專利名稱：氫化反應器分布器的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種化工反應設備，具體涉及一種氫化反應器分布器。
背景技術：
氫化反應器是四氯化硅轉(zhuǎn)化成三氯氫硅的化工設備，現(xiàn)有技術的氫化反應器的氣體分布器是放在分布器支承圈上，與其直接接觸相連接。氫化反應器的工作溫度高，大約500°C，由于氣體分布器與分布器支承圈直接接觸，氣體發(fā)布器與支承圈之間存在縫隙，高溫氣體會從縫隙中通過，縫隙處將會形成局部高溫，從而使氣體分布器損壞。

實用新型內(nèi)容本實用新型針對現(xiàn)有技術的不足，提供一種能使氣體分布器避免受到局部高溫而損壞的氫化反應器分布器。本實用新型通過下述技術方案實現(xiàn)技術目標。氫化反應器分布器，包括分布器支承圈、氫化反應器分布器，其改進之處在于:所述分布器支承圈和氫化反應器分布器之間設有石墨墊片。本實用新型進一步的技術方案是:所述石墨墊片設在分布器支承圈上端面的環(huán)形槽內(nèi)。本實用新型與現(xiàn)有技術相比，具有以下積極效果:分布器支承圈和氫化反應器分布器之間設有石墨墊片，石墨墊片柔韌性較好，使支承圈與氫化反應器分布器之間不形成縫隙，這樣高溫氣體只能通過分布器上的噴嘴進入反應區(qū)，不會形成局部高溫區(qū)，很好地保護了分布器，延長氫化反應器的使用壽命。

圖1為本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為圖1中的I部分局部放大示意圖。
具體實施方式
下面根據(jù)附圖并結(jié)合實施例對本實用新型作進一步說明。附圖所示的氫化反應器分布器，包括分布器支承圈1、氫化反應器分布器2，支承圈I上端面設有環(huán)形槽內(nèi)，在環(huán)形槽內(nèi)嵌裝石墨墊片3，氫化反應器分布器2放置在石墨墊片3上。分布器支承圈I和氫化反應器分布器2之間設有石墨墊片3，石墨墊片3柔韌性較好，使支承圈I與氫化反應器分布器2之間不形成縫隙，這樣高溫氣體只能通過分布器上的噴嘴進入反應區(qū)，不會形成局部高溫區(qū)，很好地保護了分布器，延長氫化反應器的使用壽命O
權利要求1.一種氫化反應器分布器，包括分布器支承圈(I)、氫化反應器分布器(2)，其特征在于:所述分布器支承圈(I)和氫化反應器分布器(2 )之間設有石墨墊片(3 )。
2.根據(jù)權利要求1所述的氫化反應器分布器，其特征在于:所述石墨墊片(3)設在分布器支承圈(I)上端面的環(huán)形槽內(nèi)。
專利摘要本實用新型公開了一種氫化反應器分布器，包括分布器支承圈、氫化反應器分布器，分布器支承圈和氫化反應器分布器之間設有石墨墊片，進一步的改進石墨墊片設在分布器支承圈上端面的環(huán)形槽內(nèi)。本實用新型分布器支承圈和氫化反應器分布器之間設有石墨墊片，石墨墊片柔韌性較好，使支承圈與氫化反應器分布器之間不形成縫隙，這樣高溫氣體只能通過分布器上的噴嘴進入反應區(qū)，不會形成局部高溫區(qū)，很好地保護了分布器，延長氫化反應器的使用壽命。
文檔編號C01B33/107GK202936206SQ201220506529
公開日2013年5月15日 申請日期2012年9月29日 優(yōu)先權日2012年9月29日
發(fā)明者王國林, 范愛軍, 姜德琪, 林曉宏, 唐永生 申請人:江蘇福斯特石化裝備有限公司