專利名稱：一種氯化氫合成爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種化工反應(yīng)設(shè)備，具體涉及一種氯化氫合成爐。
背景技術(shù)：
氯化氫是一種重要的化工原料，是三氯氫硅合成反應(yīng)中必不可少的原料?，F(xiàn)有的氯化氫合成爐主要有兩種形式金屬合成爐和石墨合成爐。金屬合成爐因為能承受較高的壓力，因此在需要有一定的壓力條件的氯化氫合成爐通常采用金屬合成爐。傳統(tǒng)的氯化氫合成爐是使氯氣和氫氣在爐體底部的燈頭處燃燒，反應(yīng)生成氯化氫氣體。由于高溫的作用， 雖然傳統(tǒng)的氯化氫合成爐在爐體的底部也襯有石墨，但由于結(jié)構(gòu)的不合理，容易引起石墨層開裂，使得反應(yīng)中生成的水(因反應(yīng)的主產(chǎn)物為氯化氫，所以此時的水已變成鹽酸，具有強腐蝕性)直接透過石墨層，與設(shè)備主體接觸，引起設(shè)備本體的早期損壞。

實用新型內(nèi)容實用新型目的本實用新型的目的在于針對現(xiàn)有氯化氫合成爐結(jié)構(gòu)的不合理之處，提供一種底部石墨層不易開裂的氯化氫合成爐，從而大大提高設(shè)備的使用壽命。技術(shù)方案本實用新型所述的氯化氫合成爐，包括爐體和設(shè)置在爐體底部的石墨層，所述石墨層上設(shè)置有石墨層限位圈，所述石墨層限位圈設(shè)置在所述石墨層的上端部，所述石墨層限位圈向內(nèi)部傾斜，呈開口向上的喇叭狀。本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，其有益效果是本實用新型通過在石墨層的上端部設(shè)置一個限位圈，擋住石墨層的端部，能夠有效地防止石墨層因受熱開裂，大大提高了設(shè)備的使用壽命。

圖1為現(xiàn)有的氯化氫合成爐結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本實用新型氯化氫合成爐的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖，對本實用新型技術(shù)方案進行詳細說明，但是本實用新型的保護范圍不局限于所述實施例。實施例如圖2所示，本實用新型所述氯化氫合成爐，包括爐體3和設(shè)置在爐體底部的石墨層1，所述石墨層1上設(shè)置有石墨層限位圈2 ；所述石墨層限位圈2設(shè)置在所述石墨層1的上端部，所述石墨層限位圈2向內(nèi)部傾斜，呈開口向上的喇叭狀。斜向下的石墨層限位圈2擋住石墨層的端部，防止石墨層1因受熱開裂，可大大提高設(shè)備的使用壽命。如上所述，盡管參照特定的優(yōu)選實施例已經(jīng)表示和表述了本實用新型，但其不得解釋為對本實用新型自身的限制。在不脫離所附權(quán)利要求定義的本實用新型的精神和范圍前提下，可對其在形式上和細節(jié)上作出各種變化。
權(quán)利要求1.一種氯化氫合成爐，包括爐體(3)和設(shè)置在爐體底部的石墨層(1)，其特征在于所述石墨層(1)上設(shè)置有石墨層限位圈O)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氯化氫合成爐，其特征在于所述石墨層限位圈(2)設(shè)置在所述石墨層(1)的上端部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氯化氫合成爐，其特征在于所述石墨層限位圈O)向內(nèi)部傾斜，呈開口向上的喇叭狀。
專利摘要本實用新型公開一種氯化氫合成爐，包括爐體(3)和設(shè)置在爐體底部的石墨層(1)，所述石墨層(1)上設(shè)置有石墨層限位圈(2)。本實用新型通過在石墨層的上端部設(shè)置一個限位圈，擋住石墨層的端部，能夠有效地防止石墨層因受熱開裂，大大提高了設(shè)備的使用壽命。
文檔編號C01B7/01GK201980998SQ201120128369
公開日2011年9月21日 申請日期2011年4月27日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月27日
發(fā)明者王國林, 申長吉, 范愛軍, 顧宏祥, 黃志亮 申請人:江蘇福斯特石化裝備有限公司