本實(shí)用新型涉及一種包含多個(gè)金屬層或金屬合金層的可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃，特別是含有金屬銅及其特定合金層的可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃。
背景技術(shù)：
目前的雙銀低輻射鍍膜玻璃及其中空制品具有理想的隔熱保溫性能以及合理的市場(chǎng)價(jià)格，已經(jīng)在國(guó)內(nèi)外的各類(lèi)建筑中廣泛被采用?？筛邷?zé)崽幚淼牡洼椛溴兡げＡЭ梢赃M(jìn)行彎形處理，因此能更好的表達(dá)建筑的外形設(shè)計(jì)理念，另一方面也可以較明顯的降低生產(chǎn)加工的成本，因而是市面上較為常見(jiàn)的一類(lèi)產(chǎn)品。盡管采用可剛化鍍膜玻璃的新近建筑在遠(yuǎn)距離觀(guān)察時(shí)顏色各異，但在近距離上，都呈現(xiàn)較為明顯的、統(tǒng)一的藍(lán)綠或黃綠色(透射光的色度值a*＜-5，b*＞5)，難以彰顯其先進(jìn)感。因此，隨著審美角度的不斷轉(zhuǎn)變，市場(chǎng)對(duì)鍍膜產(chǎn)品的透過(guò)色的需求也變得多樣化，顯然一種透射光顏色為中性色(的色度值5＞a*＞-5，5＞b*＞-5)的可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃產(chǎn)品是有較強(qiáng)的市場(chǎng)需求的。
造成可鋼化鍍膜產(chǎn)品透過(guò)色明顯偏綠的原因在于，其所施鍍的復(fù)合納米膜層需要經(jīng)受較長(zhǎng)時(shí)間的高溫(以常見(jiàn)的單室鋼化爐為例，玻璃溫度約670℃，受熱時(shí)長(zhǎng)平均7分鐘)。因此在膜層材料必須采用足夠的保護(hù)層(如氮化硅SiNx及鎳鉻合金層NiCr來(lái)對(duì)低輻射銀層進(jìn)行保護(hù)。這些保護(hù)層對(duì)綠光有選擇性的透過(guò)，并進(jìn)一步的導(dǎo)致市面上常見(jiàn)的可鋼化雙銀鍍膜產(chǎn)品透過(guò)色的顏色呈淡綠色，(透過(guò)色a*＜-5)。為了改變這一現(xiàn)象，鍍膜玻璃產(chǎn)品在產(chǎn)品透過(guò)色的實(shí)現(xiàn)上一般可以通過(guò)選用不同折射率的材料，或/并選取有特殊選擇吸收材料來(lái)對(duì)產(chǎn)品的透過(guò)色進(jìn)行修正。但如前所述，可鋼化鍍膜玻璃的材料選擇范圍上較為有限，需要盡量的避免氧化物材料，防止其中的氧原子在高溫下向Ag層中擴(kuò)散并造成氧化斑。當(dāng)必須引入氧化物材料時(shí)，必須保證氧化物材料 呈現(xiàn)必須的缺氧態(tài)，同時(shí)在A(yíng)g層和氧化物介質(zhì)層之間添加保護(hù)層。相比而言，在可鋼化雙銀膜層中引入選擇性吸收材料則更加簡(jiǎn)便易行。然而，以往技術(shù)中即使引入選擇性吸收材料，也需要能夠圓滿(mǎn)解決抗氧化能力的問(wèn)題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本實(shí)用新型所解決的技術(shù)問(wèn)題是，以往技術(shù)中當(dāng)引入金屬銅或銅合金作為選擇性吸收材料的情況下，雖然金屬銅或銅合金層其納米膜層的透過(guò)色呈暖色調(diào)能中和現(xiàn)有可鋼化雙銀產(chǎn)品的透過(guò)色，但是仍然存在可鋼化雙銀產(chǎn)品在高溫鋼化過(guò)程中抗氧化能力不足的問(wèn)題，特別是當(dāng)銅有多個(gè)價(jià)位(+1和+2)的情況下，少量的氧原子遷移也會(huì)引起膜層的高溫氧化破壞。因此，不同金屬層的位置設(shè)置及其對(duì)應(yīng)的鍍膜工藝要求也必需根據(jù)可鋼化這一原則來(lái)設(shè)立。
具體來(lái)說(shuō)，本實(shí)用新型為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，提供了如下技術(shù)方案：
一種中性色雙銀低輻射鍍膜玻璃，其在玻璃基板上設(shè)有雙層低輻射銀或銀合金層，其特征在于，在玻璃基板上以此向外設(shè)有第一介質(zhì)保護(hù)層、第一電介質(zhì)層、第一金屬保護(hù)層、第一低輻射銀或銀合金層、銅或銅合金層、第二金屬保護(hù)層、第二電介質(zhì)層、第三金屬保護(hù)層、第二低輻射銀或銀合金層、第四金屬保護(hù)層和第三電介質(zhì)保護(hù)層和第二介質(zhì)保護(hù)層。
優(yōu)選地，其中，所述第一電介質(zhì)保護(hù)層、第二電介質(zhì)保護(hù)層和/或第三電介質(zhì)保護(hù)層分別包括二層或三層以上組成相同或不同的電介質(zhì)保護(hù)層。
優(yōu)選地，其中，第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層或第三電介質(zhì)層中的任一所述電介質(zhì)層為氧化鋅/氧化鋁復(fù)合層、氧化鋅/氧化錫復(fù)合層、氮化硅/氮化鋁層、氧化鈮層、或氮化硅/氧化鋯復(fù)合層中的任一種；其中，更優(yōu)選地，第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層和第三電介質(zhì)層厚度分別為，10-20nm、70-110nm和10-25nm。
優(yōu)選地，其中，所述第一和第二介質(zhì)保護(hù)層為氮化硅/氮化鋁復(fù)合層，或者含氧化錫或含氧化鋁的氧化鋅層。
優(yōu)選地，其中所述第一介質(zhì)保護(hù)層或第二介質(zhì)保護(hù)層為組成相同或不同的二層或二層以上構(gòu)成的致密層。還更優(yōu)選地，所述第一介質(zhì)保護(hù)層的厚度為 15-30nm，進(jìn)一步優(yōu)選18-25nm；并且第二介質(zhì)保護(hù)層的厚度為20-35nm，進(jìn)一步優(yōu)選為22-25nm。
優(yōu)選地，其中，所述第一和第二介質(zhì)保護(hù)層為含氧化錫或含氧化鋁的氧化鋅層情況下，其中所述氧化鋅與錫的重量比例為50：50-98:2，所述氧化鋅與鋁的重量比例為95:5-98：2。
優(yōu)選地，其中，所述第二電介質(zhì)保護(hù)層包括4層電介質(zhì)保護(hù)層，所述4層電介質(zhì)保護(hù)層其組成從第二金屬保護(hù)層開(kāi)始依次分別為：氧化鋅/氧化鋁復(fù)合物層、氧化鋅/氧化錫復(fù)合物層、氧化鋅/氧化錫復(fù)合物層、和氧化鋅/氧化鋁復(fù)合物層；或者依次分別為：氧化鋅/氧化鋁復(fù)合物層、氮化硅/氮化鋁復(fù)合物層、氮化硅/氮化鋁復(fù)合物層、和氧化鋅/氧化鋁復(fù)合物層；或者依次分別為：氧化鋅/氧化鋁復(fù)合物層、氮化硅/氮化鋁復(fù)合物層、氮化硅/氮化鋁復(fù)合物層和氧化鋅/氧化鋁復(fù)合物層；或者依次分別為:氧化鋅/氧化錫復(fù)合物層、氮化硅/氮化鋁復(fù)合物層、氮化硅/氮化鋁復(fù)合物層、和氧化鋅/氧化鋁復(fù)合物層；或者依次分別為：氧化鋅/錫復(fù)合物層、氧化鈮層、氮化硅/氮化鋁復(fù)合物層、和氧化鋅/氧化錫復(fù)合物層。
優(yōu)選地，其中，所述第一低輻射銀合金層或第二低輻射銀合金層為Ag-Cu合金層或Ag-Au合金層。進(jìn)一步，優(yōu)選Ag-Cu合金層中以重量計(jì)Ag：Cu＝90:10-50:50，優(yōu)選Ag-Au合金層中以重量計(jì)Ag：Au＝80:20-60:40。
優(yōu)選地，其中，所述銅合金層為Ag-Cu合金層。進(jìn)一步優(yōu)選Ag-Cu合金層中以重量計(jì)Ag：Cu＝50:50-20:80；更優(yōu)選，所述Ag：Cu重量比為50:50。
優(yōu)選地，其中，第一金屬保護(hù)層、第二金屬保護(hù)層、第三金屬保護(hù)層和第四金屬保護(hù)層各自為Ni-Cr合金，優(yōu)選地各自厚度分別為0.5-2nm，更優(yōu)選Ni-Cr合金為Ni和Cr重量比例為50:50-80:20。
優(yōu)選地，其中，第一金屬保護(hù)層、第二金屬保護(hù)層、第三金屬保護(hù)層和第四金屬保護(hù)層各自厚度分別為0.5-2.0nm，0.5-1.2nm，進(jìn)一步優(yōu)選為0.7-1.2nm，更優(yōu)選1.0-1.2nm。優(yōu)選地，其中，第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層和第三電介質(zhì)層中厚度分別為10-20nm、70-110nm和10-25nm，進(jìn)一步優(yōu)選分別為15-20nm、80-100nm和15-20nm。
優(yōu)選地，其中第二電介質(zhì)層為2層或3層或3層以上構(gòu)成，總厚度為70-110nm，并且優(yōu)選為4層構(gòu)成。
優(yōu)選地，其中，第一低輻射銀或銀合金層厚度為1-15nm，優(yōu)選為2.0-8nm，更優(yōu)選為7-8nm；第二低輻射銀或銀合金層厚度為10-20nm，優(yōu)選為12-15nm。
優(yōu)選地，其中，所述銅或銅合金層厚度為1-15nm，優(yōu)選5-15nm，更優(yōu)選5-6nm。
優(yōu)選地，其中所述玻璃基板為浮法平板玻璃或浮法平板超白玻璃。
再者，本實(shí)用新型還提供上述的雙銀低輻射鍍膜玻璃的制備方法，將玻璃基板清洗后，送入鍍膜設(shè)備，在低真空的環(huán)境下，分別按照前述膜層的順序，在氬氣Ar和氮?dú)釴2的混合氣氛中由交流中頻電源驅(qū)動(dòng)設(shè)備濺射Si靶材獲得含氮化硅膜層，在氬氣Ar和O2的混合氣氛中由交流中頻電源驅(qū)動(dòng)設(shè)備濺射Al/ZnO或Sn/ZnO靶材獲得氧化鋅/氧化鋁復(fù)合膜或氧化鋅/氧化錫復(fù)合膜層，在A(yíng)r氣和氧氣O2的混合氣氛中由中頻直流電源或交流電源驅(qū)動(dòng)濺射N(xiāo)b金屬靶材或Nb2O3靶材獲得Nb2O3膜層；Ar氣和氧氣O2的混合氣氛中由中頻直流電源或交流電源驅(qū)動(dòng)濺射ZrOx靶材獲得氧化鋯膜層；在氬氣Ar的條件下，分別濺射金屬Cu或Cu的合金，金屬Ag或Ag的合金，以及NiCr合金，分別獲得所述各層。
優(yōu)選地，其中，所述電介質(zhì)層濺射形成步驟中，在氣壓2X10-3-5X10-3mbar下，濺射氣氛為Ar和氧氣體積比0.8:1.1-1.1:0.9、優(yōu)選1:1的氣氛下形成氧化鋅/氧化鋁或氧化鋅/氧化錫層，或者濺射氣氛為Ar和氮?dú)怏w積比0.8:1.1-1.1:0.9、優(yōu)選1:1的氣氛下形成氮化硅氮化鋁/層。
優(yōu)選地，其中，所述第一介質(zhì)保護(hù)層和第二介質(zhì)保護(hù)層形成過(guò)程中的濺射功率為30-60kw/h，優(yōu)選32-55kw/h；
所述第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層和第三電介質(zhì)層形成過(guò)程中的濺射功率為15-60kw/h，優(yōu)選為18-55kw/h。
優(yōu)選地，其中，第一金屬保護(hù)層、第二金屬保護(hù)層、第三金屬保護(hù)層和第四金屬保護(hù)層形成過(guò)程中的濺射功率為1.5-2.2Kw/h。
優(yōu)選地，其中，第一低輻射含銀或銀合金層與第二低輻射含銀或銀合金 層形成過(guò)程中的濺射功率為2-10Kw/h；中性色銅或銅合金層形成步驟中的濺射功率為3-12Kw/h。
對(duì)于本實(shí)用新型通過(guò)基于多個(gè)金屬及金屬合金層的可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃而言，進(jìn)一步的，通過(guò)以上多個(gè)金屬層及相關(guān)連的非金屬膜層在相應(yīng)厚度區(qū)間內(nèi)的組合，該種低輻射鍍膜玻璃所實(shí)現(xiàn)的透過(guò)色是中性色調(diào)的，即其產(chǎn)品的透過(guò)光的色度值-5＜a*＜5，-5＜b*＜5。
本實(shí)用新型所提供的一種基于多個(gè)金屬及金屬合金層的可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃其優(yōu)點(diǎn)在于，含有多保護(hù)金屬膜層將易氧化的低輻射金屬層/中性色金屬層與含有氧的氧化物電介質(zhì)層隔離開(kāi)來(lái)，因而可以經(jīng)受玻璃深加工時(shí)的高溫鋼化工序。
本實(shí)用新型所提供的一種基于多個(gè)金屬及金屬合金層的可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃其優(yōu)點(diǎn)在于，其經(jīng)過(guò)高溫鋼化之后的透過(guò)光的顏色呈現(xiàn)中性效果，整體外觀(guān)呈現(xiàn)中性至淺藍(lán)色效果。
附圖說(shuō)明
圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例1-3所制備的雙銀低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中符號(hào)說(shuō)明：
101-第一介質(zhì)保護(hù)層；102-第一電介質(zhì)層；
201-第一金屬保護(hù)層；202-第一低輻射功能層；
203-中性色層；204-第二金屬保護(hù)層；
301-第二電介質(zhì)層；401-第三金屬保護(hù)層；
402-第二低輻射功能層；403-第四金屬保護(hù)層；
501-第三電介質(zhì)層；502-第二介質(zhì)保護(hù)層。
具體實(shí)施方式
在本實(shí)用新型的一種優(yōu)選實(shí)施方案中，本實(shí)用新型提供一種基于多個(gè)金屬及金屬合金層的可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃，其結(jié)構(gòu)自玻璃基板向外依次為：
1)第一介質(zhì)保護(hù)層；2)第一電介質(zhì)層；3)第一保護(hù)金屬層；4)第一 低輻射金屬層；5)中性色銅層或銅合金層；6)第二金屬保護(hù)層；7-9)第二電介質(zhì)層；10)第三金屬保護(hù)層；11)第二低輻射金屬層；12)第四金屬保護(hù)層；13)第三電介質(zhì)層；14)第二介質(zhì)保護(hù)層。
如圖1所示，是本實(shí)用新型的雙銀低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。其中，第一介質(zhì)保護(hù)層101通常采用氮化硅SiNx，含錫或含鋁的氧化鋅(Sn：ZnO或Al：ZnO)來(lái)形成附著于玻璃表面的覆層，其中以氮化硅SiNx作為介質(zhì)保護(hù)層時(shí)可以含有少量乃至微量的氮化鋁，當(dāng)以含錫或含鋁的氧化鋅形成介質(zhì)保護(hù)層時(shí)通常是氧化鋅(主要成分)和氧化錫(少量或微量成分)的復(fù)合物或者氧化鋅(主要成分)和氧化鋁(少量或微量成分)的復(fù)合物形式；其作用在于隔離玻璃基板表面所附著的羥基，并通過(guò)O-Si-N，或O-Zn-O的強(qiáng)化學(xué)鍵將膜層與玻璃緊密結(jié)合起來(lái)，同時(shí)致密的膜層結(jié)構(gòu)能有效的隔離玻璃基板中的Na向膜層中游離。進(jìn)一步的，第一介質(zhì)保護(hù)層的厚度為15-30nm。
第一電介質(zhì)層102通常采用含錫或含鋁的氧化鋅(優(yōu)選以Sn：ZnO或Al：ZnO作為靶材，其中Al作為靶材濺射用導(dǎo)電助劑)形成氧化鋅和少量氧化鋁的復(fù)合物層，也可以采用氧化鈮Nb2O3等穩(wěn)定金屬價(jià)態(tài)的高折射氧化形成電介質(zhì)層。進(jìn)一步的，第一電介質(zhì)層的厚度為10-20nm。
第一金屬保護(hù)層201通常采用鎳鉻(Ni：Cr)重量比為50：50或80：20的合金。設(shè)置金屬保護(hù)層的作用在于，采用價(jià)態(tài)穩(wěn)定的還原性金屬與含氧的電介質(zhì)層中高溫遷徙的游離氧結(jié)合，阻止期對(duì)低輻射金屬層或中性色銅層所可能造成的破壞。進(jìn)一步的，第一保護(hù)金屬層的厚度為0.5-2nm。
第一低輻射金屬層202可以采用純金屬銀Ag，或金屬銀與其他貴金屬的合金，如AgCu(重量比Ag：Cu＝90：10-50：50)或AgAu(組分比Ag：Au＝80：20-60：40)。進(jìn)一步的，第一低輻射金屬層的厚度為1-15nm。在某些情況下甚至可以用銅層作為低輻射金屬層形成低輻射鍍膜玻璃。
第一中性色銅層或銅合金層203可以采用純金屬銅Cu或金屬銅與金屬銀的合金AgCu(重量比Ag：Cu＝50：50-20：80)。進(jìn)一步的，第一中性色層的厚度為1-15nm。
第二金屬保護(hù)層204通常采用鎳鉻(Ni：Cr)重量比為50：50或80：20的合金。進(jìn)一步的，第二保護(hù)金屬層的厚度為0.5-2nm。
第二電介質(zhì)層301通常采用含錫或含鋁的氧化鋅(優(yōu)選采用Sn：ZnO或Al：ZnO作為靶材，其中少量的Sn或Al為濺射用導(dǎo)電助劑)形成氧化鋅為主和少量氧化鋁的復(fù)合物或者氧化鋅為主和少量氧化錫的復(fù)合物層，也可以采用氧化鈮Nb2O3等穩(wěn)定金屬價(jià)態(tài)的高折射氧化層。進(jìn)一步的，第二電介質(zhì)層的厚度為70-110nm。更進(jìn)一步的，第二電介質(zhì)層可以是多種電解質(zhì)材料對(duì)稱(chēng)組合而成的、總厚度近似的復(fù)合膜層，如Al2O3：ZnO/SiNx/Al2O3：ZnO，或SnO：ZnO/SiNx/SnO：ZnO，以及SnO：ZnO/Nb2O3/SnO：ZnO等。
第三金屬保護(hù)層401通常采用鎳鉻(Ni：Cr)重量比為50：50或80：20的合金。
進(jìn)一步的，第三保護(hù)金屬層的厚度為0.5-2nm。
第二低輻射金屬層402可以采用純金屬銀Ag。進(jìn)一步的，第二低輻射金屬層的厚度為10-20nm。
進(jìn)一步的，第四保護(hù)金屬層403通常采用鎳鉻(Ni：Cr)重量比為50：50或80：20的合金。進(jìn)一步的，第四保護(hù)金屬層的厚度為0.5-2nm。
進(jìn)一步的，第三電介質(zhì)層501通常采用含錫或含鋁的氧化鋅(優(yōu)選以Sn：ZnO復(fù)合物或Al：ZnO復(fù)合物作為靶材，其中少量鋁為濺射形成過(guò)程中的導(dǎo)電助劑)形成氧化鋅和少量氧化鋁的復(fù)合物層。進(jìn)一步的，第三電介質(zhì)層的厚度為10-25nm。
進(jìn)一步的，第二介質(zhì)保護(hù)層502可以采用氮化硅SiNx等致密惰性耐高溫材料形成氮化硅層，其中該層可以含有少量不影響其性能的氮化鋁。進(jìn)一步的，第二介質(zhì)保護(hù)層的厚度為20-35nm。
更進(jìn)一步的，第二介質(zhì)保護(hù)層可以是總厚度接近的、且由兩種致密堅(jiān)硬材料組成的復(fù)合膜層，如SiN/ZrO復(fù)合膜，所述復(fù)合膜中可以根據(jù)需要含有少量氮化鋁等。
本實(shí)用新型還提供一種基于多個(gè)金屬及金屬合金層的可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃的制備工藝：
平板玻璃基片通過(guò)終道去離子水清洗后并由風(fēng)刀刮凈表面水分之后，進(jìn)入工業(yè)化平板玻璃磁控濺射常規(guī)鍍膜設(shè)備腔體內(nèi)部并保持勻速前進(jìn)。在10-1-10-3mbar、優(yōu)選2X10-3-5X10-3mbar的低真空的環(huán)境下，分別按照前述膜 層的順序，在氬氣Ar和氮?dú)釴2的混合氣氛中由交流中頻電源驅(qū)動(dòng)設(shè)備濺射Si靶材獲得氮化硅膜層，在氬氣Ar和少量氧氣O2的混合氣氛中由交流中頻電源驅(qū)動(dòng)設(shè)備濺射Al：ZnO或Sn：ZnO靶材獲得氧化鋅鋁或氧化鋅錫膜層，在A(yíng)r氣和氧氣O2的混合氣氛中由中頻直流電源或交流電源驅(qū)動(dòng)濺射N(xiāo)b金屬靶材或Nb2O3靶材獲得Nb2O3膜層；Ar氣和氧氣O2的混合氣氛中由中頻直流電源或交流電源驅(qū)動(dòng)濺射ZrOx靶材獲得氧化鋯膜層。在氬氣Ar的條件下，分別濺射金屬Cu或Cu的合金，金屬Ag或Ag的合金，以及NiCr合金。分別獲得中性色層銅或合金銅層、低輻射金屬銀層或銀合金層，以及保護(hù)金屬層鎳鉻合金層。
進(jìn)一步的，通過(guò)控制各分屬電源的驅(qū)動(dòng)功率，可以對(duì)膜層的厚度進(jìn)行調(diào)節(jié)，從而使得鍍膜半成品在光熱性能以及外觀(guān)色彩的色度值上發(fā)生一系列的變化。
再進(jìn)一步的，通過(guò)一系列必要的玻璃深加工流程，如切割、磨邊、鋼化、均質(zhì)等，工藝獲得最終的基于多個(gè)金屬層的中性色雙銀低輻射鍍膜玻璃。
盡管有一些本實(shí)用新型申請(qǐng)以前已公開(kāi)的專(zhuān)利或申請(qǐng)中，提及了中性色的概念，但是大都未涉及到可高溫鋼化處理這一工藝流程。如公布號(hào)為CN105731826A的申請(qǐng)中，由于不涉及高溫加工過(guò)程中，其在第三氧化層和銅層之間并不需要設(shè)立金屬保護(hù)層。并且，由此造成在金屬層(包括低輻射功能銀層及中性色層銅層)的設(shè)置順序以及厚度上，與本專(zhuān)利有著本質(zhì)不同。公布號(hào)為CN103692728A的授權(quán)專(zhuān)利中也是相似情況。再例如公布號(hào)為CN103625042A的專(zhuān)利申請(qǐng)中，也是將Cu層與氧化物層直接連接以及將第二銀層與氧化物層直接連接。不僅如此，在其提供的兩個(gè)實(shí)施例中，與金屬層相連接的氧化物體層是采用ZnAl合金靶在充足的氧化氣氛(Ar：O2＝60：40)下通過(guò)反應(yīng)濺射所獲得的，在這種工藝情況下，膜層中將含有大量的游離氧，使得后續(xù)高溫鋼化不能實(shí)施，并且最終造成了在色彩的實(shí)現(xiàn)時(shí)關(guān)鍵膜層的厚度有著顯著不同。再例如公布號(hào)為CN102898041A的授權(quán)專(zhuān)利中，其采用中性層為銅鋁合金的含氮化合物，這種情況下，雖然可能有介質(zhì)層中的氧向中性色層中遷移但其影響并不大，此時(shí)阻礙該種玻璃不能進(jìn)行高溫?zé)崽幚淼闹饕蛩卦谟谄溷y層是否有足夠的還原性保護(hù)。更進(jìn)一步的，如CN104786591A中所提及的一種可剛化鍍膜玻璃，其出技術(shù)路線(xiàn)是基于可鋼化構(gòu)架上采用的中性色銀銅合金取代原有的0.3-1.5nm保護(hù)層，以修正玻璃的外反射色。但顯然，與本專(zhuān)利中在可鋼化 構(gòu)架上額外引入一層1-20nm的中性色層以調(diào)節(jié)透過(guò)色這一內(nèi)容相比較，其出發(fā)點(diǎn)、結(jié)果、及由此導(dǎo)致的工藝實(shí)施上都有本質(zhì)不同。另外，專(zhuān)利申請(qǐng)CN104386921A中綜合以上比較，本實(shí)用新型與現(xiàn)有公開(kāi)的這類(lèi)低輻射含銀鍍膜玻璃在第一低輻射銀層與氧化鋅電介質(zhì)層之間還設(shè)置了金屬保護(hù)層，使得本實(shí)用新型能夠在高溫下進(jìn)行熱處理即鋼化處理，本實(shí)用新型與該專(zhuān)利技術(shù)二者具有實(shí)質(zhì)上的不同。綜上所述，本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)中設(shè)置有銅層的雙銀低輻射鍍膜玻璃相比最大區(qū)別在于，設(shè)置了多個(gè)還原性金屬保護(hù)層，對(duì)金屬中性色層進(jìn)行足夠的保護(hù)以使得膜系能經(jīng)受高溫的熱處理過(guò)程。進(jìn)一步的，基于此前提來(lái)設(shè)置不同膜層的厚度關(guān)系，以通過(guò)膜層間的干涉和吸收來(lái)實(shí)現(xiàn)理想的透射色色度值。
另外，本實(shí)用新型人之前的專(zhuān)利申請(qǐng)CN105366960A中雖然也涉及雙銀低輻射鍍膜玻璃，但是該低輻射鍍膜玻璃具體涉及的是外反射色為暖色調(diào)的鍍膜玻璃，該鍍膜玻璃沒(méi)有引入銅層，不能實(shí)現(xiàn)透過(guò)色為中性色，本實(shí)用新型人們經(jīng)過(guò)銳意研究之后，對(duì)該外反射色為暖色調(diào)的鍍膜玻璃制作工藝進(jìn)行了改進(jìn)，引入了銅層，從而得到了高溫下可鋼化的透過(guò)色為中性色的雙銀低輻射鍍膜玻璃。
下面通過(guò)具體制備鍍膜玻璃來(lái)說(shuō)明如何制備本實(shí)用新型的中性色可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃。
具體鍍膜玻璃制備實(shí)施例
實(shí)施例1：
基于多個(gè)金屬及金屬合金層的可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃1#的制備，具體采用市售的6mm浮法平板玻璃通過(guò)如下表1所示的磁控濺射工藝因素及條件來(lái)制備。
表1可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃1#的制備工藝條件
其中，上面表1中采用硅鋁靶材在氬氣和氮?dú)饣旌蠚夥障聻R射形成氮化硅為主同時(shí)含少量氮化鋁的氮化硅/氮化鋁復(fù)合物層作為介質(zhì)保護(hù)層；采用氧化鋅鋁靶材在氬氣和氧氣混合氣氛下濺射形成氧化鋅(主要成分)和氧化鋁(少量)的復(fù)合物層；采用氧化鋅錫靶材在氬氣和氧氣混合氣氛下濺射形成氧化鋅(主要成分)和氧化錫(少量)的復(fù)合物層(后面的實(shí)施例2-3與此相同)；
所獲得的雙銀鍍膜玻璃經(jīng)過(guò)正常的高溫鋼化(約670℃)處理后，輔以12mm厚度鋁框及雙道密封膠并充入干燥空氣，與6mm的普通浮法玻璃組成中空玻璃單元。
參照國(guó)標(biāo)JGJ/151-2008中“玻璃光學(xué)熱工性能計(jì)算”相關(guān)測(cè)定方法(后面實(shí)施例2和3與實(shí)施例1的測(cè)定方法相同)進(jìn)行測(cè)試所述中空玻璃單元的的光熱性能，顏色外觀(guān)可以采用DataColor550色度儀測(cè)定如下：
可見(jiàn)光透過(guò)率(按照J(rèn)GJ/151-2008,第6.1.2節(jié)所述方法測(cè)定)：56％
室外可見(jiàn)光反射率(按照J(rèn)GJ/151-2008,第6.1.3節(jié)所述方法測(cè)定)：15％
室內(nèi)可見(jiàn)光反射率(按照J(rèn)GJ/151-2008,第6.1.3節(jié)所述方法測(cè)定)：13％
外反射光色度值：L*46，a*-1，b*-7。
透過(guò)色光色度值：L*79，a*-4，b*-1。
通過(guò)PekimElmerLamda950(D65，8°，積分球直徑150mm)分光光度計(jì)及Spectrum100紅外光譜儀(金鏡背景)測(cè)定300-2500nm區(qū)間內(nèi)光譜數(shù)據(jù)及2500-30000nm區(qū)間內(nèi)反射光譜，并采用GlazingDesign軟件(廣東省建筑科學(xué)研究院V1.0)計(jì)算其光熱性能(下面實(shí)施例2和3中測(cè)定和計(jì)算方法與實(shí)施例相同)為：
遮蔽系數(shù)：0.36
傳熱系數(shù)：1.69W/m2K
實(shí)施例2：
基于多個(gè)金屬及金屬合金層的可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃2#的制備，具體采用市售的6mm浮法平板玻璃通過(guò)如下表2所示的磁控濺射工藝因素及條件獲得。
表2可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃2#的制備工藝條件
所獲得的雙銀鍍膜玻璃經(jīng)過(guò)正常的高溫鋼化(約670℃)處理后，輔以16mm厚度鋁框及雙道密封膠并充入干燥的氬氣-空氣(90％氬)，與6mm的普通浮法玻璃組成中空玻璃單元。單元的光熱性能及顏色外觀(guān)如下：
可見(jiàn)光透過(guò)率：48％
室外可見(jiàn)光反射率：18％
室內(nèi)可見(jiàn)光反射率：14％
遮蔽系數(shù)：0.32
傳熱系數(shù)：1.48W/m2K
外反射光色度值：L*46，a*0，b*-6。
透過(guò)色光色度值：L*79，a*-4，b*-0。
實(shí)施例3：
基于多個(gè)金屬及金屬合金層的可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃3#的制備，具體采用市售的6mm浮法平板超白玻璃通過(guò)如下表3所示的磁控濺射工藝因素及條件獲得。
表3可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃3#的制備工藝條件
其中，上面表3中采用鋅鋁合金靶材在氬氣和氧氣混合氣氛下濺射形成氧化鋅為主同時(shí)含少量氧化鋁的氧化鋅(ZnO)/氧化鋁(Al2O3)復(fù)合物層作為電介質(zhì)層；
所獲得的雙銀鍍膜玻璃經(jīng)過(guò)正常的高溫鋼化(約670℃)處理后，輔以12mm厚度鋁框及雙道密封膠并充入干燥空氣，與6mm的普通浮法玻璃組成中空玻璃單元。單元的光熱性能及顏色外觀(guān)如下：
可見(jiàn)光透過(guò)率：42％
室外可見(jiàn)光反射率：22％
室內(nèi)可見(jiàn)光反射率：15％
遮蔽系數(shù)：0.27
傳熱系數(shù)：1.70W/m2K
外反射光色度值：L*54，a*2，b*-8。
透過(guò)色光色度值：L*71，a*-5，b*2。
由上面的實(shí)施例1-3可以看出，本實(shí)用新型制備的該種低輻射鍍膜玻璃所實(shí)現(xiàn)的透過(guò)色是中性色調(diào)的，即其產(chǎn)品的透過(guò)光的色度值-5＜a*＜5，-5＜b*＜5。本實(shí)用新型的基于多個(gè)金屬及金屬合金層的可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃通過(guò)多保護(hù)金屬膜層將易氧化的低輻射金屬層/中性色金屬層與含有氧的氧化物電介質(zhì)層隔離開(kāi)來(lái)，因而可以經(jīng)受玻璃深加工時(shí)的高溫鋼化工序。并且，經(jīng)過(guò)高溫鋼化之后的透過(guò)光的顏色呈現(xiàn)中性效果，整體外觀(guān)呈現(xiàn)中性至淺藍(lán)色效果。