專利名稱：光學(xué)薄膜的形成方法以及具有該薄膜的光學(xué)元件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及形成光學(xué)薄膜的方法，所述薄膜包括精細(xì)結(jié)構(gòu)
的金屬氧化物層和無機(jī)的硬層，本發(fā)明還涉及具有該光學(xué)薄膜的光學(xué) 元件。
io
背景技術(shù)：
諸如光拾取裝置的物鏡透鏡、眼用透鏡、內(nèi)鏡的光學(xué)透鏡、 成像裝置的光學(xué)透鏡等光學(xué)元件具有光學(xué)薄膜，例如減反射薄膜、紅 外吸收層等。例如，具有包括至少一層介電層的減反射薄膜，其折射 率與利用光干涉效應(yīng)的透鏡(JP 2007-94150 A)的不同，以及在表面
15具有粗糙氧化鋅層等的減反射薄膜(JP 2001-166103 A)。例如，雖然要求具有這樣光學(xué)薄膜的光學(xué)元件具有高的耐 劃痕性，但是構(gòu)成減反射薄膜最外層的低折射率多孔層以及具有表面 粗糙度的減反射薄膜具有不充足的耐劃痕性。當(dāng)形成保護(hù)層以改進(jìn)該 減反射薄膜的耐劃痕性時(shí)，多孔層的折射率發(fā)生變化，且粗糙度的減
20反射效果下降，從而導(dǎo)致光學(xué)元件的性能退化。 JP2004-144944 A公開了一種眼用透鏡，其具有沉積在透鏡 襯底上，由包含金屬氟化物的水溶液中的金屬氧化物所形成的無機(jī)、 親水硬層。其中描述了該無機(jī)、親水硬層包含氧化硅、氧化鋯和氧化 鈦，并在表面的精細(xì)凹處包含表面活性劑，從而表現(xiàn)出防霧性能和可
25水洗性。其中還進(jìn)一步描述了無機(jī)、親水硬層具有改進(jìn)的耐劃痕性。 但是，在JP 2004-144944 A中所述無機(jī)、親水硬層形成于沒有光學(xué)薄 膜(例如減反射薄膜)的透鏡襯底的表面。

發(fā)明內(nèi)容
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因此，本發(fā)明的目的是提供一種具有光學(xué)薄膜(例如減反
射薄膜等)的光學(xué)元件，所述光學(xué)薄膜具有極好的耐劃痕性，并提供
4其制備方法。為實(shí)現(xiàn)上述目的進(jìn)行了大量研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)通過液相沉積
法在光學(xué)元件上形成無機(jī)、硬層，使得在光學(xué)元件表面具有精細(xì)結(jié)構(gòu) 層，可改進(jìn)光學(xué)元件的耐劃痕性，且由于精細(xì)結(jié)構(gòu)層而基本上沒有改
5 變光學(xué)性能。本發(fā)明基于該發(fā)現(xiàn)得以完成。因此，本發(fā)明用于形成光學(xué)薄膜的方法包括在光學(xué)元件上 形成主要由無機(jī)金屬氧化物組成的精細(xì)結(jié)構(gòu)層，然后通過液相沉積法 在其上形成無機(jī)硬層。優(yōu)選通過溶膠-凝膠法形成精細(xì)結(jié)構(gòu)層。所述精細(xì)結(jié)構(gòu)層優(yōu) io選為多孔層或者精細(xì)-粗糙層。精細(xì)結(jié)構(gòu)層的主要組分優(yōu)選為氧化硅或 者氧化鋁，更優(yōu)選為氧化硅。優(yōu)選在150。C或更低溫度下對(duì)所形成的精 細(xì)結(jié)構(gòu)層進(jìn)行燃燒。精細(xì)結(jié)構(gòu)層優(yōu)選具有15至500納米的物理厚度。在液相沉積法中所用的沉積反應(yīng)材料優(yōu)選為金屬氟化物的 配合物。金屬氟化物的配合物優(yōu)選地包括硅氟化銨(ammonium silicon 15fluoride)禾口/或氟化鋯銨(ammonium zirconium fluoride)。堿性催化劑優(yōu)選用于液相沉積法中。堿性催化劑優(yōu)選為氨水。光學(xué)薄膜優(yōu)選為減反射薄膜。優(yōu)選在光拾取裝置的物鏡透鏡，眼用透鏡，內(nèi)鏡的光學(xué)透 20 鏡，或者成像裝置的光學(xué)透鏡上形成光學(xué)薄膜。光學(xué)元件優(yōu)選由樹脂 制成。本發(fā)明的光學(xué)元件包含通過上述方法所形成的光學(xué)薄膜。


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圖1所示為本發(fā)明的光學(xué)元件的一個(gè)實(shí)施例的橫截面圖。圖2所示為本發(fā)明的光學(xué)元件的另一實(shí)施例的橫截面圖。
圖3所示為本發(fā)明的光學(xué)元件的進(jìn)一步實(shí)施例的橫截面圖。
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具體實(shí)施例方式如圖1所示，本發(fā)明的光學(xué)元件包括光學(xué)構(gòu)件1，在光學(xué)構(gòu)件1上形成的精細(xì)結(jié)構(gòu)層2，和通過液相沉積法在精細(xì)結(jié)構(gòu)層2上形 成的無機(jī)硬層3。用于光學(xué)構(gòu)件1的材料可以是玻璃、晶體材料或塑料
中的任一種。用于光學(xué)構(gòu)件的材料的具體例子包括光學(xué)玻璃，例如BK7, LASF016， LaFK55和SF5， Pyrex (注冊(cè)商標(biāo))玻璃，石英，鈉鈣玻 5 璃，白冕(white-crown)玻璃，PMMA樹脂，PC樹脂，聚烯烴樹脂， 環(huán)烯烴聚合物等。這些材料的折射率為1.45至1.85。所述光學(xué)構(gòu)件的 形式可以是平板，透鏡，棱鏡，光導(dǎo)，薄膜，衍射元件等。
(1)精細(xì)結(jié)構(gòu)層精細(xì)結(jié)構(gòu)層2優(yōu)選為包含多孔層、精細(xì)粗糙度層等的減反 io射薄膜。
(i)包含多孔層的減反射薄膜當(dāng)減反射薄膜包含多孔層時(shí)，該多孔層優(yōu)選為由有機(jī)改性 二氧化硅組成的至少一層納米多孔二氧化硅層。如圖2所示，當(dāng)減反 射薄膜4為單層時(shí)，其優(yōu)選僅有納米多孔二氧化硅層組成。但是，本
15發(fā)明并不局限于此，其可以具有多層的納米多孔二氧化硅層，或者具 有不同于納米多孔二氧化硅層的層。多層減反射薄膜的材料可以是 Si02， Ti02， MgF2， SiN， Ce02， Zr02等，但是并不特別局限于此。 如圖3所示，減反射薄膜5優(yōu)選為多層。例如，可以通過對(duì)具有不同 折射率的多個(gè)層進(jìn)行適當(dāng)組合來形成多層減反射薄膜5，以獲得高的減
20反射效果。當(dāng)減反射薄膜是多層時(shí)，其表面層優(yōu)選為納米多孔二氧化 硅層。在表面形成納米多孔二氧化硅層后，入射介質(zhì)與減反射薄膜間 的折射率差別較小，從而獲得極好的減反射效果和有效的防霧效果?？梢酝ㄟ^例如真空蒸氣沉積法，濺射法，化學(xué)氣相沉積 (CVD)法，溶膠-凝膠法等形成減反射薄膜，但是并不特別局限于此。
25當(dāng)減反射薄膜是多層時(shí)，表面的納米多孔二氧化硅層優(yōu)選通過濕法成 膜(wet-film-forming)法(例如溶膠-凝膠法等)形成，其他層優(yōu)選通 過真空蒸氣沉積法形成。溶膠-凝膠法可有效地形成具有低折射率的多 孔層；而真空蒸氣沉積法相對(duì)更容易控制成膜條件，因而厚度和折射 率的重現(xiàn)性極好。通過溶膠-凝膠法所形成的納米多孔二氧化硅層可以
30 通過已知方法，例如燃燒，紫外固化，紅外固化，電子束固化等加以 硬化。特別優(yōu)選在15(TC或更低溫度下燃燒所形成的層。
(ii)具有精細(xì)粗糙度的減反射薄膜當(dāng)減反射薄膜具有精細(xì)粗糙度時(shí)，可以通過先形成金屬氧 化層，接著用酸等對(duì)其進(jìn)行處理的方法制得精細(xì)粗糙度層。或者，其 可以是包含SiO" Sb205， Ge02， Sn02， A1203， T1203， ln203， Ti02， 5Zr02， W03等的精細(xì)無機(jī)粒子與粘合劑的層。精細(xì)無機(jī)粒子優(yōu)選為諸 如Si02 (二氧化硅)等的硅化合物的膠體粒子。例如，精細(xì)粗糙度層可以是通過用熱水處理含氧化鋁的凝 膠層或者鋁、氧化鋁或其混合物的蒸氣沉積層而得到的層，或者通過
在2crc或更高溫度下用水處理含鋅化合物的凝膠層而得到的層。前者
io的表面粗糙度不規(guī)則地包含很多精細(xì)的不規(guī)則形狀的投影 (projections),其通過用熱水處理上述凝膠層或者蒸氣沉積層而得到， 且在其間具有槽狀凹口。該層可稱作"精細(xì)粗糙度氧化鋁層"，另有說 明的除外。后者的表面粗糙度不規(guī)則地包含沉積投影(deposit projections),所述沉積投影通過在20。C或更高溫度下用水處理含鋅化
15合物的凝膠層而得到，且在其間具有凹口。這樣的投影是非常精細(xì)的， 其取決于鋅化合物的類型而具有不同的形狀。該層可稱作"精細(xì)粗糙度 鋅化合物層"，另有說明的除外。精細(xì)粗糙度氧化鋁層優(yōu)選主要由氧化鋁、氫氧化鋁或其混 合物組成，更優(yōu)選地僅由氧化鋁組成。如果需要，其可以包含選自氧
20 化鋯、二氧化硅、二氧化鈦、氧化鋅或氫氧化鋅中的至少一種任選的 組分。該任選組分的含量以整個(gè)防塵層質(zhì)量作為100%計(jì)，優(yōu)選0.01 至50質(zhì)量％，更優(yōu)選0.05至30質(zhì)量％，但是其含量并不特別局限于 此，只要通過用熱水處理上述凝膠層或者蒸氣沉積層形成精細(xì)粗糙度， 且只要該含量在不破壞光學(xué)元件透明度的范圍內(nèi)。
25
雖然精細(xì)粗糙度鋅化合物層可以包含選自氧化鋁、氧化鋯、
二氧化硅或二氧化鈦中的至少一種任選組分(如果需要)，但是其優(yōu)選 主要由氧化鋅和/或氫氧化鋅組成，更優(yōu)選由兩者中的任一個(gè)組成。該 任選組分的含量以整個(gè)防塵層質(zhì)量作為100%計(jì)，優(yōu)選0.01至50質(zhì)量 %，更優(yōu)選0.05至30質(zhì)量％，但是其含量并不特別局限于此，只要在
30 2(TC或更高溫度下通過用水處理含鋅化合物凝膠層形成精細(xì)粗糙度， 且只要該含量在不破壞光學(xué)元件透明度的范圍內(nèi)。
精細(xì)粗糙度層可以是一層透明金屬氧化物，例如氧化鋁、 氧化鋅、氧化鋯、二氧化硅、二氧化鈦等，其通過光刻蝕制得。
(2)無機(jī)硬層通過液相沉積(LPD)法形成無機(jī)硬層3。在由水溶液形成 5薄金屬氧化物薄膜的液相沉積法中，當(dāng)向金屬氟化物的配合物的水溶 液中加入硼化合物時(shí)，發(fā)生如下的化學(xué)反應(yīng)。
<formula>formula see original document page 8</formula> (1)<formula>formula see original document page 8</formula> (2)
其中Me代表金屬元素。如化學(xué)式(1)所示，MeF,配合物離子與Me02和F離子處
io 于化學(xué)平衡關(guān)系中。當(dāng)加入硼化合物與F離子形成穩(wěn)定化合物時(shí)，F(xiàn) 離子如化學(xué)式(2)中所示被消耗，使得化學(xué)式(1)的平衡向右移動(dòng) 以沉積Me02。期望該沉積覆蓋了缺陷，例如在光學(xué)構(gòu)件1上所形成的 精細(xì)結(jié)構(gòu)層中的裂縫。還認(rèn)為所形成的無機(jī)硬層與精細(xì)結(jié)構(gòu)層間的相 互作用加強(qiáng)了它們之間的粘合力，并增加了精細(xì)結(jié)構(gòu)層的強(qiáng)度。
15
金屬氟化物的配合物可以是金屬氟化物的堿金屬鹽，堿土
金屬鹽，銨鹽等，優(yōu)選金屬氟化物的銨鹽。具體而言，優(yōu)選使用包含 硅氟化銨[(NH4) 2SiF6]和/或氟化鋯銨[(NH4) 2ZrF6]的沉積反應(yīng)材料。 將含光學(xué)薄膜(例如多層，減反射薄膜)的襯底浸入該金屬氟化物的 水介質(zhì)中，使得溶解的氟原子被硼酸等捕獲，從而自水介質(zhì)中沉淀金
20屬氧化物，并將其在光學(xué)薄膜上沉積為無機(jī)硬層?？梢砸匀我獗壤褂霉璺@和氟化鋯銨，但是以總金屬 氟化銨的100摩爾％計(jì)，硅氟化銨的用量通常為0.1至99.8摩爾％，優(yōu) 選5至95摩爾％。除了硅氟化銨和氟化鋯銨之外，也可以包含其他金屬氟化
25 物。其他金屬氟化物的例子包括氟化錫銨[(NH4) 2SnF6]，氟化鉭銨 [(NH4) 2TaF7]，氟化鈮銨[(NH4) 2NbF7]，氟化銦銨[(NH4) 2InF6]， 氟化鎵銨[(NH4) 2GaF6],氟化鋁銨[(NH4) 3AlFe]等。這樣的其他金 屬氟化物以總金屬氟化物的100摩爾％計(jì)，其使用量為0.1至40摩爾 %，優(yōu)選1至20摩爾％。
30
為了沉積金屬氧化物，將金屬氟化物溶解在諸如水或者水/醇混合溶劑的水介質(zhì)中，并加入氟捕獲劑。水介質(zhì)中的金屬氟化物的
濃度優(yōu)選為0.0001至1摩爾/升，更優(yōu)選0.001至0.5摩爾/升。氟捕獲
劑可以是硼化合物，例如氧化硼，硼酸，四硼化鈉等。特別優(yōu)選的是 氧化硼。加入氧化硼，使得金屬氟化物水溶液中每摩爾氟原子包含硼
5原子1至50摩爾，優(yōu)選1至25摩爾。向金屬氟化物的水溶液中，加 入水溶液形式的氧化硼。在金屬氟化物水溶液中，金屬氧化物沉積反應(yīng)的進(jìn)行溫度 優(yōu)選為20至60°C，更優(yōu)選為25至55°C，并優(yōu)選進(jìn)行幾個(gè)小時(shí)至24 小時(shí)。
io
在液相沉積法中，優(yōu)選加入堿性催化劑以抑制沉積金屬氧
化物的溶液中硼酸濃度的增加，并使溶液保持合適的pH。堿性催化劑 的加入量可以任意確定，并取決于受到沉積處理的光學(xué)構(gòu)件和精細(xì)結(jié) 構(gòu)層，但是以水介質(zhì)總量計(jì)，優(yōu)選為0.001至0.05摩爾/升。堿性催化 劑可以是弱堿，例如氨，氫氧化鎂，氫氧化鋁，氫氧化鐵等；或者為 15 強(qiáng)堿，例如氫氧化鈉，氫氧化鉀，氫氧化鈣，氫氧化鋇等，其優(yōu)選為 弱堿，更優(yōu)選氨。優(yōu)選以水溶液的形式(氨水)使用氨。如上所述，將具有光學(xué)薄膜的襯底浸入水介質(zhì)以在光學(xué)薄 膜上沉積金屬氧化物，然后將襯底從水介質(zhì)中取出并干燥，由此在透 鏡襯底上形成無機(jī)、親水、硬層。由此形成的無機(jī)硬層的平均厚度優(yōu) 20選為1納米至0.5微米，更優(yōu)選為50納米至0.3微米。下文將參照實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更詳細(xì)地說明，但其并不 用于限制本發(fā)明。
實(shí)施例1 (1)制備包含溶膠的有機(jī)改性二氧化硅 25
將5.21克正硅酸乙酯和4.38克乙醇進(jìn)行混合，然后加入
0.4克鹽酸(O.Ol N)，攪拌90分鐘。加入44.3克乙醇和0.5克氨水(0.02 N)，攪拌46小時(shí)，然后將混合溶液在6(TC下老化46小時(shí)以得到濕凝 膠。用乙醇傾析洗滌該濕凝膠，并重復(fù)傾析以用甲基異丁基酮(MIBK) 取代濕凝膠的分散介質(zhì)。向該濕凝膠中加入含5體積％三甲基氯硅烷的 30 MIBK溶液，攪拌20小時(shí)從而有機(jī)改性氧化硅末端。將所得有機(jī)改性 二氧化硅凝膠與異丙醇(IPA)混合至濃度為10質(zhì)量％，并通過超聲輻射(20kHz， 500 W， 40分鐘)將其轉(zhuǎn)化為溶膠。
(2)形成精細(xì)結(jié)構(gòu)層將20毫米x 20毫米x 1毫米的BK7平玻璃板用所得有機(jī) 改性二氧化硅溶膠浸涂至物理厚度為141納米，并在IO(TC下燃燒3 5小時(shí)。
(3) LPD處理將40克硅氟化銨和10克氟化鋯銨溶解在2000毫升水中， 并保持在40°C，然后加入20mL氨水(28%)。向該水溶液中加入40 克硼酸，攪拌并溶解。將具有通過二氧化硅氣凝膠所形成的減反射薄 io膜的BK7平玻璃板浸入溶液中10小時(shí)。從溶液中取出平玻璃板，用 水洗滌10分鐘，然后干燥。
(4)評(píng)價(jià)為評(píng)價(jià)減反射薄膜對(duì)平玻璃板的粘合性，用鋼棉(steel wool) (#0000)摩擦其表面，但是沒有劃痕形成。 15
實(shí)施例2 (1)制備包含溶膠的有機(jī)改性二氧化硅
將6.21克甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷和3.04克甲醇進(jìn) 行混合，然后加入0.4克鹽酸(0.01 N)，在60。C下攪拌3小時(shí)。加入 30.8克甲醇和0.5克氨水(0.02N)，攪拌48小時(shí)，然后將混合溶液在 206(TC下老化72小時(shí)以得到濕凝膠。將該濕凝膠與乙醇混合，并振蕩10 小時(shí)。其后，通過傾析將未反應(yīng)的產(chǎn)物等移出，并用乙醇取代分散介 質(zhì)。重復(fù)傾析從而用甲基異丁基酮(MIBK)取代濕凝膠的分散介質(zhì)。 向該濕凝膠中加入含5體積％三甲基氯硅烷的MIBK溶液，攪拌30小 時(shí)從而有機(jī)改性氧化硅末端。將所得有機(jī)改性二氧化硅凝膠與MIBK 25混合，振蕩24小時(shí)，然后傾析。將所得有機(jī)改性二氧化硅凝膠與MIBK 混合至濃度為1質(zhì)量％，并通過超聲輻射(20 kHz, 500 W， 20分鐘) 將其轉(zhuǎn)化為溶膠。向溶膠狀分散體中加入以固體二氧化硅計(jì)3質(zhì)量％ 的2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯萄-2-嗎啉丙垸-l-酮，以制備包含有機(jī)改 性二氧化硅的涂布液體。 30
(2)形成精細(xì)結(jié)構(gòu)層將20毫米x20毫米xl毫米的BK7平玻璃板用所得有機(jī)改性二氧化硅溶膠浸涂，利用紫外線輻射裝置(可獲自Fusion Systems) 通過紫外輻射以1500mJ/cmM吏得所得涂層聚合，然后在15(TC下燃燒 1小時(shí)從而形成有機(jī)改性二氧化硅氣凝膠層。
(3) LPD處理 5
將40克硅氟化銨和10克氟化鋯銨溶解在2000毫升水中，
加入20毫升氨水(28%)，將所得溶液保持在4(TC。向該水溶液中加 入15克硼酸，攪拌并溶解。將具有通過二氧化硅氣凝膠所形成的減反 射薄膜的BK7平玻璃板浸入溶液中IO小時(shí)。從溶液中取出平玻璃板， 用水洗滌10分鐘，然后干燥。 io
(4)評(píng)價(jià)為評(píng)價(jià)減反射薄膜對(duì)平玻璃板的粘合性，用鋼棉(#0000) 摩擦其表面，但是沒有劃痕形成。實(shí)施例3除了使用由"ZEONEX340R"(折射率nd: 1.509，可獲自 15 Zeon Corporation)制得的拾取透鏡作為光學(xué)構(gòu)件之外，以與實(shí)施例1 相同的方式形成減反射薄膜，并對(duì)該減反射薄膜進(jìn)行LPD處理。為評(píng) 價(jià)所得減反射薄膜對(duì)拾取透鏡的粘合性，用鋼棉(#0000)摩擦其表面， 但是沒有劃痕形成。
本發(fā)明的效果
20
由于本發(fā)明的方法可以在低溫下形成具有精細(xì)結(jié)構(gòu)的光學(xué)
薄膜，該光學(xué)薄膜具有改進(jìn)的硬度且不改變減反射薄膜的光學(xué)性能(反 射率)，因此即使當(dāng)使用具有相對(duì)較低硬度的襯底(例如塑料等)時(shí)， 也可以獲得具有極好光學(xué)性能和耐劃痕性的光學(xué)元件。
權(quán)利要求
1、一種形成光學(xué)薄膜的方法，該方法包括如下步驟在光學(xué)構(gòu)件的表面上形成主要由無機(jī)金屬氧化物組成的精細(xì)結(jié)構(gòu)層，然后通過液相沉積法形成無機(jī)硬層。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述形成光學(xué)薄膜的方法，其中所述精細(xì)結(jié)構(gòu) 層通過溶膠-凝膠法形成。10
3、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述形成光學(xué)薄膜的方法，其中所述精細(xì)結(jié)構(gòu)層為多孔層或者具有精細(xì)粗糙度的層。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述形成光學(xué)薄膜的方法，其中所述精細(xì)結(jié)構(gòu)層主要由氧化硅或氧化鋁組成。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述形成光學(xué)薄膜的方法，其中 在15(TC或更低溫度下對(duì)所形成的精細(xì)結(jié)構(gòu)層進(jìn)行燃燒。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述形成光學(xué)薄膜的方法，其中 20所述精細(xì)結(jié)構(gòu)層的物理厚度為15至500納米。
7、 根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述形成光學(xué)薄膜的方法，其中 所述無機(jī)硬層主要由氧化硅組成。
8、根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述形成光學(xué)薄膜的方法，其中在所述液相沉積法中將金屬氟化物的配合物用作沉積反應(yīng)材料。
9、 根據(jù)權(quán)利要求8所述形成光學(xué)薄膜的方法，其中所述金屬氟化 物的配合物包括硅氟化銨和/或氟化鋯銨。
10、 根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述形成光學(xué)薄膜的方法，其 中所述液相沉積法使用堿性催化劑。
11、根據(jù)權(quán)利要求10所述形成光學(xué)薄膜的方法，其中所述堿性催 化劑為氨水。
12、根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述形成光學(xué)薄膜的方法，其中所述光學(xué)薄膜為減反射薄膜。
13、 根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一項(xiàng)所述形成光學(xué)薄膜的方法，其 中所述光學(xué)薄膜在光拾取裝置的物鏡透鏡、眼用透鏡、內(nèi)鏡的光學(xué)透 鏡或者成像裝置的光學(xué)透鏡上形成。
14、 根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項(xiàng)所述形成光學(xué)薄膜的方法，其中所述光學(xué)構(gòu)件由樹脂制得。
15、 一種光學(xué)元件，其上具有根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項(xiàng)所述方法所形成的光學(xué)薄膜。
全文摘要
一種光學(xué)薄膜的形成方法，該方法包括如下步驟在光學(xué)構(gòu)件的表面上形成主要由無機(jī)金屬氧化物組成的精細(xì)結(jié)構(gòu)層，然后通過液相沉積法形成無機(jī)硬層。
文檔編號(hào)C01B33/00GK101424749SQ200810167308
公開日2009年5月6日 申請(qǐng)日期2008年10月10日 優(yōu)先權(quán)日2007年10月15日
發(fā)明者中山寬之, 佐藤幸治, 山田和廣, 鹽川孝紳, 鈴木峰太 申請(qǐng)人:Hoya株式會(huì)社;晶涂株式會(huì)社