冷速部的1次冷卻速度的差超過10°c / 秒，則有時強(qiáng)度變得不均勻，所以不優(yōu)選。
[0111] 實(shí)施例
[0112] 接著，列舉出本發(fā)明的實(shí)施例，對本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容進(jìn)行說明。然而，實(shí)施例中的 條件是為了確認(rèn)本發(fā)明的可實(shí)施性及效果而采用的條件例，本發(fā)明并不限定于該條件例。 本發(fā)明只要不脫離本發(fā)明的主旨，且可達(dá)成本發(fā)明的目的，則可以采用各種條件。
[0113] (實(shí)施例1)
[0114] 將具有表1所示的化學(xué)成分的鋼的鋼坯加熱后，通過熱乳制成直徑為5. 5_的線 材，在規(guī)定的溫度下卷取后，通過斯太爾摩設(shè)備進(jìn)行冷卻。
[0115] 使用冷卻后的線材，進(jìn)行線材的C截面的組織觀察及拉伸試驗。關(guān)于拉絲加工性， 準(zhǔn)備10根將線材的氧化皮通過酸洗而除去后通過磷化處理而賦予了磷酸鋅皮膜的長度為 4m的線材，使用接近角為10度的沖模，進(jìn)行每1道次的斷面收縮率為16%~20%的單頭式 拉絲。然后，求出拉絲斷裂的極限的真應(yīng)變的平均值。
[0116] 表2中示出制造條件、組織及機(jī)械特性。表2中的"滯留時間"表示660 °C~630 °C 的溫度域中的滯留時間。表2中，實(shí)施例No. 2、4、6、11、14、16不滿足本發(fā)明的權(quán)利要求。實(shí) 施例No. 2、實(shí)施例No. 11、實(shí)施例No. 14在第1表層部中，片層間距為150nm以下的區(qū)域超 過20%。并且，抗拉強(qiáng)度超過本發(fā)明的優(yōu)選范圍。分別與同一鋼種的發(fā)明例即實(shí)施例No. 1、 實(shí)施例No. 10、實(shí)施例No. 13相比較，成為比較例的實(shí)施例的拉絲斷線的應(yīng)變變低。此外，實(shí) 施例No. 4、實(shí)施例No. 16珠光體的平均塊粒徑超過本發(fā)明的上限，并且塊粒徑為50 μ m以上 的珠光體塊的面積率超過20%。分別與同一鋼種的發(fā)明例即實(shí)施例No. 3、實(shí)施例No. 15相 比較，這些比較例拉絲斷線的應(yīng)變變低。此外，實(shí)施例No. 6的抗拉強(qiáng)度的標(biāo)準(zhǔn)偏差超過本 發(fā)明的優(yōu)選范圍。與同一鋼種的發(fā)明例即實(shí)施例No. 5相比較，拉絲斷線的應(yīng)變變低。
[0117]

[0119] (實(shí)施例2)
[0120] 將具有表3所示的化學(xué)成分的鋼的鋼坯加熱后，通過熱乳制成直徑為5. 5mm的線 材，在規(guī)定的溫度下卷取后，通過斯太爾摩設(shè)備進(jìn)行冷卻。
[0121] 使用冷卻后的線材，進(jìn)行線材的C截面的組織觀察及拉伸試驗。關(guān)于拉絲加工性， 準(zhǔn)備10根將線材的氧化皮通過酸洗而除去后通過磷化處理而賦予了磷酸鋅皮膜的長度為 4m的線材，使用接近角為10度的沖模，將每1道次的斷面收縮率設(shè)為16%~20%而進(jìn)行單 頭式拉絲。然后，求出拉絲斷裂的極限的真應(yīng)變的平均值。
[0122] 表4中示出制造條件、組織及機(jī)械特性。表4中的"滯留時間"表示660 °C~630 °C 的溫度域中的滯留時間。第2表層部的珠光體組織的面積率是線材的從表面朝向中心至深 度30 μ m為止的區(qū)域中的珠光體組織的面積率。第2表層部的維氏硬度是線材的從表面朝 向中心為深度30μπι的位置處的維氏硬度。表4中，實(shí)施例No. 19、22、24、26、30、32不滿 足本發(fā)明的優(yōu)選范圍。實(shí)施例No. 19、實(shí)施例No. 22、實(shí)施例No. 26、實(shí)施例No. 30的第2表 層部的珠光體組織的面積率低于本發(fā)明的優(yōu)選范圍。進(jìn)而，第2表層部的維氏硬度的平均 值低于本發(fā)明的優(yōu)選范圍。分別與同一鋼種的發(fā)明例即實(shí)施例No. 18、實(shí)施例No. 21、實(shí)施 例No. 25、實(shí)施例No. 12相比較，成為比較例的實(shí)施例拉絲斷線的應(yīng)變變低。此外，實(shí)施例 No. 29的第2表層部的維氏硬度的平均值低于本發(fā)明的優(yōu)選范圍。與同一鋼種的發(fā)明例即 實(shí)施例No. 31相比較，獲知拉絲斷線的應(yīng)變變低。此外，實(shí)施例No. 24是抗拉強(qiáng)度的標(biāo)準(zhǔn)偏 差超過本發(fā)明的優(yōu)選范圍的例子。與同一鋼種的發(fā)明例即實(shí)施例No. 23相比較拉絲斷線的 應(yīng)變變低。
[0123]

[0125] 產(chǎn)業(yè)上的可利用性
[0126] 根據(jù)本發(fā)明，能夠在高的生產(chǎn)率下以良好的成品率廉價地提供適合于鋼簾線或鋸 線等用途的拉絲加工性優(yōu)異的高強(qiáng)度的高碳鋼線材及其制造方法。因而，本發(fā)明在線材制 造產(chǎn)業(yè)中充分具有產(chǎn)業(yè)上的可利用性。
[0127] 符號的說明
[0128] 1:第2表層部
[0129] 2:第1表層部
[0130] 3:1/2D 部
[0131] 4:1/4D 部
【主權(quán)項】
1. 一種高碳鋼線材，其特征在于，作為化學(xué)成分，以質(zhì)量％計含有 C:0· 60%~L20%、 Si:0· 10%~1. 5%、 Μη:0· 10%~L0%、 Ρ:0· 001%~0· 012%、 S:0· 001%~0· 010%、 Α1 :0· 0001%~0· 010%、 Ν:0· 0010%~0· 0050%， 剩余部分包含F(xiàn)e及雜質(zhì)； 在與長度方向垂直的截面中，珠光體的面積率為95%以上，剩余部分為包含貝氏體、偽 珠光體、先共析鐵素體、先共析滲碳體中的1種以上的非珠光體組織； 所述珠光體的平均塊粒徑為15μm~35μm，塊粒徑為50μm以上的所述珠光體的面積 率為20%以下； 在從表面至深度1mm為止的區(qū)域中，所述珠光體中的片層間距為150nm以下的區(qū)域為 20%以下； 設(shè)C(% )、Si(% )及Mn(% )分別為C、Si、Mn的以單位為質(zhì)量％計的含量，通過下述 式（1)求出Ceq.時，抗拉強(qiáng)度為760XCeq.+325MPa以下，并且，所述抗拉強(qiáng)度的標(biāo)準(zhǔn)偏差 為20MPa以下， Ceq. =C(% )+Si(% )/24+Mn(% )/6 式⑴。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的高碳鋼線材，其特征在于，作為所述化學(xué)成分，以質(zhì)量％計含 有C:0· 70%~1. 10%， 并且，在所述高碳鋼線材的從表面至深度30μπι為止的區(qū)域中，所述珠光體的面積率 為90%以上，剩余部分為包含所述貝氏體、所述偽珠光體、所述先共析鐵素體中的1種以上 的所述非珠光體組織， 并且，在所述高碳鋼線材的距離表面為深度30μπι的位置處，維氏硬度的平均值為HV280 ~HV330。3. 根據(jù)權(quán)利要求1或根據(jù)權(quán)利要求2所述的高碳鋼線材，其特征在于，作為所述化學(xué) 成分，以質(zhì)量％計進(jìn)一步含有選自由Β:0· 0001%~0· 0015%、Cr:0· 10%~0· 50%、Ni: 0. 10 % ~0. 50%、V:0. 05 % ~0. 50%、Cu:0. 10 % ~0. 20%、Mo:0. 10 % ~0. 20%、Nb: 0.05%~0. 10%組成的組中的1種或2種以上。4. 一種高碳鋼線材的制造方法，其特征在于，對于化學(xué)成分以質(zhì)量％計含有C: 0· 60 % ~1. 20%、Si:0· 1 % ~1. 5%、Μη:0· 1 % ~1. 0%、P:0· 001 % ~0· 012%、S: 0· 001%~0· 010%、Α1 :0· 0001%~0· 010%、Ν:0· 0010%~0· 0050%、且剩余部分包含F(xiàn)e 及雜質(zhì)的鋼坯，加熱至950°C~1130°C后，進(jìn)行熱乳而制成線材； 將所述線材在700 °C~900 °C下卷??； 將所述線材以15°C/秒~40°C/秒的1次冷卻速度進(jìn)行1次冷卻至630°C~660°C; 將所述線材在660°C~630°C下滯留15秒~70秒鐘； 將所述線材以5°C/秒~30°C/秒的2次冷卻速度進(jìn)行2次冷卻至25°C~300°C。5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的高碳鋼線材的制造方法，其特征在于，在所述1次冷卻中，鋼 線圈內(nèi)的最大冷速部與最小冷速部的所述1次冷卻速度的差為10°c/秒以下。
【專利摘要】該高碳鋼線材含有規(guī)定的化學(xué)成分，剩余部分包含F(xiàn)e及雜質(zhì)；在與長度方向垂直的截面中，珠光體的面積率為95％以上，剩余部分為含有貝氏體、偽珠光體、先共析鐵素體、先共析滲碳體中的1種以上的非珠光體組織；上述珠光體的平均塊粒徑為15μm～35μm，塊粒徑為50μm以上的上述珠光體的面積率為20％以下；在從表面至深度1mm為止的區(qū)域中，上述珠光體中的片層間距為150nm以下的區(qū)域為20％以下。
【IPC分類】C22C38/54, C22C38/00, C22C38/06, C21D8/06
【公開號】CN105324503
【申請?zhí)枴緾N201480035272
【發(fā)明人】小此木真, 平上大輔
【申請人】新日鐵住金株式會社
【公開日】2016年2月10日
【申請日】2014年6月23日
【公告號】EP3015563A1, US20160145712, WO2014208492A1