本發(fā)明涉及一種低透過率低反射率的雙銀低輻射玻璃。

背景技術(shù)：

低輻射玻璃又稱Low-E玻璃，是通過磁控真空濺射的方法，在優(yōu)質(zhì)浮法玻璃表面均勻地鍍上特殊的金屬膜系。低輻射玻璃從性能上主要分為單銀Low-E、雙銀Low-E和三銀Low-E，分別是在優(yōu)質(zhì)浮法玻璃表面鍍上氮化硅、氧化鋅、氧化錫等介質(zhì)薄膜和銀等功能薄膜，從而達(dá)到所需要的光學(xué)性能和視覺顏色效果。

雙銀Low-E玻璃主要在玻璃表面上利用磁控濺射法沉積多層膜材,在多層膜層材料中沉積兩層以上的純銀基材而成的高性能玻璃制品。雙銀Low-E具有高可見光透射率、極高的遠(yuǎn)紅外線反射率，該種覆蓋雙銀層的雙銀Low-E低輻射鍍膜玻璃可將98％以上的遠(yuǎn)紅外熱輻射反射回去，可使玻璃的輻射率E值由0.84以上降低到0.15以下，其遮陽(yáng)系數(shù)SC可根據(jù)工程需要在0.2～0.7之間變動(dòng)。根據(jù)試驗(yàn)?zāi)M對(duì)比，在冬季在線低輻射鍍膜玻璃要比雙銀Low-E玻璃增加約40％的熱量損失；相對(duì)夏天在線低輻射鍍膜玻璃比雙銀Low-E鍍膜玻璃增加20％的熱量透過。

現(xiàn)有雙銀低輻射玻璃產(chǎn)品，其玻璃基體上的鍍?cè)O(shè)的膜層結(jié)構(gòu)通常為氮化硅(氧化錫)/氧化鋅/銀/鎳鉻/氮化硅(氧化錫)/氧化鋅/銀/鎳鉻/氮化硅。為降低城市光污染，降低玻璃產(chǎn)品的反射率，通常會(huì)選擇減少銀或者鎳鉻厚度，但是在降低反射率的同時(shí)，透過率增高、遮陽(yáng)系數(shù)增大，選擇系數(shù)降低，無(wú)法滿足部分幕墻對(duì)玻璃產(chǎn)品的性能要求。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是提供一種低透過率低反射率的雙銀低輻射玻璃，從而使得玻璃產(chǎn)品兼具低反射率與低透過率性能。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是：一種低透過率低反射率的雙銀低輻射玻璃，包括玻璃基體和鍍?cè)O(shè)在所述玻璃基體上的復(fù)合膜層，所述復(fù)合膜層由第一介質(zhì)層、第一吸收阻擋層、第二介質(zhì)層、第一功能層、第二功能層、第二吸收阻擋層、第三介質(zhì)層、第三功能層、第三吸收阻擋層、第四介質(zhì)層自所述玻璃基體的表面向外依次層疊而成，其中，所述的第一功能層、第三功能層分別為Ag層，所述第二功能層為Cu層，所述第一介質(zhì)層的厚度為0～30nm；第一吸收阻擋層的厚度為1～5nm；第二介質(zhì)層的厚度為10～50nm；第一功能層的厚度為1～10nm；第二功能層的厚度為1～10nm；第二吸收阻擋層的厚度為1～10nm；第三介質(zhì)層的厚度為40～100nm；第三功能層的厚度為5～15nm；第三吸收阻擋層的厚度為1～10nm；第四介質(zhì)層的厚度為20～100nm。

優(yōu)選地，所述第二功能層的厚度為5～8nm。

進(jìn)一步地，所述第一功能層的厚度為3～6nm，第三功能層的厚度為11～13nm。

優(yōu)選地，所述第一介質(zhì)層、第二介質(zhì)層、第三介質(zhì)層、第四介質(zhì)層為氧化鋅層或氮化硅層。

進(jìn)一步地，所述第一介質(zhì)層、第二介質(zhì)層、第三介質(zhì)層均為氧化鋅層，所述第四介質(zhì)層為氮化硅層。

進(jìn)一步地，所述第四介質(zhì)層為氮化硅層，且其厚度為35～45nm。

優(yōu)選地，所述第一吸收阻擋層、第二吸收阻擋層及第三吸收阻擋層均為鎳鉻層。

進(jìn)一步地，所述第二吸收阻擋層與第三吸收阻擋層均為1～2nm。

作為一種優(yōu)選的實(shí)施方式，所述復(fù)合膜層由自所述玻璃基體的表面向外依次層疊的氧化鋅層/鎳鉻層/氧化鋅層/銀層/銅層/鎳鉻層/氧化鋅層/銀層/鎳鉻層/氮化硅層組成，該復(fù)合膜層中各膜層的厚度分別為15.5nm/3.3nm/38.5nm/3.1nm/5.1nm/1.8nm/78.9nm/11.2nm/1.2nm/42.2nm。

作為另一種優(yōu)選的實(shí)施方式，所述復(fù)合膜層由自所述玻璃基體的表面向外依次層疊的鎳鉻層/氧化鋅層/銀層/銅層/鎳鉻層/氧化鋅層/銀層/鎳鉻層/氮化硅層組成，該復(fù)合膜層中各膜層的厚度分別為2.6nm/41.7nm/5.1nm/7.1nm/1.0nm/80.6nm/12.2nm/1.8nm/39.2nm。

由于上述技術(shù)方案的運(yùn)用，本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn)：本發(fā)明的一種低透過率低反射率的雙銀低輻射玻璃，其中通過在玻璃基體上鍍?cè)O(shè)新型結(jié)構(gòu)的復(fù)合膜層而獲得新型的玻璃產(chǎn)品，該玻璃產(chǎn)品的反射率基本上能夠達(dá)到8％以下，而透過率在45％以下的超低反低透效果。這相比現(xiàn)有技術(shù)而言，其在進(jìn)一步降低反射率的同時(shí)，還大幅地降低了透過率，使得玻璃產(chǎn)品的綜合性能得到了整體提升，以滿足幕墻玻璃的使用性能需求。

附圖說明

附圖1為本發(fā)明的雙銀低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體的實(shí)施例來(lái)對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案作進(jìn)一步的闡述。

參見圖1所示，本發(fā)明的雙銀低輻射玻璃，其包括玻璃基體100和鍍?cè)O(shè)在玻璃基體100上的復(fù)合膜層200，該復(fù)合膜層200由第一介質(zhì)層1、第一吸收阻擋層2、第二介質(zhì)層3、第一功能層4、第二功能層5、第二吸收阻擋層6、第三介質(zhì)層7、第三功能層8、第三吸收阻擋層9、第四介質(zhì)層10自所述玻璃基體100的表面向外依次層疊而成。加工時(shí)，復(fù)合膜層200上的各膜層則是按照先后順序依次通過磁控濺射的方式鍍?cè)O(shè)在玻璃基體100上的。

該復(fù)合膜層200中，第一功能層4與第三功能層8采用的均為Ag層，而第二功能層5采用的為Cu層。第一功能層4的厚度為1～10nm，優(yōu)選厚度范圍為3～6nm；第二功能層5的厚度為1～10nm，優(yōu)選厚度范圍為5～8nm；第三功能層5的厚度為5～15nm；優(yōu)選厚度范圍為11～13nm。

該復(fù)合膜層200中，第一介質(zhì)層1、第二介質(zhì)層3、第三介質(zhì)層7、第四介質(zhì)層10可以為氧化鋅層，也可以為氮化硅層。優(yōu)選地，第一介質(zhì)層1、第二介質(zhì)層3、第三介質(zhì)層7均采用氧化鋅層，而第四介質(zhì)層10采用具有保護(hù)作用的氮化硅層。第一介質(zhì)層1的厚度范圍選用0～30nm；第二介質(zhì)層3的厚度范圍選用10～50nm；第三介質(zhì)層7的厚度范圍選用40～100nm；第四介質(zhì)層10的厚度范圍選用20～100nm，該第四介質(zhì)層10的厚度范圍優(yōu)選35～45nm。

該復(fù)合膜層200中，第一吸收阻擋層2、第二吸收阻擋層6及第三吸收阻擋層9均為鎳鉻層。第一吸收阻擋層2的厚度范圍選用1～5nm；第二吸收阻擋層6的厚度范圍選用1～10nm；第三吸收阻擋層9的厚度范圍選用1～10nm；其中，第二吸收阻擋層6與第三吸收阻擋層9的優(yōu)選厚度范圍均為1～2nm。

以下給出本發(fā)明優(yōu)選的實(shí)施例予以說明：

實(shí)施例1

參見表1所示為該實(shí)施例的雙銀低輻射玻璃上復(fù)合膜層200的具體結(jié)構(gòu)及各膜層的厚度值：

表1

注：表1中的x為正數(shù)。

將上述的膜層按照相應(yīng)厚度依次鍍?cè)O(shè)至玻璃基體100上，得到雙銀低輻射玻璃產(chǎn)品，經(jīng)測(cè)量，該玻璃產(chǎn)品的反射率為7.27，透過率為41。

實(shí)施例2

參見表1所示為該實(shí)施例的雙銀低輻射玻璃上復(fù)合膜層200的具體結(jié)構(gòu)及各膜層的厚度值：

表2

注：表1中的x為正數(shù)。

將上述的膜層按照相應(yīng)厚度依次鍍?cè)O(shè)至玻璃基體100上，得到雙銀低輻射玻璃產(chǎn)品，經(jīng)測(cè)量，該玻璃產(chǎn)品的反射率為7.89，透過率為40.5。

而現(xiàn)有技術(shù)中的玻璃產(chǎn)品，為實(shí)現(xiàn)低反射率的效果，透過率無(wú)法做低，其最好的也只能達(dá)到反射率11、透過率71的結(jié)果。

無(wú)疑，采用本發(fā)明技術(shù)方案獲得的玻璃產(chǎn)品，相比現(xiàn)有技術(shù)在進(jìn)一步降低反射率的同時(shí)，還大幅地降低了透過率。該玻璃產(chǎn)品的反射率基本上能夠達(dá)到8％以下，而透過率在45％以下的超低反低透效果。

上述實(shí)施例只為說明本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人士能夠了解本發(fā)明的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施，并不能以此限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。凡根據(jù)本發(fā)明精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。