真空室的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種真空室。
【背景技術(shù)】
[0002]通常，可使用真空處理設(shè)備或真空涂層裝置，來(lái)處理或涂層基體，例如板形基體、玻璃板、晶片或其他載體。在此，真空處理裝置可具有一個(gè)或多個(gè)真空室(也被稱為部(隔間)或處理室)，以及具有運(yùn)輸系統(tǒng)，用于將分別待涂層的基體運(yùn)輸通過(guò)真空處理裝置或通過(guò)至少一個(gè)真空室。為將基體帶入真空處理裝置中，或?qū)⒒w帶出真空處理裝置，例如可使用一個(gè)或多個(gè)閘門室，一個(gè)或多個(gè)緩沖室(例如可選地)，和/或一個(gè)或多個(gè)轉(zhuǎn)送室。
[0003]為將至少一個(gè)基體帶入真空處理裝置中，例如至少一個(gè)基體可置于通風(fēng)的閘門室中，然后，帶有至少一個(gè)基體的閘門室可被抽真空，且基體可分批地從抽成真空的閘門室中被運(yùn)輸進(jìn)入真空處理裝置的鄰接的真空室中(例如緩沖室中)。例如，借助于緩沖室可維持基體，且可提供小于閘門室中的壓力。借助于轉(zhuǎn)送室，分批被置入的基體可匯集成所謂的基體帶(例如相同形式的被運(yùn)輸?shù)倪B續(xù)的系列基體)，使得在基體之間僅保留小的空隙，而基體在真空處理裝置的至少一個(gè)相應(yīng)設(shè)置的處理室中被處理(例如被涂層)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]根據(jù)不同的實(shí)施方式提供真空室，其被模塊化地構(gòu)建，或其可以是模塊化被構(gòu)建的真空處理裝置的部分。根據(jù)不同的實(shí)施方式，真空室可具有室殼體，其中，室殼體這樣地被設(shè)置，即，室殼體的蓋開(kāi)口可通過(guò)室蓋被蓋住。明顯地，可通過(guò)下述方式打開(kāi)真空室，即，室蓋被取下或掀開(kāi)(打開(kāi))，且可通過(guò)下述方式閉合真空室，即，室蓋被放置或合上(閉合)。
[0005]室殼體例如可這樣地被設(shè)置，即，其可作為用于不同的真空室的基礎(chǔ)室(容器)，例如室殼體可用于閥門室，其中，閘門室例如可在高真空范圍中(例如在處理真空的范圍中，例如在大致10 3mbar至大致10 7mbar的范圍中，例如在大致10 3mbar至大致10 5mbar的范圍中)被驅(qū)動(dòng)。此外，室殼體可被用于緩沖室或轉(zhuǎn)送室。在此，各真空室的功能或驅(qū)動(dòng)類型可根據(jù)與室殼體使用的室蓋而限定。例如，具有一室蓋的基礎(chǔ)室可被用作為閥門室，且具有另一室蓋的基礎(chǔ)室可被用作為緩沖室或轉(zhuǎn)運(yùn)室(或處理室)。為了使室殼體可被普遍使用，室殼體可具有至少一個(gè)連接法蘭，用于連接前級(jí)真空栗或前級(jí)真空栗組件。由此，可在借助于室蓋密封的室殼體中產(chǎn)生或提供直至少一個(gè)前級(jí)真空。當(dāng)應(yīng)在密封的室殼體中產(chǎn)生高真空時(shí)，其可借助于合適的室蓋完成，其中，室蓋例如可具有連接法蘭，用于連接高真空栗或高真空栗組件，或室殼體自身可具有連接法蘭，用于連接高真空栗或高真空栗組件，例如，可在室殼體的側(cè)室壁中提供連接法蘭。
[0006]明顯地，不同實(shí)施方式的一個(gè)方面可在于，提供真空室(或具有相應(yīng)用于匹配室殼體的室蓋的室殼體)，其可有效地作為閘門室或緩沖室，其中，真空室具有盡可能小的待抽真空的內(nèi)部容積，且同時(shí)可有效地被抽成至高真空范圍內(nèi)。在此，閘門室的效率例如涉及持續(xù)時(shí)間，該持續(xù)時(shí)間對(duì)于將閘門室從第一壓力范圍抽真空成第二壓力范圍是必要的，例如從正常大氣壓至高真空范圍中(直至預(yù)定的處理壓力)，結(jié)合所使用的措施，例如高真空栗的(例如渦輪分子栗的)數(shù)量和尺寸(栗功率)。
[0007]明顯地，根據(jù)不同的實(shí)施方式，提供真空室，其使得可以在相比于高真空栗的吸氣開(kāi)口的直徑而窄的內(nèi)部容積(運(yùn)輸區(qū)域)的真空室中有效地動(dòng)用高真空栗(例如渦輪分子栗)。例如，渦輪分子栗的抽氣能力或效率可通過(guò)下述方式減小，即，當(dāng)渦輪分子栗的整個(gè)吸氣開(kāi)口未相對(duì)于待抽真空的容積而開(kāi)放時(shí)。換而言之，部分地蓋住渦輪分子栗的吸氣開(kāi)口會(huì)導(dǎo)致真空室更慢地被抽真空。
[0008]明顯地，前級(jí)真空的壓力范圍中，(例如在大致Ibar至大致10 2mbar的范圍中)，由于氣體在該壓力范圍中的流動(dòng)情況，可足夠借助于相對(duì)小的法蘭開(kāi)口對(duì)真空室抽真空，例如在大致4cm至大致1cm的范圍中。相反地，在高真空范圍中，相對(duì)大的法蘭開(kāi)口，例如在大致1cm至大致40cm的范圍中，對(duì)真空室進(jìn)行抽真空是必要的或有幫助的，因?yàn)樵谠搲毫Ψ秶?，氣體粒子的平均自由行程大小是這樣的，即，例如在大致幾個(gè)厘米至大致幾百米之間的范圍中，真空室的幾何形狀、相應(yīng)的法蘭開(kāi)口的相對(duì)位置和/或大小可在對(duì)真空室抽真空時(shí)起基本作用。
[0009]明顯地，不同實(shí)施方式的一個(gè)方面可在于，這樣地提供在真空室的室底部中的槽或凹部，即，露出真空室的側(cè)室壁中的法蘭開(kāi)口。由此，可提供具有盡可能小的高度的運(yùn)輸區(qū)域，其中，運(yùn)輸區(qū)域可借助于側(cè)室壁中的法蘭開(kāi)口被抽真空，其中，法蘭開(kāi)口大于運(yùn)輸區(qū)域的高度。換而言之，可以使得例如具有小于大致1cm的高度的運(yùn)輸區(qū)域，可借助于例如具有大于1cm的直徑的側(cè)室壁中的法蘭開(kāi)口，有效地被抽真空，因?yàn)榉ㄌm開(kāi)口可借助于室底部中的槽或凹部被露出。
[0010]根據(jù)不同的實(shí)施方式，真空室可具有:帶有室底部和室側(cè)壁的室殼體(真空室殼體)，其中，室底部向下限制室殼體內(nèi)的運(yùn)輸區(qū)域，且其中，室側(cè)壁側(cè)向限制室殼體內(nèi)的運(yùn)輸區(qū)域；運(yùn)輸系統(tǒng)，用于在運(yùn)輸區(qū)域中運(yùn)輸基體；室側(cè)壁中的至少一個(gè)連接開(kāi)口，用于將高真空栗連接到室殼體，其中，該至少一個(gè)連接開(kāi)口部分地被設(shè)置在室底部之下；室底部中的至少一個(gè)槽和/或凹部，其中，該至少一個(gè)槽和/或凹部露出至少一個(gè)連接開(kāi)口。在此，室底部可以是基本上板形的(例如具有在大致Icm至大致5cm范圍中的厚度)，且在真空室的兩個(gè)相對(duì)的室側(cè)壁之間延伸。
[0011]根據(jù)不同的實(shí)施方式，真空室可具有:帶有室底部和室側(cè)壁的室殼體，其中，室底部向下限制室殼體內(nèi)的運(yùn)輸區(qū)域，且其中，室側(cè)壁側(cè)向限制室殼體內(nèi)的運(yùn)輸區(qū)域；運(yùn)輸系統(tǒng)，用于在運(yùn)輸區(qū)域中運(yùn)輸基體；室側(cè)壁中的至少一個(gè)連接開(kāi)口，用于將高真空栗連接到室殼體，其中，該至少一個(gè)連接開(kāi)口部分地被設(shè)置在運(yùn)輸區(qū)域之下；室底部中的至少一個(gè)槽和/或凹部，其中，該至少一個(gè)槽和/或凹部露出至少一個(gè)連接開(kāi)口。在此，對(duì)于運(yùn)輸區(qū)域(對(duì)于真空室或室殼體的內(nèi)部)露出的室底部的表面可限定底部面，其中，室側(cè)壁中的至少一個(gè)連接開(kāi)口部分地被設(shè)置在底部面之下。
[0012]根據(jù)不同的實(shí)施方式，槽和/或凹部可僅被設(shè)置在室側(cè)壁附近的室底部的邊緣上，使得運(yùn)輸區(qū)域的容積是盡可能地小。
[0013]此外，室殼體可具有室殼體的上側(cè)中的蓋開(kāi)口。
[0014]根據(jù)不同的實(shí)施方式，真空室此外可具有室蓋，用于蓋住蓋開(kāi)口，其中，這樣地設(shè)置室蓋，即，蓋開(kāi)口在閉合狀態(tài)下借助于室蓋真空密封地被密封。
[0015]根據(jù)不同的實(shí)施方式，在閉合狀態(tài)下，可真空密封地密封真空室，或真空室的蓋開(kāi)口可借助于室蓋真空密封地被密封。此外，在閉合狀態(tài)下，室殼體可真空密封地被密封，或室殼體的蓋開(kāi)口可借助于室蓋真空密封地被密封。
[0016]根據(jù)不同的實(shí)施方式，室蓋可這樣地被設(shè)置，S卩，室蓋在閉合狀態(tài)下限制運(yùn)輸區(qū)域，例如向上限制。
[0017]根據(jù)不同的實(shí)施方式，運(yùn)輸系統(tǒng)可具有多個(gè)運(yùn)輸滾筒，其提供基本平行于室底部的運(yùn)輸面。換而言之，運(yùn)輸系統(tǒng)可具有多個(gè)運(yùn)輸滾筒，其中，多個(gè)運(yùn)輸滾筒中的運(yùn)輸滾筒提供運(yùn)輸面，其中，運(yùn)輸面被基本平行于室底部地定向。
[0018]根據(jù)不同的實(shí)施方式，運(yùn)輸區(qū)域的高度可小于10cm。換而言之，運(yùn)輸區(qū)域具有垂直于運(yùn)輸面的小于1cm的高度。
[0019]根據(jù)不同的實(shí)施方式，連接開(kāi)口可以是真空室的側(cè)室壁中的圓形通孔。此外，連接開(kāi)口可以是法蘭結(jié)構(gòu)的一部分，或被提供作為法蘭開(kāi)口。根據(jù)不同的實(shí)施方式，連接開(kāi)口的直徑可大于10cm。
[0020]根據(jù)不同的實(shí)施方式，真空室此外可具有在運(yùn)輸區(qū)域內(nèi)的至少一種填料，用于減小真空室的待抽真空的內(nèi)部容積。
[0021]根據(jù)不同的實(shí)施方式，真空室可具有:帶有蓋開(kāi)口的室殼體；用于這樣地蓋住蓋開(kāi)口的室蓋，即，蓋開(kāi)口在室蓋閉合時(shí)被密封，其中，室殼體的室底部這樣地被設(shè)置，即，基體可在室底部與閉合的室蓋之間被運(yùn)輸通過(guò)真空室；室殼體的室側(cè)壁中的至少一個(gè)連接開(kāi)口，用于將高真空栗連接到室殼體，其中，該至少一個(gè)連接開(kāi)口部分地被布置在室底部之下；室底部