技術(shù)特征：

1.硬質(zhì)復(fù)合膜，其特征在于，沉積于基體表面，其中硬質(zhì)復(fù)合膜由類金剛石薄膜和減反膜組成，所述基體的折射率小于所述類金剛石薄膜的折射率，所述基體包括相對(duì)的內(nèi)表面和外表面，所述類金剛石薄膜沉積于基體的外表面一側(cè)，所述減反膜沉積于所述基體的內(nèi)表面和/或類金剛石薄膜與基體之間。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬質(zhì)復(fù)合膜，其特征在于，所述減反膜為選自下述SiO₂、MgF₂和SiN_x中的一種形成的單層膜或至少一種形成的復(fù)合膜。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硬質(zhì)復(fù)合膜，其特征在于，SiO₂減反膜的厚度為5-200nm，在550nm波長(zhǎng)處的折射率為1.4-1.5，消光系數(shù)為0。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硬質(zhì)復(fù)合膜，其特征在于，MgF₂減反膜的厚度為5-200nm，在550nm波長(zhǎng)處的折射率為1.3-1.4，消光系數(shù)為0。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硬質(zhì)復(fù)合膜，其特征在于，SiN_x減反膜的x為1-1.35，厚度為5-200nm，在550nm波長(zhǎng)處的折射率為1.9-2.2，消光系數(shù)為0—1×10^-5。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬質(zhì)復(fù)合膜，其特征在于，所述基體為普通浮法玻璃、石英玻璃、超白玻璃或壓花玻璃。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬質(zhì)復(fù)合膜，其特征在于，所述類金剛石薄膜的厚度為5-50nm，在550nm波長(zhǎng)處的折射率為1.9-2.3，消光系數(shù)為0.1-0.2。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬質(zhì)復(fù)合膜，其特征在于，所述類金剛石薄膜采用物理氣相沉積或化學(xué)氣相沉積方法制備。

9.觸摸屏面板，包括基體和沉積于基體表面的硬質(zhì)復(fù)合膜，所述硬質(zhì)復(fù)合膜為權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的硬質(zhì)復(fù)合膜。