明目的的實(shí)現(xiàn)、功能特點(diǎn)及優(yōu)點(diǎn)將結(jié)合實(shí)施例，參照附圖做進(jìn)一步說(shuō)明。
具體實(shí)施方式
應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。
本發(fā)明提出一種防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃。
參照?qǐng)D1，一種防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃，包括玻璃基板1以及依次設(shè)置于玻璃基板1上的不導(dǎo)電底膜層2、不導(dǎo)電防紫外線膜層3、不導(dǎo)電高反射膜層4、印刷油墨圖案層5以及保護(hù)油墨層6，其中，
不導(dǎo)電底膜層2為siox膜層，x=1~2，膜層厚度5nm~25nm；不導(dǎo)電防紫外線膜層3為金屬氧化物膜層與非晶硅膜層形成的復(fù)合膜層，膜層總厚度90nm～156nm；不導(dǎo)電高反射膜層4為氧化不銹鋼膜層、氮化硅膜層或氮氧化硅膜層，膜層總厚度110nm～220nm。
金屬氧化物為氧化鈰、氧化鈮、氧化鋯、氧化錫、氧化鎢或氧化鎳。為高分子有機(jī)油墨層。不導(dǎo)電高反射膜層4為氧化不銹鋼膜層、氮化硅膜層或氮氧化硅膜層，是因?yàn)椴牧闲铦M足和非晶硅相容、膨脹匹配，不導(dǎo)電高反射膜層4的光學(xué)帶隙小于3.1ev以截止紫外線。
不導(dǎo)電高反射膜層4的折射率為1.8~2.2。
本發(fā)明在此提出幾個(gè)具體實(shí)施例。
實(shí)施例1
本實(shí)施例中，siox膜層厚度為5nm，不導(dǎo)電防紫外線膜層3中沉積的非晶硅的厚度為30nm，沉積的氧化鈰膜層、氧化鈮膜層、氧化鋯膜層、氧化錫膜層、氧化鎢膜層或氧化鎳膜層的厚度為70nm，不導(dǎo)電高反射膜層4厚度為110nm。
印刷油墨圖案層5為高分子有機(jī)白色油墨圖案層。
實(shí)施例2
本實(shí)施例中，siox膜層厚度為10nm，不導(dǎo)電防紫外線膜層3中沉積的非晶硅的厚度為50nm，沉積的氧化鈰膜層、氧化鈮膜層、氧化鋯膜層、氧化錫膜層、氧化鎢膜層或氧化鎳膜層的厚度為80nm，不導(dǎo)電高反射膜層4厚度為140nm。
印刷油墨圖案層5為高分子有機(jī)黃色油墨圖案層。
實(shí)施例3
本實(shí)施例中，siox膜層厚度為15nm，不導(dǎo)電防紫外線膜層3中沉積的非晶硅的厚度為40nm，沉積的氧化鈰膜層、氧化鈮膜層、氧化鋯膜層、氧化錫膜層、氧化鎢膜層或氧化鎳膜層的厚度為90nm，不導(dǎo)電高反射膜層4厚度為170nm。
印刷油墨圖案層5為高分子有機(jī)綠色油墨圖案層。
實(shí)施例4
本實(shí)施例中，siox膜層厚度為20nm，不導(dǎo)電防紫外線膜層3中沉積的非晶硅的厚度為40nm，沉積的氧化鈰膜層、氧化鈮膜層、氧化鋯膜層、氧化錫膜層、氧化鎢膜層或氧化鎳膜層的厚度為106nm，不導(dǎo)電高反射膜層4厚度為190nm。
印刷油墨圖案層5為高分子有機(jī)橙黃色油墨圖案層。
實(shí)施例5
本實(shí)施例中，siox膜層厚度為20nm，不導(dǎo)電防紫外線膜層3中沉積的非晶硅的厚度為40nm，沉積的氧化鈰膜層、氧化鈮膜層、氧化鋯膜層、氧化錫膜層、氧化鎢膜層或氧化鎳膜層的厚度為106nm，當(dāng)不導(dǎo)電高反射膜層4為氧化不銹鋼膜層或氮化硅膜層時(shí)，其厚度為190nm，當(dāng)不導(dǎo)電高反射膜層4為氮氧化硅膜層時(shí)，其厚度為210nm。
印刷油墨圖案層5為高分子有機(jī)紫紅色油墨圖案層。
實(shí)施例6
本實(shí)施例中，siox膜層厚度為20nm，不導(dǎo)電防紫外線膜層3中沉積的非晶硅的厚度為40nm，沉積的氧化鈰膜層、氧化鈮膜層、氧化鋯膜層、氧化錫膜層、氧化鎢膜層或氧化鎳膜層的厚度為106nm，當(dāng)不導(dǎo)電高反射膜層4為氧化不銹鋼膜層或氮化硅膜層時(shí)，其厚度為190nm，當(dāng)不導(dǎo)電高反射膜層4為氮氧化硅膜層時(shí)，其厚度為210nm。
印刷油墨圖案層5為高分子有機(jī)紅色油墨圖案層。
實(shí)施例7
本實(shí)施例中，siox膜層厚度為25nm，不導(dǎo)電防紫外線膜層3中沉積的非晶硅的厚度為45nm，沉積的氧化鈰膜層、氧化鈮膜層、氧化鋯膜層、氧化錫膜層、氧化鎢膜層或氧化鎳膜層的厚度為111nm，當(dāng)不導(dǎo)電高反射膜層4為氧化不銹鋼膜層或氮化硅膜層時(shí)，其厚度為220nm，當(dāng)不導(dǎo)電高反射膜層4為氮氧化硅膜層時(shí)，其厚度為120nm。
印刷油墨圖案層5為高分子有機(jī)黑色油墨圖案層。
本發(fā)明提出的防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃，不導(dǎo)電防紫外線膜層3為金屬氧化物膜層與非晶硅膜層形成的復(fù)合膜層，在避免降解高分子或有機(jī)油墨的同時(shí)保護(hù)油墨不被外界紫外線降解或老化，實(shí)現(xiàn)了對(duì)油墨層的防紫外線功能。本裝飾玻璃的紫外線截止率為100%，且鍍制的膜層與油墨結(jié)合牢固。另外，通過(guò)合理控制不導(dǎo)電底膜層2、不導(dǎo)電防紫外線膜層3和不導(dǎo)電高反射膜層4的厚度，使玻璃反射率在15%~35%之間可調(diào)（非鍍膜玻璃的浮法玻璃的可見光反射率是8%）。通過(guò)反射可見光來(lái)掩蓋印刷圖案的邊部鋸齒狀，使印刷圖案呈現(xiàn)精細(xì)紋理。當(dāng)裝飾玻璃大于10cm距離處，人眼通過(guò)非鍍膜和非印刷的玻璃面觀測(cè)不到印刷紋理邊部的鋸齒形狀。本發(fā)明提出的裝飾玻璃可廣泛應(yīng)用于家電、家居和建筑等使用裝飾玻璃的領(lǐng)域，鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)，印刷油墨圖案達(dá)到gb/t29757-2013彩晶裝飾玻璃要求。
本發(fā)明進(jìn)一步提出一種防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃的制備方法。
本優(yōu)選實(shí)施例中，一種防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃的制備方法，包括以下步驟：
步驟s10，在真空室中采用磁控濺射工藝鍍制不導(dǎo)電底膜層；
步驟s20，在不導(dǎo)電底膜層上采用磁控濺射工藝鍍制不導(dǎo)電防紫外線膜層；
步驟s30，在不導(dǎo)電防紫外線膜層上采用磁控濺射工藝鍍制不導(dǎo)電高反射膜層;
步驟s40，在不導(dǎo)電高反射膜層上形成印刷油墨圖案層；
步驟s50，在印刷油墨圖案層上形成保護(hù)油墨層。
步驟s10中，鍍制不導(dǎo)電底膜層的操作條件為：在真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例5~15%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材進(jìn)行磁控濺射。
步驟s20具體包括：
在真空箱體中，使用氬氣為工作氣體，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材沉積得到非晶硅膜層；
空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15~25%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純金屬鎢、純金屬鈮、純金屬鋯、純金屬錫、純金屬鎳、氧化鈰、氧化鎢、氧化鈮、氧化鋯、氧化錫或氧化鎳做靶材。
步驟s30中，鍍制不導(dǎo)電高反射膜層的操作條件為：
當(dāng)不導(dǎo)電高反射膜層為氧化不銹鋼膜層或氮化硅膜層時(shí)，在真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15~25%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用304不銹鋼、純硅或硅硼做靶材沉積得到氧化不銹鋼膜層或氮化硅膜層；
當(dāng)不導(dǎo)電高反射膜層為氮氧硅膜層時(shí)，真空箱體中，氧氣和氮?dú)饬髁勘壤?~15%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材沉積得到氮氧硅膜層。
具體地，在不導(dǎo)電防紫外線膜層上形成印刷油墨圖案層的方法為絲網(wǎng)印刷、熱轉(zhuǎn)印、uv轉(zhuǎn)印、噴繪或打印。當(dāng)采用uv轉(zhuǎn)印時(shí)，其效率高，且沒有絲印的網(wǎng)格印。步驟s40中，形成印刷油墨圖案層時(shí)采用熱固化處理或者紫外線固化處理，采用熱固化處理時(shí)，在140℃~260℃熱處理5~15分鐘固化；采用紫外固化油墨時(shí)，紫外輻射波長(zhǎng)為280nm~385nm，照射3~15分鐘。在紫外固化油墨時(shí)采取上述參數(shù)是因?yàn)榭梢越档蜔峁袒哪茉茨芎?；如波長(zhǎng)再短，實(shí)驗(yàn)中發(fā)現(xiàn)玻璃變色，產(chǎn)生色差。步驟s50中，形成保護(hù)油墨層時(shí)，采用熱固化處理或者紫外線固化處理，采用熱固化處理時(shí)，在140℃~260℃熱處理5~15分鐘固化；采用紫外固化油墨時(shí)，紫外輻射波長(zhǎng)為280nm~385nm，照射3~15分鐘。
另外，在步驟s40之前還包括不導(dǎo)電高反射膜層還需要進(jìn)行等離子體處理，電壓1000~1200伏，氣壓10-1~10-2pa。否則，由于膜層太致密光滑，油墨圖案層容易剝落。
本發(fā)明在此提出幾個(gè)具體實(shí)施例。
實(shí)施例8
本實(shí)施例提出實(shí)施例1所述的防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃的制備方法。
具體操作如下：
一、在玻璃的一面依次鍍膜
鍍制siox底層膜：真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例5~15%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅、或硅硼做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度5nm。
二、鍍制不導(dǎo)電防紫外線膜層和不導(dǎo)電高反射膜層
2.1鍍制非晶硅膜層：真空箱體中，氬氣做工作氣體，濺射氣壓為（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材，沉積的膜層厚度30nm。
2.2鍍制氧化鈰膜層、氧化鎢膜層、氧化鈮膜層、氧化鋯膜層、氧化錫膜層或氧化鎳膜層：真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15~25%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純金屬鎢、純金屬鈮、純金屬鋯、純金屬錫、純金屬鎳、氧化鈰、氧化鎢、氧化鈮、氧化鋯、氧化錫或氧化鎳做靶材，沉積的膜層厚度70nm；
2.3鍍制不導(dǎo)電高反射膜層
真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15~25%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用304不銹鋼、純硅或硅硼做靶材，沉積氧化不銹鋼膜層或氮化硅膜層，沉積的膜層厚度110nm；
或鍍制氮氧硅膜層：真空箱體中，氧氣和氮?dú)饬髁勘壤?~15%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材，沉積的氮氧硅膜層厚度110nm。
二、在不導(dǎo)電高反射膜層上印刷高分子有機(jī)白色油墨紋理圖案
1、印刷的工藝可以是絲網(wǎng)印刷、熱/uv轉(zhuǎn)印、噴繪/打印等。
2、印刷油墨圖案層進(jìn)行熱固化處理或者紫外線固化處理：低溫固化油墨印刷的玻璃，在140℃~260℃熱處理5~15分鐘固化；紫外線固化處理時(shí)，紫外輻射波長(zhǎng)280nm~385nm，照射3-15分鐘；
3、在油墨圖案層上印刷一層保護(hù)油墨層
當(dāng)熱固化處理時(shí)，低溫固化印刷在油墨圖案上的保護(hù)油墨層，在140℃~260℃熱處理5~15分鐘固化；紫外線固化處理時(shí)，紫外輻射波長(zhǎng)280nm~385nm，照射3-15分鐘。
得到的防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃結(jié)構(gòu)為：
玻璃基板/氧化硅膜/不導(dǎo)電防紫外線膜層/不導(dǎo)電高反射膜層/印刷油墨圖案層/保護(hù)油墨層
此時(shí)，鍍膜后裝飾玻璃的可見光波長(zhǎng)范圍金屬光澤反射率18%，紫外線截止率100%，理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。印刷油墨圖案復(fù)合gb/t29757-2013彩晶裝飾玻璃，距離裝飾玻璃>10cm處，人眼觀測(cè)不到印刷紋理邊部的鋸齒形狀，得到一種防紫外線精細(xì)紋理圖案的鍍膜印刷復(fù)合裝飾玻璃。
實(shí)施例9
本實(shí)施例提出實(shí)施例2所述的防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃的制備方法。
具體操作如下：
一、在玻璃的一面依次鍍膜
鍍制siox底層膜：真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例5~15%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度10nm。
二、鍍制不導(dǎo)電防紫外線膜層和不導(dǎo)電高反射膜層
2.1鍍制非晶硅膜層：真空箱體中，氬氣做工作氣體，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材，沉積的膜層厚度50nm。
2.2鍍制氧化鈰膜層、氧化鎢膜層、氧化鈮膜層、氧化鋯膜層、氧化錫膜層或氧化鎳膜層：真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15~25%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純金屬鎢、純金屬鈮、純金屬鋯、純金屬錫、純金屬鎳、氧化鈰、氧化鎢、氧化鈮、氧化鋯、氧化錫或氧化鎳做靶材，沉積的膜層厚度80nm；
2.3鍍制不導(dǎo)電高反射膜層
真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15~25%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用304不銹鋼、純硅或硅硼做靶材，沉積氧化不銹鋼膜層或氮化硅膜層，沉積的膜層厚度140nm；
或鍍制氮氧硅膜層：真空箱體中，氧氣和氮?dú)饬髁勘壤?~15%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材，沉積的氮氧硅膜層厚度140nm。
二、在不導(dǎo)電高反射膜層上印刷高分子有機(jī)黃色油墨紋理圖案
1、印刷的工藝可以是絲網(wǎng)印刷、熱轉(zhuǎn)印、uv轉(zhuǎn)印、噴繪或打印等。
2、印刷油墨圖案層進(jìn)行熱固化處理或者紫外線固化處理：低溫固化油墨印刷的玻璃，在140℃~260℃熱處理5~15分鐘固化；紫外線固化處理時(shí)，紫外輻射波長(zhǎng)280nm~385nm，照射3-15分鐘；
3、在油墨圖案層上印刷一層保護(hù)油墨層
當(dāng)熱固化處理時(shí)，低溫固化印刷在油墨圖案上的保護(hù)油墨層，在140℃~260℃熱處理5~15分鐘固化；紫外線固化處理時(shí)，紫外輻射波長(zhǎng)280nm~385nm，照射3-15分鐘。
得到的防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃結(jié)構(gòu)為：
玻璃基板/氧化硅膜/不導(dǎo)電防紫外線膜層/不導(dǎo)電高反射膜層/印刷油墨圖案層/保護(hù)油墨層
此時(shí)，鍍膜后裝飾玻璃的可見光波長(zhǎng)范圍金屬光澤反射率24%，紫外線截止率100%，理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。印刷油墨圖案復(fù)合gb/t29757-2013彩晶裝飾玻璃，距離裝飾玻璃>10cm處，人眼觀測(cè)不到印刷紋理邊部的鋸齒形狀，得到一種防紫外線精細(xì)紋理圖案的鍍膜印刷復(fù)合裝飾玻璃。
實(shí)施例10
本實(shí)施例提出實(shí)施例3所述的防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃的制備方法。
具體操作如下：
一、在玻璃的一面依次鍍膜
鍍制siox底層膜：真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例5~15%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度15nm。
二、鍍制不導(dǎo)電防紫外線膜層和不導(dǎo)電高反射膜層
2.1鍍制非晶硅膜層：真空箱體中，氬氣做工作氣體，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材，沉積的膜層厚度40nm。
2.2鍍制氧化鈰膜層、氧化鎢膜層、氧化鈮膜層、氧化鋯膜層、氧化錫膜層或氧化鎳膜層：真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15~25%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純金屬鎢、純金屬鈮、純金屬鋯、純金屬錫、純金屬鎳、氧化鈰、氧化鎢、氧化鈮、氧化鋯、氧化錫或氧化鎳做靶材，沉積的膜層厚度90nm；
2.3鍍制不導(dǎo)電高反射膜層
真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15~25%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用304不銹鋼、純硅或硅硼做靶材，沉積氧化不銹鋼膜層或氮化硅膜層，沉積的膜層厚度170nm；
或鍍制氮氧硅膜層：真空箱體中，氧氣和氮?dú)饬髁勘壤?~15%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材，沉積的氮氧硅膜層厚度170nm。
二、在不導(dǎo)電高反射膜層上印刷高分子有機(jī)綠色油墨紋理圖案
1、印刷的工藝可以是絲網(wǎng)印刷、熱轉(zhuǎn)印、uv轉(zhuǎn)印、噴繪或打印等。
2、印刷油墨圖案層進(jìn)行熱固化處理或者紫外線固化處理：低溫固化油墨印刷的玻璃，在140℃~260℃熱處理5~15分鐘固化；紫外線固化處理時(shí)，紫外輻射波長(zhǎng)280nm~385nm，照射3-15分鐘；
3、在油墨圖案層上印刷一層保護(hù)油墨層
當(dāng)熱固化處理時(shí)，低溫固化印刷在油墨圖案上的保護(hù)油墨層，在140℃~260℃熱處理5~15分鐘固化；紫外線固化處理時(shí)，紫外輻射波長(zhǎng)280nm~385nm，照射3-15分鐘。
得到的防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃結(jié)構(gòu)為：
玻璃基板/氧化硅膜/不導(dǎo)電防紫外線膜層/不導(dǎo)電高反射膜層/印刷油墨圖案層/保護(hù)油墨層
此時(shí)，鍍膜后裝飾玻璃的可見光波長(zhǎng)范圍金屬光澤反射率29%，紫外線截止率100%，理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。印刷油墨圖案復(fù)合gb/t29757-2013彩晶裝飾玻璃，距離裝飾玻璃>10cm處，人眼觀測(cè)不到印刷紋理邊部的鋸齒形狀，得到一種防紫外線精細(xì)紋理圖案的鍍膜印刷復(fù)合裝飾玻璃。
實(shí)施例11
本實(shí)施例提出實(shí)施例4所述的防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃的制備方法。
具體操作如下：
一、在玻璃的一面依次鍍膜
鍍制siox底層膜：真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例5~15%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度20nm。
二、鍍制不導(dǎo)電防紫外線膜層和不導(dǎo)電高反射膜層
2.1鍍制非晶硅膜層：真空箱體中，氬氣做工作氣體，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材，沉積的膜層厚度40nm。
2.2鍍制氧化鈰膜層、氧化鎢膜層、氧化鈮膜層、氧化鋯膜層、氧化錫膜層或氧化鎳膜層：真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15~25%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純金屬鎢、純金屬鈮、純金屬鋯、純金屬錫、純金屬鎳、氧化鈰、氧化鎢、氧化鈮、氧化鋯、氧化錫或氧化鎳做靶材，沉積的膜層厚度106nm；
2.3鍍制不導(dǎo)電高反射膜層
真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15~25%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用304不銹鋼、純硅或硅硼做靶材，沉積氧化不銹鋼膜層或氮化硅膜層，沉積的膜層厚度190nm；
或鍍制氮氧硅膜層：真空箱體中，氧氣和氮?dú)饬髁勘壤?~15%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材，沉積的氮氧硅膜層厚度190nm。
二、在不導(dǎo)電高反射膜層上印刷高分子有機(jī)橙黃色油墨紋理圖案
1、印刷的工藝可以是絲網(wǎng)印刷、熱轉(zhuǎn)印、uv轉(zhuǎn)印、噴繪或打印等。
2、印刷油墨圖案層進(jìn)行熱固化處理或者紫外線固化處理：低溫固化油墨印刷的玻璃，在140℃~260℃熱處理5~15分鐘固化；紫外線固化處理時(shí)，紫外輻射波長(zhǎng)280nm~385nm，照射3-15分鐘；
3、在油墨圖案層上印刷一層保護(hù)油墨層
當(dāng)熱固化處理時(shí)，低溫固化印刷在油墨圖案上的保護(hù)油墨層，在140℃~260℃熱處理5~15分鐘固化；紫外線固化處理時(shí)，紫外輻射波長(zhǎng)280nm~385nm，照射3-15分鐘。
得到的防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃結(jié)構(gòu)為：
玻璃基板/氧化硅膜/不導(dǎo)電防紫外線膜層/不導(dǎo)電高反射膜層/印刷油墨圖案層/保護(hù)油墨層
此時(shí)，鍍膜后裝飾玻璃的可見光波長(zhǎng)范圍金屬光澤反射率31%，紫外線截止率100%，理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。印刷油墨圖案復(fù)合gb/t29757-2013彩晶裝飾玻璃，距離裝飾玻璃>10cm處，人眼觀測(cè)不到印刷紋理邊部的鋸齒形狀，得到一種防紫外線精細(xì)紋理圖案的鍍膜印刷復(fù)合裝飾玻璃。
實(shí)施例12
本實(shí)施例提出實(shí)施例5所述的防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃的制備方法。
具體操作如下：
一、在玻璃的一面依次鍍膜
鍍制siox底層膜：真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例5~15%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度20nm。
二、鍍制不導(dǎo)電防紫外線膜層和不導(dǎo)電高反射膜層
2.1鍍制非晶硅膜層：真空箱體中，氬氣做工作氣體，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材，沉積的膜層厚度40nm。
2.2鍍制氧化鈰膜層、氧化鎢膜層、氧化鈮膜層、氧化鋯膜層、氧化錫膜層或氧化鎳膜層：真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15~25%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純金屬鎢、純金屬鈮、純金屬鋯、純金屬錫、純金屬鎳、氧化鈰、氧化鎢、氧化鈮、氧化鋯、氧化錫或氧化鎳做靶材，沉積的膜層厚度106nm；
2.3鍍制不導(dǎo)電高反射膜層
真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15~25%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用304不銹鋼、純硅或硅硼做靶材，沉積氧化不銹鋼膜層或氮化硅膜層，沉積的膜層厚度190nm；
或鍍制氮氧硅膜層：真空箱體中，氧氣和氮?dú)饬髁勘壤?~15%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材，沉積的氮氧硅膜層厚度210nm。
二、在不導(dǎo)電高反射膜層上印刷高分子有機(jī)紫紅色油墨紋理圖案
1、印刷的工藝可以是絲網(wǎng)印刷、熱轉(zhuǎn)印、uv轉(zhuǎn)印、噴繪或打印等。
2、印刷油墨圖案層進(jìn)行熱固化處理或者紫外線固化處理：低溫固化油墨印刷的玻璃，在140℃~260℃熱處理5~15分鐘固化；紫外線固化處理時(shí)，紫外輻射波長(zhǎng)280nm~385nm，照射3-15分鐘；
3、在油墨圖案層上印刷一層保護(hù)油墨層
當(dāng)熱固化處理時(shí)，低溫固化印刷在油墨圖案上的保護(hù)油墨層，在140℃~260℃熱處理5~15分鐘固化；紫外線固化處理時(shí)，紫外輻射波長(zhǎng)280nm~385nm，照射3-15分鐘。
得到的防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃結(jié)構(gòu)為：
玻璃基板/氧化硅膜/不導(dǎo)電防紫外線膜層/不導(dǎo)電高反射膜層/印刷油墨圖案層/保護(hù)油墨層
此時(shí)，鍍膜后裝飾玻璃的可見光波長(zhǎng)范圍金屬光澤反射率32%，紫外線截止率100%，理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。印刷油墨圖案復(fù)合gb/t29757-2013彩晶裝飾玻璃，距離裝飾玻璃>10cm處，人眼觀測(cè)不到印刷紋理邊部的鋸齒形狀，得到一種防紫外線精細(xì)紋理圖案的鍍膜印刷復(fù)合裝飾玻璃。
實(shí)施例13
本實(shí)施例提出實(shí)施例6所述的防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃的制備方法。
具體操作如下：
一、在玻璃的一面依次鍍膜
鍍制siox底層膜：真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例5~15%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度20nm。
二、鍍制不導(dǎo)電防紫外線膜層和不導(dǎo)電高反射膜層
2.1鍍制非晶硅膜層：真空箱體中，氬氣做工作氣體，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材，沉積的膜層厚度40nm。
2.2鍍制氧化鈰膜層、氧化鎢膜層、氧化鈮膜層、氧化鋯膜層、氧化錫膜層或氧化鎳膜層：真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15~25%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純金屬鎢、純金屬鈮、純金屬鋯、純金屬錫、純金屬鎳、氧化鈰、氧化鎢、氧化鈮、氧化鋯、氧化錫或氧化鎳做靶材，沉積的膜層厚度106nm；
2.3鍍制不導(dǎo)電高反射膜層
真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15~25%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用304不銹鋼、純硅或硅硼做靶材，沉積氧化不銹鋼膜層或氮化硅膜層，沉積的膜層厚度190nm；
或鍍制氮氧硅膜層：真空箱體中，氧氣和氮?dú)饬髁勘壤?~15%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材，沉積的氮氧硅膜層厚度210nm。
二、在不導(dǎo)電高反射膜層上印刷高分子有機(jī)紅色油墨紋理圖案
1、印刷的工藝可以是絲網(wǎng)印刷、熱轉(zhuǎn)印、uv轉(zhuǎn)印、噴繪或打印等。
2、印刷油墨圖案層進(jìn)行熱固化處理或者紫外線固化處理：低溫固化油墨印刷的玻璃，在140℃~260℃熱處理5~15分鐘固化；紫外線固化處理時(shí)，紫外輻射波長(zhǎng)280nm~385nm，照射3-15分鐘；
3、在油墨圖案層上印刷一層保護(hù)油墨層
當(dāng)熱固化處理時(shí)，低溫固化印刷在油墨圖案上的保護(hù)油墨層，在140℃~260℃熱處理5~15分鐘固化；紫外線固化處理時(shí)，紫外輻射波長(zhǎng)280nm~385nm，照射3-15分鐘。
得到的防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃結(jié)構(gòu)為：
玻璃基板/氧化硅膜/不導(dǎo)電防紫外線膜層/不導(dǎo)電高反射膜層/印刷油墨圖案層/保護(hù)油墨層
此時(shí)，鍍膜后裝飾玻璃的可見光波長(zhǎng)范圍金屬光澤反射率32%，紫外線截止率100%，理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。印刷油墨圖案復(fù)合gb/t29757-2013彩晶裝飾玻璃，距離裝飾玻璃>10cm處，人眼觀測(cè)不到印刷紋理邊部的鋸齒形狀，得到一種防紫外線精細(xì)紋理圖案的鍍膜印刷復(fù)合裝飾玻璃。
實(shí)施例14
本實(shí)施例提出實(shí)施例7所述的防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃的制備方法。
具體操作如下：
一、在玻璃的一面依次鍍膜
鍍制siox底層膜：真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例5~15%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度25nm。
二、鍍制不導(dǎo)電防紫外線膜層和不導(dǎo)電高反射膜層
2.1鍍制非晶硅膜層：真空箱體中，氬氣做工作氣體，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材，沉積的膜層厚度45nm。
2.2鍍制氧化鈰膜層、氧化鎢膜層、氧化鈮膜層、氧化鋯膜層、氧化錫膜層或氧化鎳膜層：真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15~25%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純金屬鎢、純金屬鈮、純金屬鋯、純金屬錫、純金屬鎳、氧化鈰、氧化鎢、氧化鈮、氧化鋯、氧化錫或氧化鎳做靶材，沉積的膜層厚度111nm；
2.3鍍制不導(dǎo)電高反射膜層
真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例15~25%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用304不銹鋼、純硅或硅硼做靶材，沉積氧化不銹鋼膜層或氮化硅膜層，沉積的膜層厚度220nm；
或鍍制氮氧硅膜層：真空箱體中，氧氣和氮?dú)饬髁勘壤?~15%，濺射氣壓（2.5~4.5）×10-1pa，用純硅或硅硼做靶材，沉積的氮氧硅膜層厚度120nm。
二、在不導(dǎo)電高反射膜層上印刷高分子有機(jī)黑色油墨紋理圖案
1、印刷的工藝可以是絲網(wǎng)印刷、熱轉(zhuǎn)印、uv轉(zhuǎn)印、噴繪或打印等。
2、印刷油墨圖案層進(jìn)行熱固化處理或者紫外線固化處理：低溫固化油墨印刷的玻璃，在140℃~260℃熱處理5~15分鐘固化；紫外線固化處理時(shí)，紫外輻射波長(zhǎng)280nm~385nm，照射3-15分鐘；
3、在油墨圖案層上印刷一層保護(hù)油墨層
當(dāng)熱固化處理時(shí)，低溫固化印刷在油墨圖案上的保護(hù)油墨層，在140℃~260℃熱處理5~15分鐘固化；紫外線固化處理時(shí)，紫外輻射波長(zhǎng)280nm~385nm，照射3-15分鐘。
得到的防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃結(jié)構(gòu)為：
玻璃基板/氧化硅膜/不導(dǎo)電防紫外線膜層/不導(dǎo)電高反射膜層/印刷油墨圖案層/保護(hù)油墨層
此時(shí)，鍍膜后裝飾玻璃的可見光波長(zhǎng)范圍金屬光澤反射率35%，紫外線截止率100%，理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。印刷油墨圖案復(fù)合gb/t29757-2013彩晶裝飾玻璃，距離裝飾玻璃>10cm處，人眼觀測(cè)不到印刷紋理邊部的鋸齒形狀，得到一種防紫外線精細(xì)紋理圖案的鍍膜印刷復(fù)合裝飾玻璃。
本發(fā)明提出的制備防紫外線且具有精細(xì)紋理圖案的裝飾玻璃的制備方法，其工藝簡(jiǎn)單、方法成熟。
以上僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說(shuō)明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。