本發(fā)明涉及適合作為各種顯示器用基板玻璃或光掩模用基板玻璃的、基本上不含有堿金屬氧化物且能夠浮法成形的無(wú)堿玻璃。
背景技術(shù)：
以往，對(duì)于各種顯示器用基板玻璃、特別是在表面形成有金屬或氧化物薄膜等的顯示器用基板玻璃，要求以下所示的特性。
(1)含有堿金屬氧化物時(shí)，堿金屬離子擴(kuò)散到薄膜中而使膜特性劣化，因此，要求基本上不含有堿金屬離子。
(2)在薄膜形成工序中暴露于高溫時(shí)，為了能夠?qū)殡S玻璃的變形和玻璃的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定化的收縮(熱收縮)抑制在最低限度，要求應(yīng)變點(diǎn)高。
(3)對(duì)半導(dǎo)體形成中使用的各種化學(xué)品具有充分的化學(xué)耐久性。特別是對(duì)用于SiOx、SiNx的蝕刻的緩沖氫氟酸(BHF：氫氟酸與氟化銨的混合液)和ITO的蝕刻中使用的含有鹽酸的藥液、金屬電極的蝕刻中使用的各種酸(硝酸、硫酸等)、抗蝕劑剝離液的堿具有耐久性。
(4)內(nèi)部和表面沒(méi)有缺陷(氣泡、波筋、夾雜物、凹痕、劃痕等)。
除了上述要求以外，近年來(lái)，還有如下所述的狀況。
(5)要求顯示器的輕量化，期望玻璃本身也是密度小的玻璃。
(6)要求顯示器的輕量化，期望基板玻璃的減薄。
(7)除了迄今為止的非晶硅(a-Si)型液晶顯示器以外，還制作了熱處理溫度稍高的多晶硅(p-Si)型液晶顯示器(a-Si：約350℃→p-Si：350℃～550℃)。
(8)為了加快制作液晶顯示器的熱處理的升溫和降溫速度而提高生產(chǎn)率或者提高耐熱沖擊性，要求玻璃的平均熱膨脹系數(shù)小的玻璃。
另一方面，蝕刻的干化發(fā)展，對(duì)耐BHF性的要求減弱。為了改善耐BHF性，迄今為止的玻璃多使用含有6摩爾％～10摩爾％的B2O3的玻璃。但是，B2O3有使應(yīng)變點(diǎn)降低的傾向。作為不含B2O3或B2O3含量少的無(wú)堿玻璃的例子，有如下所述的玻璃。
專利文獻(xiàn)1中公開了不含有B2O3的SiO2-Al2O3-SrO玻璃，但熔化所需的溫度高，在制造中產(chǎn)生困難。
專利文獻(xiàn)2中公開了含有0摩爾％～5摩爾％的B2O3的玻璃，但50℃～300℃下的平均熱膨脹系數(shù)超過(guò)50×10-7/℃。
為了解決專利文獻(xiàn)1～2中記載的玻璃的問(wèn)題點(diǎn)，提出了專利文獻(xiàn)3中記載的無(wú)堿玻璃。專利文獻(xiàn)3中記載的無(wú)堿玻璃的應(yīng)變點(diǎn)高，能夠通過(guò)浮法進(jìn)行成形，適合于顯示器用基板、光掩模用基板等用途。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1：日本特開昭62-113735號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)2：日本特開平5-232458號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)3：日本特開平10-45422號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)4：國(guó)際公開第2009-066624號(hào)
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
發(fā)明所要解決的問(wèn)題
作為高品質(zhì)的p-Si TFT的制造方法，有固相結(jié)晶化法，但為了實(shí)施該方法，要求進(jìn)一步提高應(yīng)變點(diǎn)。
另一方面，從玻璃制造工藝、特別是熔化、成形中的要求考慮，要求降低玻璃的粘性，具體來(lái)說(shuō)是要求降低玻璃粘度達(dá)到102dPa·s時(shí)的溫度T2和玻璃粘度達(dá)到104dPa·s時(shí)的溫度T4。
另一方面，在中小型的液晶顯示器(LCD)或有機(jī)EL顯示器(OELD)領(lǐng)域，特別是移動(dòng)設(shè)備、數(shù)碼相機(jī)或手機(jī)等便攜式顯示器領(lǐng)域中，顯示器的輕量化、薄型化成為重要課題。為了進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)玻璃基板的減薄，在貼合陣列-濾色片工藝后，廣泛采用對(duì)玻璃基板表面實(shí)施蝕刻處理而使板厚變薄(減薄)的工序。例如，使用含有氫氟酸(HF)的蝕刻液對(duì)玻璃基板的表面進(jìn)行蝕刻處理(以下稱為“氫氟酸蝕刻處理”)，從而進(jìn)行玻璃基板的減薄(參見(jiàn)專利文獻(xiàn)4)。
通過(guò)氫氟酸蝕刻處理減薄玻璃基板時(shí)，要求氫氟酸蝕刻處理時(shí)的蝕刻速度快。
本發(fā)明的目的在于解決上述缺陷，提供應(yīng)變點(diǎn)高、低粘性、具體來(lái)說(shuō)是玻璃粘度達(dá)到102dPa·s時(shí)的溫度T2和玻璃粘度達(dá)到104dPa·s時(shí)的溫度T4低、氫氟酸蝕刻處理時(shí)的蝕刻速度快、且容易浮法成形的無(wú)堿玻璃。
用于解決問(wèn)題的手段
本發(fā)明提供一種無(wú)堿玻璃，其應(yīng)變點(diǎn)為680℃以上，50℃～350℃下的平均熱膨脹系數(shù)為30×10-7～43×10-7/℃，玻璃粘度達(dá)到102dPa·s時(shí)的溫度T2為1670℃以下，玻璃粘度達(dá)到104dPa·s時(shí)的溫度T4為1320℃以下，在含有氫氟酸(HF)的蝕刻液(25℃，5％HF水溶液)中浸漬了20分鐘時(shí)的每單位面積的質(zhì)量減少為3.1mg/cm2以上，并且
以基于氧化物的摩爾％表示，所述無(wú)堿玻璃含有：
MgO+CaO+SrO+BaO為16～22，
(SiO2+Al2O3)/(MgO+CaO+SrO+BaO)為4.7以下，
MgO/CaO為1.05以上，
SrO/CaO為1.05以上，
(MgO+SrO)/(MgO+CaO+SrO+BaO)為0.7以上。
另外，本發(fā)明提供以上所述的無(wú)堿玻璃，其中，以基于氧化物的摩爾％表示，所述無(wú)堿玻璃含有：
MgO+CaO+SrO+BaO為17.5～20，
(SiO2+Al2O3)/(MgO+CaO+SrO+BaO)為4.6以下，
MgO/CaO為1.3以上，
SrO/CaO為1.1以上，
(MgO+SrO)/(MgO+CaO+SrO+BaO)為0.75以上。
另外，本發(fā)明提供以上所述的無(wú)堿玻璃，其中，以基于氧化物的摩爾％表示，所述無(wú)堿玻璃含有：
所述無(wú)堿玻璃基本上不含有BaO，
MgO+CaO+SrO為18～19.5，
(SiO2+Al2O3)/(MgO+CaO+SrO)為4.5以下，
MgO/CaO為2以上，
SrO/CaO為1.15以上，
(MgO+SrO)/(MgO+CaO+SrO)為0.8以上。
發(fā)明效果
本發(fā)明的無(wú)堿玻璃特別適合于高應(yīng)變點(diǎn)用途的顯示器用基板、光掩模用基板等并且為容易浮法成形的玻璃。
具體實(shí)施方式
以下，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)的說(shuō)明，本發(fā)明不限于以下實(shí)施方式，在不脫離本發(fā)明的要旨的范圍內(nèi)，可以進(jìn)行任意變形來(lái)實(shí)施。需要說(shuō)明的是，本說(shuō)明書中，“重量％”和“質(zhì)量％”是相同含義。另外，所謂“～”包含其下限值和上限值，即指的是其下限值以上且為其上限值以下。
對(duì)各成分的組成范圍進(jìn)行說(shuō)明。SiO2低于60％(摩爾％，以下若無(wú)特別說(shuō)明則相同)時(shí)，應(yīng)變點(diǎn)不能充分提高，并且熱膨脹系數(shù)增大，密度升高。優(yōu)選為63％以上，更優(yōu)選為65％以上，進(jìn)一步優(yōu)選為65.5％以上。超過(guò)70％時(shí)，熔化性降低。優(yōu)選為69％以下，更優(yōu)選為68％以下，進(jìn)一步優(yōu)選為67.5％以下。
Al2O3抑制玻璃的分相性，降低熱膨脹系數(shù)，并提高應(yīng)變點(diǎn)，但低于11％時(shí)，不顯示該效果，另外，由于使其它增大膨脹的成分增加，結(jié)果熱膨脹增大。優(yōu)選為11.5％以上，更優(yōu)選為12％以上，進(jìn)一步優(yōu)選為12.5％以上。超過(guò)16％時(shí)，玻璃的熔化性變差。優(yōu)選為15％以下，更優(yōu)選為14％以下，進(jìn)一步優(yōu)選為13.5％以下。
B2O3改善玻璃的熔化反應(yīng)性，因此可以添加大于0％且小于等于1.5％的B2O3。為了得到上述效果，優(yōu)選為0.2％以上，更優(yōu)選為0.5％以上，進(jìn)一步優(yōu)選為0.7％以上。但是，過(guò)多時(shí)應(yīng)變點(diǎn)降低。因此，優(yōu)選為1.4％以下，更優(yōu)選為1.3％以下，進(jìn)一步優(yōu)選為1.2％以下。
MgO在堿土類中具有不增大膨脹且不使應(yīng)變點(diǎn)過(guò)度降低的特性，并且還提高熔化性。
7％以下時(shí)，上述的由添加MgO帶來(lái)的效果不能充分顯示。優(yōu)選為7.5％以上，更優(yōu)選為8％以上，進(jìn)一步優(yōu)選為8.5％以上。但是，超過(guò)12％時(shí)，有可能失透溫度升高。優(yōu)選為11％以下，更優(yōu)選為10％以下，進(jìn)一步優(yōu)選為9.5％以下。
CaO居于MgO之后，在堿土類中具有不增大膨脹且不使應(yīng)變點(diǎn)過(guò)度降低的特性，并且還提高熔化性。因此可以添加大于0％且小于等于7％的CaO。優(yōu)選為1％以上，更優(yōu)選為1.5％以上，進(jìn)一步優(yōu)選為2％以上。但是，超過(guò)7％時(shí)，有可能使作為CaO原料的石灰石(CaCO3)中的作為雜質(zhì)的磷大量混入。優(yōu)選為6％以下，更優(yōu)選為5％以下，進(jìn)一步優(yōu)選為4.5％以下。
SrO使熔化性提高，但為4.5％以下時(shí)，此效果不能充分顯示。優(yōu)選為4.7％以上，更優(yōu)選為4.9％以上，更優(yōu)選為5.0％以上，進(jìn)一步優(yōu)選為5.3％以上。但是，超過(guò)10％時(shí)，有可能膨脹系數(shù)增大。優(yōu)選為9％以下，更優(yōu)選8.5％以下，進(jìn)一步優(yōu)選為8％以下。
BaO不是必需的，但可以為了提高熔化性而含有。但是，過(guò)多時(shí)會(huì)使玻璃的膨脹和密度過(guò)度增加，因此設(shè)定為0.5％以下。優(yōu)選為0.3％以下、更優(yōu)選為0.1％以下，進(jìn)一步優(yōu)選基本上不含有?；旧喜缓兄傅氖浅瞬豢杀苊獾碾s質(zhì)以外不含有。
為了降低玻璃熔融溫度或者為了促進(jìn)燒成時(shí)的晶體析出，可以含有0.5％以下的ZrO2。超過(guò)0.5％時(shí)，玻璃變得不穩(wěn)定或者玻璃的相對(duì)介電常數(shù)ε增大。優(yōu)選為0.3％以下，更優(yōu)選為0.1％以下，特別優(yōu)選基本上不含有。
MgO、CaO、SrO、BaO的總量小于16％時(shí)，熔化性不足。優(yōu)選為17％以上，更優(yōu)選為17.5％以上，進(jìn)一步優(yōu)選為18％以上。多于22％時(shí)，有可能產(chǎn)生無(wú)法減小熱膨脹系數(shù)的難點(diǎn)。優(yōu)選為21％以下，更優(yōu)選20％以下，進(jìn)一步優(yōu)選為19.5％以下。
對(duì)于本發(fā)明的無(wú)堿玻璃而言，通過(guò)使MgO、CaO、SrO和BaO的總量滿足上述并且滿足下述條件，由此可以在不增大熱膨脹系數(shù)的情況下降低玻璃的粘性，具體來(lái)說(shuō)是降低玻璃粘度達(dá)到102dPa·s時(shí)的溫度T2和玻璃粘度達(dá)到104dPa·s時(shí)的溫度T4。
(SiO2+Al2O3)/(MgO+CaO+SrO+BaO)為4.7以下，優(yōu)選為4.6以下，更優(yōu)選4.5以下，進(jìn)一步優(yōu)選為4.4以下。
對(duì)于本發(fā)明的無(wú)堿玻璃而言，通過(guò)滿足下述三個(gè)條件，可以降低玻璃的粘性，特別是玻璃粘度達(dá)到104dPa·s時(shí)的溫度T4，并且氫氟酸蝕刻處理時(shí)的蝕刻速度增大。
MgO/CaO為1.05以上，優(yōu)選為1.3以上，更優(yōu)選1.5以上，進(jìn)一步優(yōu)選為2以上。
SrO/CaO為1.05以上，優(yōu)選為1.08以上，更優(yōu)選為1.1以上，進(jìn)一步優(yōu)選為1.15以上。
(MgO+CaO)/(MgO+CaO+SrO+BaO)為0.7以上，優(yōu)選為0.75以上，更優(yōu)選0.8以上，進(jìn)一步優(yōu)選為0.82以上。
需要說(shuō)明的是，為了在制造面板時(shí)不發(fā)生設(shè)置于玻璃表面的金屬或氧化物薄膜的特性劣化，本發(fā)明的玻璃不含有超過(guò)雜質(zhì)水平的(即，基本上不含有)堿金屬氧化物。另外，出于同樣的理由，優(yōu)選基本上不含有P2O5。此外，為了使玻璃容易再利用，優(yōu)選基本上不含有PbO、As2O3、Sb2O3。
除了上述成分以外，為了改善玻璃的熔化性、澄清性、成形性(浮法成形性)，本發(fā)明的無(wú)堿玻璃可以添加(優(yōu)選可以含有)以總量計(jì)為1％以下的ZnO、Fe2O3、SO3、F、Cl、SnO2等，優(yōu)選為0.9％以下，更優(yōu)選0.8％以下，進(jìn)一步優(yōu)選0.7％以下。優(yōu)選基本上不含有ZnO。
本發(fā)明的無(wú)堿玻璃的應(yīng)變點(diǎn)為680℃以上，因此能夠抑制面板制造時(shí)的熱收縮。另外，可以應(yīng)用固相結(jié)晶化法作為p-Si TFT的制造方法。
本發(fā)明的無(wú)堿玻璃的應(yīng)變點(diǎn)為680℃以上，因此適合于高應(yīng)變點(diǎn)用途(例如，有機(jī)EL用顯示器用基板或照明用基板，或者板厚100μm以下的薄板的顯示器用基板或照明用基板)。
優(yōu)選為690℃以上，更優(yōu)選為700℃以上，進(jìn)一步優(yōu)選為710℃以上。
另外，出于與應(yīng)變點(diǎn)同樣的理由，本發(fā)明的無(wú)堿玻璃的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度優(yōu)選為745℃以上，更優(yōu)選為750℃以上，進(jìn)一步優(yōu)選為755℃以上。
另外，本發(fā)明的無(wú)堿玻璃在50℃～350℃下的平均熱膨脹系數(shù)為30×10-7～43×10-7/℃，耐熱沖擊性強(qiáng)，能夠提高面板制造時(shí)的生產(chǎn)率。本發(fā)明的無(wú)堿玻璃中，50℃～350℃下的平均熱膨脹系數(shù)優(yōu)選為35×10-7/℃以上。50℃～350℃下的平均熱膨脹系數(shù)優(yōu)選為42×10-7/℃以下，更優(yōu)選為41×10-7/℃以下，進(jìn)一步優(yōu)選為40×10-7/℃以下。
此外，本發(fā)明的無(wú)堿玻璃的比重優(yōu)選為2.7以下，更優(yōu)選為2.67以下，進(jìn)一步優(yōu)選為2.65以下。
另外，本發(fā)明的無(wú)堿玻璃的粘度η達(dá)到102泊(dPa·s)時(shí)的溫度T2為1670℃以下，優(yōu)選低于1670℃，優(yōu)選為1665℃以下，更優(yōu)選為1660℃以下，進(jìn)一步優(yōu)選為1655℃以下，因此容易熔化。
此外，本發(fā)明的無(wú)堿玻璃的粘度η達(dá)到104泊(dPa·s)時(shí)的溫度T4為1320℃以下，優(yōu)選低于1320℃，優(yōu)選為1315℃以下，更優(yōu)選為1310℃以下，進(jìn)一步優(yōu)選為1305℃以下，適合于浮法成形。
另外，從容易通過(guò)浮法進(jìn)行成形的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選本發(fā)明的無(wú)堿玻璃的失透溫度為1350℃以下。優(yōu)選為1340℃以下，更優(yōu)選為1330℃以下。
本說(shuō)明書中的失透溫度為如下值：將粉碎后的玻璃粒子放入鉑制的皿中，在控制為一定溫度的電爐中進(jìn)行17小時(shí)的熱處理，熱處理后通過(guò)光學(xué)顯微鏡觀察而得到的、玻璃的表面和內(nèi)部析出晶體的最高溫度與不析出晶體的最低溫度的平均值。
另外，本發(fā)明的無(wú)堿玻璃的楊氏模量?jī)?yōu)選為80GPa以上，進(jìn)一步優(yōu)選為82GPa以上，進(jìn)一步優(yōu)選為84GPa以上。
本發(fā)明的無(wú)堿玻璃通過(guò)下述實(shí)施例所述的步驟測(cè)定得到的收縮率優(yōu)選為120ppm以下。收縮率是指加熱處理時(shí)由玻璃結(jié)構(gòu)的松弛而產(chǎn)生的玻璃熱收縮率。
本發(fā)明的無(wú)堿玻璃通過(guò)下述實(shí)施例所述的步驟測(cè)定的收縮率更優(yōu)選為100ppm以下，進(jìn)一步優(yōu)選為80ppm以下，進(jìn)一步優(yōu)選為60ppm以下，特別優(yōu)選為50ppm以下。
另外，本發(fā)明的無(wú)堿玻璃的光彈性常數(shù)優(yōu)選為31nm/MPa/cm以下。
液晶顯示面板制造工序中或液晶顯示裝置使用時(shí)產(chǎn)生的應(yīng)力使玻璃基板具有雙折射性，由此，有時(shí)確認(rèn)到黑色顯示變成灰色、液晶顯示器的對(duì)比度降低的現(xiàn)象。通過(guò)使光彈性常數(shù)為31nm/MPa/cm以下，能夠?qū)⒃摤F(xiàn)象抑制得較小。優(yōu)選為30nm/MPa/cm以下，更優(yōu)選為29nm/MPa/cm以下，進(jìn)一步優(yōu)選為28.5nm/MPa/cm以下，特別優(yōu)選為28nm/MPa/cm以下。
另外，考慮確保其它物性的容易性時(shí)，本發(fā)明的無(wú)堿玻璃的光彈性常數(shù)優(yōu)選為23nm/MPa/cm以上，更優(yōu)選為25nm/MPa/cm以上。
需要說(shuō)明的是，光彈性常數(shù)可以通過(guò)圓盤壓縮法在測(cè)定波長(zhǎng)546nm下進(jìn)行測(cè)定。
本發(fā)明的無(wú)堿玻璃的、作為氫氟酸蝕刻處理時(shí)的蝕刻速度的指標(biāo)的、在25℃的5質(zhì)量％氫氟酸(HF)水溶液中浸漬了20分鐘時(shí)的每單位面積的質(zhì)量減少為3.1mg/cm2以上。
本發(fā)明的無(wú)堿玻璃例如可以通過(guò)如下方法制造。調(diào)配通常使用的各成分的原料以成為目標(biāo)成分，將其連續(xù)投入到熔化爐中，并加熱至1500℃～1800℃進(jìn)行熔融。將該熔融玻璃通過(guò)浮法或熔融法、優(yōu)選通過(guò)浮法成形為規(guī)定的板厚，并在緩慢冷卻后進(jìn)行切割，由此可以得到平板玻璃。所述成形的規(guī)定板厚優(yōu)選0.7mm以下，更優(yōu)選0.5mm以下，可以為0.3mm以下，也可以為0.1mm以下。
實(shí)施例
以下，例1～12、例15～20為實(shí)施例，例13～14和例21為比較例。調(diào)配各成分的原料以成為目標(biāo)組成，使用鉑坩堝在1500℃～1650℃的溫度下進(jìn)行熔化。在熔化時(shí)，使用鉑攪拌器進(jìn)行攪拌而進(jìn)行玻璃的均質(zhì)化。接下來(lái)使熔化玻璃流出，成形為板狀后進(jìn)行緩慢冷卻。
表1～3中示出玻璃組成(單位：摩爾％)和50℃～350℃下的平均熱膨脹系數(shù)(單位：×10-7/℃)、應(yīng)變點(diǎn)(單位：℃)、玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(單位：℃)、比重、楊氏模量(GPa)(通過(guò)超聲波法測(cè)定)、作為高溫粘性值的、作為熔化性的大致標(biāo)準(zhǔn)的溫度T2(玻璃粘度η達(dá)到102泊時(shí)的溫度，單位：℃)和作為浮法成形性和熔融成形性的大致標(biāo)準(zhǔn)的溫度T4(玻璃粘度η達(dá)到104泊時(shí)的溫度，單位：℃)、失透溫度(單位：℃)、光彈性常數(shù)(單位：nm/MPa/cm)(通過(guò)圓盤壓縮法在測(cè)定波長(zhǎng)546nm下進(jìn)行測(cè)定)、在25℃的5質(zhì)量％氫氟酸(HF)水溶液中浸漬了20分鐘時(shí)的每單位面積的質(zhì)量減少(表中，記為“5％HF浸漬后質(zhì)量減少”。單位：mg/cm2)(通過(guò)下述步驟測(cè)定)、以及收縮率(單位：ppm)。需要說(shuō)明的是，5％HF浸漬后質(zhì)量減少的測(cè)定方法和收縮率的測(cè)定方法如下所述。
[每單位面積的質(zhì)量減少的測(cè)定方法]
調(diào)配各成分的原料以成為表1～3所示的目標(biāo)組成，在連續(xù)熔融爐中進(jìn)行熔化，并通過(guò)浮法進(jìn)行平板成形，從而得到無(wú)堿玻璃基板。將鏡面拋光后切割成40mm見(jiàn)方的無(wú)堿玻璃基板進(jìn)行清洗，然后測(cè)定其質(zhì)量。在25℃的5質(zhì)量％氫氟酸(HF)水溶液中浸漬20分鐘，并測(cè)定浸漬后的質(zhì)量。由樣品尺寸算出表面積，通過(guò)用質(zhì)量減少量除以表面積之后再除以浸漬時(shí)間，從而求出每單位面積和每單位時(shí)間的質(zhì)量減少。
[收縮率的測(cè)定方法]
將玻璃板試樣(用氧化鈰進(jìn)行了鏡面拋光的長(zhǎng)100mm×寬10mm×厚1mm的試樣)在玻璃化轉(zhuǎn)變溫度+100℃的溫度下保持10分鐘，然后以每分鐘40℃冷卻至室溫。在此，測(cè)量試樣的全長(zhǎng)(長(zhǎng)度方向)L1。然后，以每小時(shí)100℃加熱至600℃，在600℃下保持80分鐘，以每小時(shí)100℃冷卻至室溫，再次測(cè)量試樣的全長(zhǎng)L2。將600℃下的熱處理前后的全長(zhǎng)之差(L1－L2)與600℃下的熱處理前的試樣全長(zhǎng)L1的比(L1－L2)/L1作為收縮率。
需要說(shuō)明的是，表1～3中，以括號(hào)表示的值為計(jì)算值，“RO”是指(MgO+CaO+SrO+BaO)。
表1
表2
表3
由表明顯可見(jiàn)，實(shí)施例的玻璃的平均熱膨脹系數(shù)均低至30×10-7～43×10-7/℃，應(yīng)變點(diǎn)均為680℃以上。
作為熔化性的大致標(biāo)準(zhǔn)的溫度T2也低至1670℃以下，容易熔化，作為成形性的大致標(biāo)準(zhǔn)的溫度T4為1320℃以下，容易通過(guò)浮法進(jìn)行成形。
光彈性常數(shù)為31nm/MPa/cm以下，作為液晶顯示器的玻璃基板使用時(shí)可以抑制對(duì)比度的降低。
作為氫氟酸蝕刻處理時(shí)的蝕刻速度的指標(biāo)的、在25℃的5質(zhì)量％氫氟酸(HF)水溶液中浸漬了20分鐘時(shí)的每單位面積的質(zhì)量減少為3.1mg/cm2以上。
參照特定的實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明，在不脫離本發(fā)明的范圍和精神的情況下可以進(jìn)行各種變更、修正，這對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言是顯而易見(jiàn)的。本申請(qǐng)基于2014年4月28日提出的日本專利申請(qǐng)(日本特愿2014-092646)，將其內(nèi)容并入本說(shuō)明書中作為參照。
產(chǎn)業(yè)實(shí)用性
本發(fā)明的無(wú)堿玻璃的應(yīng)變點(diǎn)高，能夠通過(guò)浮法進(jìn)行成形，適合于顯示器用基板、光掩模用基板等用途。另外，也適合于磁盤用基板、太陽(yáng)能電池用基板等用途。