專利名稱：：鈰類研磨材料的制作方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及鈰類研磨材料。技術背景以往，已知含有氧化鈰分散于介質中形成的漿液的氧化鈰研磨材料，該氧化鈰以積分強度比確定用X射線衍射法得到的(111)面的衍射強度和(200)面的衍射強度之比(參照專利文獻l)。專利文獻l:日本專利特開2003-51467號公報此外，還已知含有F(氟)且含有特定量以上的La(鑭)和Nd(釹)的比表面積為12m2/g以下的鈰類研磨材料，它是在使用了Cu-Ka1線的X射線衍射中規(guī)定了相對于以氧化鈰為主要成分的稀土類氧化物的主峰的稀土類氟化物的峰強度比的鈰類研磨材料，以及規(guī)定了相對于以氧化鈰為主要成分的稀土類氧化物的主峰的稀土類氧氟化物的峰強度比的范圍的鈰類研磨材料(參照專利文獻2和專利文獻3)。專利文獻2:日本專利特開2002-97457號公報專利文獻3:日本專利特開2002-97458號公報發(fā)明的揭示上述現(xiàn)有技術中，專利文獻1公開的鈰類研磨材料的積分強度比符合幾乎所有的氧化鈰研磨材料，沒有特殊性。也就是說，即使用X射線衍射法得到的Ce02的(111)面的衍射強度和(200)面的衍射強度之比作為積分強度在特定范圍內，其與該氧化鈽研磨材料的研磨速度快慢、研磨損傷產生的多少之間的相關性也并不明確。另外，專利文獻2和專利文獻3公開的鈰類研磨材料雖然是較少產生研磨損傷且研磨速度快的優(yōu)異研磨材料，但存在不能適用于不存在F、La、Nd的體系這樣的問題。鑒于上述情況，本發(fā)明的課題在于提供利用通過X射線衍射得到的峰強度比這一簡單的指標即可判斷鈰類研磨材料研磨速度快慢和產生研磨損傷的多少而與是否具有F、La、Nd無關的技術，還提供研磨速度快、研磨損傷少的鈰類研磨材料。本發(fā)明涉及CeO2/TREO^40質量％的鈰類研磨材料，將以稀土類元素Ce為主要成分的稀土類氧化物的通過使用了Cu-Ka線或Cu-Ka1線的X射線衍射得到的峰中基于(111)面的峰定為a，其強度定為A，基于(220)面的峰定為b，其強度定為B時，強度比B/A值為0.200.80，BET法比表面積為l150m2/g。本發(fā)明只要是CeO/TREO^40質量Q/。則不管是否含有F、La、Nd均適用。本發(fā)明對X射線衍射中使用的X射線沒有特殊限制，但優(yōu)選使用能得到較大峰強度的Cu-Kci線或Cu-Ka1線。通過該X射線衍射得到的作為稀土類元素以鈰為主要成分的稀土類氧化物的峰，通常通過X射線衍射鑒定為下述任一種。Ce02(ICDD卡No.34-0394或43-1002)Ce0.75Nd。.25O1875(ICDD卡No.28-0266)Ceo.5Ndo.5O,.75(ICDD卡No.28-0267)這些氧化物為立方晶，Ce為Ce(IV)。即使在幾乎不含Nd的情況下若含有大量La，則多數(shù)情況下鑒定為Ce。.75Ndo.250u75或Ceo.sNdo.50L75。對本發(fā)明的鈰類研磨材料通過X射線衍射得到的基于(111)面的峰和基于(220)面的峰進行說明，例如使用Cu-Ka線或Cu-Ka1線時，基于(111)面的峰按28計約在28。出現(xiàn)?；?220)面的峰按29計約在47。出現(xiàn)。另外，Ceo.5Ndo.50，.75在ICDD卡中按2e計約28°的峰為(222)面，約47°的峰為(440)面，但在本發(fā)明中分別替換成(111)面、(220)面。本發(fā)明將通過使用了Ka線或Cu-Ka1線的X射線衍射得到的峰中基于(111)面的峰定為a，其強度定為A，基于(220)面的峰定為b，其強度定為B，由強度比B/A的值來確定鈰類研磨材料，該強度比B/A范圍為0.200.80的材料是本發(fā)明的對象。優(yōu)選為0.220.75，0.230.70的強度比則更優(yōu)選。若超過上限值0.80，則研磨速度降低，若不足下限值0.20，則容易產生大量研磨損傷。當鈰類研磨材料的F含量為1質量％以上時，強度比以0.200.35的范圍為宜，進一步優(yōu)選0.220.33，更優(yōu)選0.230.32。另一方面，當F含量不足1質量％時，強度比以0.400.80的范圍為宜，強度比進一步優(yōu)選為0.400.75，更優(yōu)選為0.400.70。本發(fā)明的鈰類研磨材料為了使初期研磨速度快并長時間維持研磨速度，Ce02/TREO必須在40質量％以上，優(yōu)選在50質量％以上。當F含量為1質量%以上時，優(yōu)選為95質量％以下，更優(yōu)選為90質量％以下。這是因為若CeO/TREO值太高，則焙燒時F易揮發(fā)，用伴有焙燒的制造方法難以制造F含量為1質量％以上的研磨材料。此外，本發(fā)明的鈰類研磨材料的BET法比表面積優(yōu)選為l150m2/g，進一步優(yōu)選為5100m2/g，更優(yōu)選為250m2/g。上述本發(fā)明涉及的鈰類研磨材料可用下述制造方法制得。首先，作為原料，可以使用CeO2/TREO^40質量％的含有碳酸根的稀土類化合物。關于制造順序，首先一邊攪拌作為初始液的水，一邊同時連續(xù)地大致按化學計量比添加CeO2/TREOS40質量％的稀土類鹽水溶液和碳酸類沉淀劑水溶液，生成沉淀。這里，該"大致化學計量比"指1分鐘內添加的碳酸類沉淀劑水溶液的量相對于1分鐘內添加的稀土類鹽水溶液的量的比按化學計量為0.901.10，優(yōu)選為0.951.05。但當稀土類鹽水溶液含有大量過剩的酸時指考慮到過剩的酸所計算的值。若該化學計量比不足1.0，則稀土類元素有一部分未沉淀而殘留于水溶液中形成損失，因此該比優(yōu)選為1.01.1，更優(yōu)選為1.01.05。但即使該比不足1.0但只要在0.90以上，也可以在之后添加不足量的碳酸類沉淀劑以防止損失。但是，若該比不足0.90，則不管之后是否具有添加不足量碳酸類沉淀劑的處理，均無法制造目標研磨材料。按上述方法生成的沉淀的形態(tài)在X射線衍射中主要為碳酸鹽，有時確定為一氧化碳酸鹽(乇/才^)炭酸塩)、氫氧化碳酸鹽(水酸化炭酸塩)。下面舉例說明上述化學計量。當用碳酸氫銨作碳酸類沉淀劑時(此時，將稀土類鹽作為氯化物考慮，不考慮生成的稀土類碳酸鹽的結晶水)，采用如下化學式。2LnCl3+6NH4HC03—Ln2(C03)3+6NH4Cl+3C02+3H20因此，相對于稀土類元素lmol，碳酸氫銨3mol為化學計量。這里，Ln是包含Ce(III)的+3價稀土類元素(通常未氧化處理時Ce在溶液中為+3價)。當用碳酸鈉作碳酸類沉淀劑時(此時，將稀土類鹽作為氯化物考慮，不考慮生成的稀土類碳酸鹽的結晶水)，采用如下化學式。2LnCl3+3Na2C03—Ln2(C03)3+6NaCl因此，相對于稀土類元素lmol，碳酸鈉1.5mol為化學計量。這里，Ln是包含Ce(III)的+3價稀土類元素(通常未氧化處理時Ce在溶液中為+3價)。作為上述碳酸類沉淀劑，可列舉碳酸鈉、碳酸銨、碳酸氫鈉、碳酸氫銨、尿素、碳酸胍等。按上述方法生成的沉淀進行過濾，水洗后可直接作為原料使用，但也可以在過濾后與水混合或不過濾而直接加熱至6010(TC(浸漬加熱處理)以一氧化碳酸鹽或氫氧化碳酸鹽作為原料使用。根據(jù)需要進行原料粉碎，將原料粉碎時，使激光衍射，散射法粒度分布測定的Dso為0.13.0um。根據(jù)目標研磨材料的粒徑，使該D5。的目標值為0.13.0um范圍內的適宜值。當原料是一氧化碳酸鹽或氫氧化碳酸鹽時，有時Dso己經是目標值，此時可省略原料粉碎。但由于一氧化碳酸鹽和氫氧化碳酸鹽通過將碳酸鹽進行浸漬加熱處理(粉碎)來制造，因此雖然不是粉碎裝置進行的粉碎，但也可以說已被粉碎。關于氟化處理，在制造含氟研磨材料時進行。該氟化處理可通過添加氟氫酸、氟氫銨、氟化銨等水溶性氟化物或氟化稀土類來實施。關于氟化處理，從進行均勻氟化、容易制造較少產生研磨損傷的研磨材料的觀點出發(fā)，優(yōu)選添加水溶性氟化物。添加氟化稀土類時，優(yōu)選充分粉碎后添加或在原料粉碎前添加再與原料一起粉碎。關于過濾，當用濕式法進行原料粉碎，或在原料槳液中添加水溶性氟化物進行氟化處理時，通常進行過濾處理。進行氟化處理時，通過過濾前傾析或過濾后向保持有濾餅的過濾裝置通入水等來進行清洗。濾餅在焙燒前優(yōu)選進行干燥、粉碎。另外，也可以不進行過濾而進行噴霧干燥。關于焙燒，溫度優(yōu)選為7501150°C，進一步優(yōu)選為8001100°C，更優(yōu)選為8501050°C。當含氟量不足1質量％時，優(yōu)選8001150°C，進一步優(yōu)選8501100。C，更優(yōu)選為9001050°C。焙燒后最好進行粉碎、分級中的至少一種處理。以干式法進行時，可以制造粉末研磨材料，以濕式法進行時，可以制造漿液研磨材料。當然，也可以將干式法制得的粉末狀研磨材料與水等分散介質混合制成漿液研磨材料。反之，亦可以將濕式法制得的漿液狀研磨材料通過干燥、干式粉碎來制成粉末研磨材料。關于本發(fā)明的鈰類研磨材料，當使用高純度原料時，可以采用上述非高純度原料時的制造方法，這一點毋庸置疑。在此，僅對使用高純度原料時可用的制造方法進行說明。作為高純度原料，可列舉Ce02/TREOS95質量％、優(yōu)選^98質量％、進一步優(yōu)選^99質量％的一氧化碳酸鈰或氫氧化碳酸鈰。采用上述高純度原料的情況下，一邊攪拌作為初始液的水，一邊同時連續(xù)地按大致化學計量比添加Ce02/TRE0^95質量％的稀土類鹽水溶液和碳酸類沉淀劑水溶液，生成沉淀。這里，"大致化學計量比"基本上與上述內容相同，指1分鐘內添加的碳酸類沉淀劑水溶液的量相對于1分鐘內添加的稀土類鹽水溶液的量的比按化學計量為0.卯1.10，優(yōu)選為0.951.05。但是當稀土類鹽水溶液含有大量過剩的酸時指考慮到過剩的酸所計算的值。另外，同時開始稀土類鹽水溶液和碳酸類沉淀劑水溶液的添加且同時結束時，上述添加速度比以1.05以下為宜，優(yōu)選為1.00以下，更優(yōu)選為0.95以下。按上述方法生成的沉淀進行過濾，水洗后，與水混合，或不過濾，水洗而直接加熱到6010(TC(浸漬加熱處理)，得到一氧化碳酸鹽或氫氧化碳酸鹽，過濾或過濾，水洗，得到原料。該原料根據(jù)需要粉碎后(也可以在原料制造的最后過濾前進行)在13025(TC下干燥，制成氧化鈰。當使用非高純度原料時，在130250'C這樣的低。干燥后，為了提高研磨速度，可以在300700'C下焙燒。干燥或焙燒后，優(yōu)選實施粉碎、分級中的至少一種處理。以干式法進行時，可以制造粉末研磨材料，以濕式法進行時，可以制造漿液研磨材料。當然，也可以將干式法得到的粉末狀研磨材料與水等分散介質混合制成漿液研磨材料，亦可以將濕式法得到的漿液狀研磨材料干燥、干法粉碎來制成粉末研磨材料。附圖的簡單說明圖1是研磨材料原料的制造流程圖。圖2是鈰類研磨材料的制造流程圖。圖3是使用高純度原料時的鈰類研磨材料的制造流程圖。實施發(fā)明的最佳方式下面，參照實施例和比較例詳細說明本發(fā)明的最佳實施方式。首先對制造本實施例和比較例的鈰類研磨材料時使用的原料進行說明。表1表6表示制造各原料時的稀土類鹽水溶液、碳酸類沉淀劑水溶液的各組成、濃度、添加條件等。[表1]沉淀化:成前處理條件(粉<table>tableseeoriginaldocumentpage9</column></row><table>*1D:同時添加、F:正添加、B:反添加*2AHC:碳酸氫銨、SC:碳酸鈉*3沉淀劑水溶液相對于稀土類鹽水溶液的添加速度的比在化學計量為1時的比率*4O:實施追加添加<添加量比(化學計量為1時的比率)1.05為止>、X:不實施追加添加*5不過濾.清洗，直接實施、O:將沉淀過濾'清洗后實施、X:不實施*6O:實施磨碎機粉碎、X:不實施磨碎機粉碎*7C:碳酸鹽、M:—氧化碳酸鹽、H:氫氧化碳酸鹽20068003784L3勢溢齒被7/255r[表2]<table>tableseeoriginaldocumentpage10</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage11</column></row><table>表4]<table>tableseeoriginaldocumentpage12</column></row><table>*1D:同時添加、F:正添加、B:反添加*2AHC:碳酸氫銨、SC:碳酸鈉*3沉淀劑水溶液相對于稀土類鹽水溶液的添加速度的比在化學計量為l時的比率*4O:實施追加添加<添加量比(化學計量為1時的比率)1.05為止>、X:不實施追加添加*5不過濾'清洗，直接實施、O:將沉淀過濾'清洗后實施、X:不實施*6O:實施磨碎機粉碎、X:不實施磨碎機粉碎*7C:碳酸鹽、M:—氧化碳酸鹽、H:氫氧化碳酸鹽<table>tableseeoriginaldocumentpage13</column></row><table>*lD:同時添加、F:正添加、B:反添加*2AHC:碳酸氫銨、SC:碳酸鈉*3沉淀劑水溶液相對于稀土類鹽水溶液的添加速度的比在化學計量為1時的比率*4O:實施追加添加<添加量比(化學計量為1時的比率)1.05為止>、X:不實施追加添加*5不過濾'清洗，直接實施、O:將沉淀過濾'清洗后實施、X:不實施*6O:實施磨碎機粉碎、X:不實施磨碎機粉碎*7C:碳酸鹽、M:—氧化碳酸鹽、H:氫氧化碳酸200680037841,3轉s齒被11/25:K[表6]沉淀生成前處理條件(粉<table>tableseeoriginaldocumentpage14</column></row><table>*1D:同時添加、F:正添加、B:反添加*2AHC:碳酸氫銨、SC:碳酸鈉*3沉淀劑水溶液相對于稀土類鹽水溶液的添加速度的比在化學計量為1時的比率(括號內不是添加速度而是添加量的比)*4O:實施追加添加<添加量比(化學計量為1時的比率)1.05為止>、X:不實施追加添加*5不過濾'清洗，直接實施、O:將沉淀過濾'清洗后實施、X:不實施*6O:實施磨碎機粉碎、X:不實施磨碎機粉碎*7C:碳酸鹽、M:—氧化碳酸鹽、H:氫氧化碳酸鹽g0680037841.3勢滔*被12/25M首先，本實施方式在稀土類鹽水溶液的制造時使用中國產混合碳酸稀土(TRE045%、Ce02/TREO60%、La203/TREO35%、Pr6On/TREO4%、Nd203/TREO1%)、中國產碳酸鈰(TRE044%、Ce02/TREO^99.9%)、中國產碳酸鑭(TRE045%、La203/TRE0^99.9%)、中國產碳酸鐠(TREO46%、Pr60,"丁REO^99.9%)、中國產碳酸釹(TREO45%、Nd203/TREO^99.9%)。將各碳酸鹽用鹽酸溶解，將pH用碳酸鹽、鹽酸調至約3后，過濾，稀釋，制成TREO50g/L的水溶液。Ce02/TREO60質量％的試驗使用將混合碳酸稀土溶解而成的溶液，Ce02/TREO99.9質量％的試驗使用將碳酸鈰溶解而成的溶液。其他試驗使用將5種碳酸鹽溶解而成的溶液適當混合、對Ce02/TREO進行了調節(jié)的溶液。作為碳酸類沉淀劑，使用碳酸氫銨、碳酸鈉。這些碳酸類沉淀劑作為濃度lmol/L(79g/L)碳酸氫銨水溶液和濃度0.5mol/L(53g/L)碳酸鈉水溶液使用。關于該碳酸類沉淀劑水溶液，在表1表6中表示其添加速度和添加速度比率。該添加速度比率指沉淀劑水溶液相對于稀土類鹽水溶液的添加速度的比在化學計量為1時的比率。關于研磨材料原料中的沉淀生成，可以采用同時添加、正添加、反添加這三種方法。首先，同時添加(比較例8、9、17、18以外)時，在作為初始液的純水200L中，在100分鐘內添加稀土類鹽水溶液(TREO50g/L)100L。按照各表中所示的規(guī)定添加速度在100分鐘內添加碳酸類沉淀劑水溶液。但在進行碳酸類沉淀劑的追加添加時，即使在100分鐘添加后，還繼續(xù)添加直至沉淀劑水溶液/稀土類鹽水溶液的添加量之比為化學計量的1.05倍。正添加時(比較例8、17)，在作為初始液的稀土類鹽水溶液(TREO50g/L)中，在105分鐘內添加作為碳酸類沉淀劑水溶液的lmol/L碳酸氫銨水溶液(此時，碳酸類沉淀劑/稀土類量比為化學計量的1.05倍)。逆添加(比較例9、18)時，在作為初始液的lmol/L碳酸氫銨水溶液93.5L中，在100分鐘內添加稀土類鹽水溶液(TREO50g/L)100L(此時，碳酸類沉淀劑/稀土類量比為化學計量的1.05倍)。下面對表1表6所示的各實施例、各比較例的目的進行概述，首先，關于氟含量為1質量％以上的鈰類研磨材料，實施例15、比較例1、2對添加速度比的影響(無追加添加)進行分析，實施例68、比較例3、(實施例3)對有追加添加時的添加速度比的影響進行分析，實施例8、913、比較例4對氟含量的影響進行分析，實施例8、1421、比較例5、6對焙燒溫度的影響進行分析，實施例8、22、23對浸漬加熱處理的影響進行分析，實施例8、24對沉淀劑種類的影響進行分析，實施例8、2428、比較例7對Ce02/TREO的影響進行分析，實施例8、比較例8、9對沉淀方法的影響進行分析，比較例IO對不將中國產混合碳酸稀土溶解、再沉淀而直接使用時的影響進行分析。另外，據(jù)推斷中國產混合碳酸稀土通過正添加生成沉淀。關于氟含量不足1質量％的鈰類研磨材料，實施例2933、比較例11、12對添加速度比的影響(無追加添加)進行分析，實施例3436、比較例13、(實施例31)對有追加添加時的添加速度比的影響進行分析，實施例36、37、38對氟含量的影響進行分析，實施例36、3945、比較例14、15對焙燒溫度的影響進行分析，實施例36、46、47對浸漬加熱處理的影響進行分析，實施例36、48對沉淀劑種類的影響進行分析，實施例36、4954、比較例16對Ce02/TREO的影響進行分析，實施例36、比較例17、18對沉淀方法的影響進行分析，比較例19對不將中國產碳酸鈰溶解、再沉淀而直接使用時的影響進行分析。另外，據(jù)推斷中國產碳酸鈰通過正添加生成沉淀。實施例55對用僅適用于高純度原料的制造方法制造時的情況進行分析。具體而言，將生成的沉淀過濾后，將沉淀和水按質量比1:2混合，在90'C下浸漬加熱5小時，再次過濾，然后在185"C下干燥48小時，在45(TC下焙燒12小時。另外，實施例45通過185。C下干燥品的X射線衍射證實焙燒前的干燥品已形成為氧化鈰。下面，對研磨材料原料的制造順序進行說明。圖1表示本實施方式的研磨材料原料的制造流程。如該圖l所示，本實施方式制造3種原料即原料im。原料i是沉淀生成后經過濾，水洗得到的稀土類碳酸鹽。原料n是將原料I和水按質量比1:2混合后，在卯'C下浸漬加熱處理5小時，過濾得到的稀土類一氧化碳酸鹽。原料in是沉淀生成后不進行過濾，水洗而是在90。C下浸漬加熱處理5小時，過濾得到的稀土類氫氧化碳酸鹽/稀土類一氧化碳酸鹽。關于各實施例、比較例的原料的詳細制造條件如表1表6所示，浸漬加熱處理一欄中"x"表示原料I，"O"表示原料II，"◎"表示原料m。接著，對由上述原料制造鈰類研磨材料的工序進行說明。圖2表示使用非高純度的研磨材料原料時鈰類研磨材料的基本制造流程(但該制造流程也可適用于高純度原料，表3的實施例28、表6的實施例53、54釆用該制造流程)。此時的制造工序中，氟化處理以及氟化處理前的粉碎處理如表1表6所示，可任意進行。圖3表示僅適用于高純度原料的鈰類研磨材料(表6的實施例55)的制造流程。采用該高純度原料時，不進行氟化處理，可任意進行氟化處理前的粉碎處理。另外，在本實施方式中，焙燒后的處理采用干式粉碎、干式分級。對按上述制造順序得到的研磨材料原料以及鈰類研磨材料進行如下評價。關于研磨材料原料，對粉碎后的原料粉末進行平均粒徑(D5o)的測定以及利用X射線衍射進行鑒定(表1表6)。對于鈰類研磨材料，實施利用X射線衍射進行的峰強度比的測定、利用BET法進行的比表面積和平均粒徑(D5。)的測定，并分析研磨速度、研磨損傷、被研磨面的表面性狀。其結果如表7表12所示。下面，對各測定進行說明。X射線衍射利用X射線分析裝置(瑪珂科學(7、乂夕廿一工乂70株式會社制、MXP18)進行結晶衍射分析。對研磨材料原料，利用X射線衍射圖鑒定該原料的形態(tài)。關于鈰類研磨材料，求出通過Cu-Ka線的X射線衍射得到的基于(111)面的峰A(按29約在28。出現(xiàn))和基于(220)面的峰B(按26約在47。出現(xiàn))的各自強度，從而求出峰強度比B/A。平均粒徑(D5o)的測定使用激光衍射，散射法粒徑分布測定裝置((株)堀場制作所制LA-920)，測定各研磨材料原料以及各鈰類研磨材料的粒度分布，求出平均粒徑(D5。從小粒徑側開始累計質量50質量％處的粒徑(中位粒徑))。BET法比表面積(BET)的測定根據(jù)JISR1626-1996(利用細瓷粉體的氣體吸附BET法測定比表面積的方法)的"6.2流動法的(3.5)—點法"，進行鈰類研磨材料比表面積的測定。此時，使用作為載氣的氦和作為吸附質氣體的氮的混合氣體。研磨速度作為研磨機，準備研磨試驗機(HSP-2I型、臺東精機株式會社制)。該研磨試驗機將漿液狀研磨材料提供給研磨對象面的同時，將該研磨對象面用研磨墊研磨。研磨材料漿液的磨粒濃度為100g/L(分散介質僅為水)。在本研磨試驗中，以5升/分的比例提供漿液狀研磨材料，循環(huán)使用研磨材料。另外，研磨對象物為65mmO的平面面板用玻璃。研磨墊使用聚氨酯制墊。研磨墊在研磨面上的壓力為9.8kPa(100g/cm2)，研磨試驗機的轉速設定成IOO分鐘"(rpm)，研磨規(guī)定時間。進行特定時間的研磨處理，測定研磨前后的玻璃重量，求出研磨引起的玻璃重量的減少量，根據(jù)該值求出研磨值。本硏磨評價用該研磨值評價研磨速度。另外，如表7所示，該研磨速度的評價值以比較例2的鈰類研磨材料得到的研磨值為標準(100)，算出其他研磨速度的評價值。研磨損傷按以下方式進行研磨損傷評價。用將30萬勒克斯的鹵燈作為光源的反射法觀察研磨后的玻璃表面，計算大損傷和微小損傷的數(shù)目，以IOO分為滿分，進行減分評價。該損傷評價以硬盤(HD)用或LCD用玻璃基板的精密研磨中要求的研磨精度為判斷標準。具體而言，表4和表5中""表示98分以上(非常適合HD用'LCD用玻璃基板的精密研磨)，"〇"表示95分以上不到98分(適合HD用'LCD用玻璃基板的精密研磨)，"△"表示90分以上不到95分(可用于HD用'LCD用玻璃基板的精密研磨)，"X"表示不到90分(不能用于HD用.LCD用玻璃基板的精密研磨)。算術平均微觀起伏用三維表面結構分析顯微鏡(澤果(Zygo)公司制NewView200)，測定波長為0.21.4mm,在基板的規(guī)定區(qū)域用白光掃描研磨面來測定。[表7]<table>tableseeoriginaldocumentpage20</column></row><table>[表8]<table>tableseeoriginaldocumentpage21</column></row><table>[表9]<table>tableseeoriginaldocumentpage22</column></row><table>[表10]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage2</formula>[表11]<table>tableseeoriginaldocumentpage24</column></row><table>[表12]<table>tableseeoriginaldocumentpage25</column></row><table>從表7表12所示的各鈰類研磨材料的數(shù)據(jù)中，選出X射線衍射測定的強度比B/A中與本發(fā)明的下限值和上限值接近的值的實施例、比較例的數(shù)據(jù)。表13顯示與下限值0.2相關的數(shù)據(jù)，表14顯示峰強度比B/A與上限值0.8相關的數(shù)據(jù)。[表13]<table>tableseeoriginaldocumentpage26</column></row><table>由表7表12以及表13、表14可知，若峰強度比超過上限值0.80，則研磨速度降低，若不足下限值0.20，則有容易產生大量研磨損傷的傾向。而且，本實施例這樣的峰強度比在0.200.80范圍內且BET法比表面積為l150m2/g的鈰類硏磨材料在研磨速度和研磨損傷的研磨特性方面非常優(yōu)異。另外，表13和表14記載了相對于(111)面的(200)面的峰強度比作為參考，但與本發(fā)明規(guī)定的相對于(111)面的(220)面的峰強度比不同，與研磨特性幾乎無關。它不是本發(fā)明的峰強度比，作為峰的積分強度比也具有同樣的傾向。產業(yè)上利用的可能性如上所述，本發(fā)明能提供無論是否含有F、La、Nd只要Ce02/TREO^40質量％則研磨速度快且研磨損傷少的鈰類研磨材料。權利要求1.鈰類研磨材料，其特征在于，它是CeO2/TREO≥40質量％的鈰類研磨材料，將以稀土類元素Ce為主要成分的稀土類氧化物的通過使用了Cu-Kα線或Cu-Kα1線的X射線衍射得到的峰中基于(111)面的峰定為a，其強度定為A，基于(220)面的峰定為b，其強度定為B時，強度比B/A的值為0.20～0.80，BET法比表面積為1～150m2/g。2.如權利要求1所述的鈰類研磨材料，其特征在于，峰a的半峰寬按2e計為o.ioi.oo°。3.如權利要求1或2所述的鈰類研磨材料，其特征在于，B/A的值為0.200.35。4.如權利要求1或2所述的鈰類研磨材料，其特征在于，B/A的值為0.400.80。5.如權利要求14中的任一項所述的鈰類研磨材料，其特征在于，氟含量為1質量％以上。6.如權利要求3所述的鈰類研磨材料，其特征在于，氟含量為1質量％以上。7.如權利要求14中的任一項所述的鈰類研磨材料，其特征在于，氟含量不足1質量％。8.如權利要求4所述的鈰類研磨材料，其特征在于，氟含量不足1質全文摘要本發(fā)明提供無論是否含有F、La、Nd只要CeO₂/TREO≥40質量％則研磨速度快且研磨損傷少的鈰類研磨材料。本發(fā)明涉及CeO₂/TREO≥40質量％的鈰類研磨材料，將以稀土類元素Ce為主要成分的稀土類氧化物的通過使用了Cu-Kα線或Cu-Kα1線的X射線衍射得到的峰中基于(111)面的峰定為a，其強度定為A，基于(220)面的峰定為b，其強度定為B時，強度比B/A的值為0.20～0.80，BET法比表面積為1～150m²/g。文檔編號C01F17/00GK101283070SQ20068003784公開日2008年10月8日申請日期2006年10月12日優(yōu)先權日2005年10月13日發(fā)明者山口靖英,桑原滋申請人:三井金屬鉱業(yè)株式會社