多臺離子反應(yīng)鍍膜機連體自動逆流及水位控制機排水裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種多臺離子反應(yīng)鍍膜機連體自動逆流及水位控制機排水裝置，包括多個一級逆流管道，一級逆流管道的一端連接在主管道上，另一端與一級排水裝置連接；所述一級排水裝置包括一級水洗槽、二級水洗槽、三級水洗槽和一級排水管道，一級水洗槽與二級水洗槽之間、二級水洗槽與三級水洗槽之間均設(shè)置有二級逆流管道，一級排水管道的一端與一級水洗槽的底部連通，另一端設(shè)置有排水口和氣體排出口；所述一級排水管道上設(shè)置有氣體流出閥門；本實用新型能按照設(shè)定的程序自動實現(xiàn)逆流、水洗水排泄的目的，能通過氣體流出閥門控制一級水洗槽水位；既節(jié)省人力，又易于操作，未使用電源控制，從而更加節(jié)約成本，降低了消耗。
【專利說明】
多臺離子反應(yīng)鍍膜機連體自動逆流及水位控制機排水裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型涉及離子反應(yīng)鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體是一種多臺離子反應(yīng)鍍膜機連體自動逆流及水位控制機排水裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有技術(shù)的離子反應(yīng)膜鍍膜機水位控制機結(jié)構(gòu)復(fù)雜，不便于控制，常常需要人工調(diào)節(jié)水洗池水位，不能實現(xiàn)自動逆流，因此在實際使用中，大大增加了人力成本，且提高了水洗水的用量，能耗高;為了實現(xiàn)節(jié)能、降低運行成本，需要對現(xiàn)有技術(shù)的設(shè)備進行改進。。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型的目的在于提供一種成本低、便于操作的多臺離子反應(yīng)鍍膜機連體自動逆流及水位控制機排水裝置，以解決上述【背景技術(shù)】中提出的問題。
[0004]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案:
[0005]多臺離子反應(yīng)鍍膜機連體自動逆流及水位控制機排水裝置，包括多個一級逆流管道，一級逆流管道的一端連接在主管道上，另一端與一級排水裝置連接;所述一級排水裝置包括一級水洗槽、二級水洗槽、三級水洗槽和一級排水管道，所述一級水洗槽與二級水洗槽之間、二級水洗槽與三級水洗槽之間均設(shè)置有二級逆流管道，所述一級排水管道的一端與一級水洗槽的底部連通，一級排水管道的另一端設(shè)置有排水口和氣體排出口，排水口與一級逆流管道的一端連通;所述一級排水管道上設(shè)置有控制一級水洗槽水位的氣體流出閥門。
[0006]作為本實用新型進一步的方案:所述一級逆流管道上均安裝有一級逆流閥門。
[0007]作為本實用新型再進一步的方案:所述二級逆流管道上安裝有二級逆流閥門。
[0008]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果是:本實用新型通過設(shè)置多級逆流管道和水洗槽，使其能按照設(shè)定的程序自動實現(xiàn)逆流、水洗水排泄的目的，排水管道設(shè)置有氣體排出口，并能通過氣體流出閥門控制一級水洗槽水位，達到調(diào)節(jié)水洗槽水位的目的；既節(jié)省人力，又易于操作，未使用電源控制，從而更加節(jié)約成本，降低了消耗。
【附圖說明】
[0009]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖2為圖1中A部分的放大圖。
[0011 ]其中，1-一級逆流管道;2-—級逆流閥門；3-—級排水裝置;4-氣體流出閥門；5-排水口 ； 6-—級水洗槽;7-二級水洗槽;8-三級水洗槽;9-氣體排出口 ； 10-—級排水管道；11-二級逆流管道;12-二級逆流閥門。
【具體實施方式】
[0012]下面結(jié)合【具體實施方式】對本專利的技術(shù)方案作進一步詳細地說明。
[0013]請參閱圖1-2，多臺離子反應(yīng)鍍膜機連體自動逆流及水位控制機排水裝置，包括多個一級逆流管道I，各個一級逆流管道I上均安裝有一級逆流閥門2，一級逆流管道I的一端連接在主管道上，另一端與一級排水裝置3連接;所述一級排水裝置3包括一級水洗槽6、二級水洗槽7、三級水洗槽8和一級排水管道10，所述一級水洗槽6與二級水洗槽7之間、二級水洗槽7與三級水洗槽8之間均設(shè)置有二級逆流管道11，二級逆流管道11上安裝有二級逆流閥門12，所述一級排水管道10的一端與一級水洗槽6的底部連通，一級排水管道10的另一端設(shè)置有排水口5和氣體排出口9，排水口5與一級逆流管道I的一端連通;所述一級排水管道10上設(shè)置有控制一級水洗槽6水位的氣體流出閥門4。
[0014]上面對本專利的較佳實施方式作了詳細說明，但是本專利并不限于上述實施方式，在本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員所具備的知識范圍內(nèi)，還可以在不脫離本專利宗旨的前提下作出各種變化。
【主權(quán)項】
1.多臺離子反應(yīng)鍍膜機連體自動逆流及水位控制機排水裝置，其特征在于:包括多個一級逆流管道(1)，一級逆流管道(I)的一端連接在主管道上，另一端與一級排水裝置(3)連接;所述一級排水裝置(3)包括一級水洗槽(6)、二級水洗槽(7)、三級水洗槽(8)和一級排水管道(10)，所述一級水洗槽(6)與二級水洗槽(7)之間、二級水洗槽(7)與三級水洗槽(8)之間均設(shè)置有二級逆流管道(11 )，所述一級排水管道(1 )的一端與一級水洗槽(6 )的底部連通，另一端設(shè)置有排水口(5)和氣體排出口(9)，排水口(5)與一級逆流管道(I)的一端連通；所述一級排水管道(10)上設(shè)置有控制一級水洗槽(6)水位的氣體流出閥門(4)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多臺離子反應(yīng)鍍膜機連體自動逆流及水位控制機排水裝置，其特征在于，所述一級逆流管道(I)上均安裝有一級逆流閥門(2)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多臺離子反應(yīng)鍍膜機連體自動逆流及水位控制機排水裝置，其特征在于，所述二級逆流管道(11)上安裝有二級逆流閥門(12)。
【文檔編號】C23C22/73GK205653509SQ201620024831
【公開日】2016年10月19日
【申請日】2016年1月12日 公開號201620024831.7, CN 201620024831, CN 205653509 U, CN 205653509U, CN-U-205653509, CN201620024831, CN201620024831.7, CN205653509 U, CN205653509U
【發(fā)明人】張德友
【申請人】東莞市明谷一納米材料有限公司