一種磁控板、磁控裝置及磁控濺射裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種磁控板及磁控裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)發(fā)光二極體(Organic Light Emitting D1de,0LED)已經(jīng)作為柔性屏幕首選的下一代顯示而備受期待。相比傳統(tǒng)的液晶面板，OLED具有反應(yīng)速度較快、對比度更高、視角較廣、耐低溫、可實(shí)現(xiàn)柔性化等一系列優(yōu)點(diǎn)。OLED頂發(fā)射器件通常使用透明陰極。透明陰極可以使用薄的金屬，例如Mg、Ag等金屬，或者使用透明的氧化物，例如氧化銦鋅(ΙΖ0，Indium-doped Zinc Oxide)。通常情況下，IZO薄膜的制備需要使用磁控派射工藝。
[0003]磁控板是磁控濺射設(shè)備的常規(guī)器件，其作用是使帶電粒子受到磁場力的作用，大大增加其碰撞靶材的概率。因?yàn)镺LED器件及容易受到水、氧的侵蝕，所以無法進(jìn)行濕法相關(guān)的工序，這要求OLED磁控濺射設(shè)備具備能夠圖形化的掩膜板?，F(xiàn)有技術(shù)的掩膜板組件，結(jié)構(gòu)如圖1所示，包括掩膜框101以及固定于掩膜框101上的掩膜板網(wǎng)102，掩膜板網(wǎng)102是依據(jù)顯示屏的圖紙進(jìn)行制作的，所以顯示屏區(qū)域位置有掩膜板鏤空103。掩膜板往往配合具有磁控板的磁控裝置使用，磁控裝置能夠通過引導(dǎo)Plasma(等離子)離子轟擊靶材的方向而引導(dǎo)革巴材物質(zhì)成膜的位置。因?yàn)榇趴匕宓拇艌瞿軌蛞龑?dǎo)Plasma離子轟擊革巴材，所以磁控板移動(dòng)的范圍內(nèi)(掩膜板框和掩膜板網(wǎng)上)，都會(huì)有IZO薄膜的沉積。但是目前掩膜板框和掩膜板網(wǎng)都使用金屬材料制作，其上沉積過厚的IZO薄膜就會(huì)因?yàn)閼?yīng)力原因?qū)е卤∧っ撀?，產(chǎn)生大量污染顆粒，因此，OLED磁控濺射設(shè)備的掩膜板需要定期進(jìn)行更換。
[0004]使用現(xiàn)有的磁控板，IZO薄膜沉積在掩膜板上后，難以用刻蝕等方法進(jìn)行清理，所以掩膜板通常都會(huì)直接郵回廠家進(jìn)行報(bào)廢處理，造成了很大的浪費(fèi)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]有鑒于此，本發(fā)明提供一種磁控板及磁控裝置，能夠降低磁控濺射過程中掩膜板組件的報(bào)廢率。
[0006]基于上述目的本發(fā)明提供的磁控板，用于在磁控濺射中產(chǎn)生磁場，所述磁控板由多個(gè)可拆卸連接的磁控板單元組成；所述磁控板單元用于產(chǎn)生磁場。
[0007]可選的，所述磁控板包括磁控板單元固定機(jī)構(gòu)；所述磁控板單元以可拆卸的方式對應(yīng)地固定在磁控板單元固定機(jī)構(gòu)上。
[0008]可選的，所述磁控板單元固定機(jī)構(gòu)為設(shè)有多個(gè)凹槽的底板，所述磁控板單元以可拆卸的方式固定在所述凹槽中。
[0009]可選的，所述凹槽按照矩陣排布。
[0010]可選的，所述磁控板固定機(jī)構(gòu)為設(shè)置有多個(gè)吸附機(jī)構(gòu)的底板，所述磁控板單元以可拆卸的方式固定在所述可吸附機(jī)構(gòu)上。
[0011]可選的，所述磁控板單元包含至少一個(gè)磁鐵。
[0012]可選的，所述磁鐵為矩形磁鐵。
[0013]可選的，所述多個(gè)磁控板單元的磁鐵在所述磁控板上同極性的一面設(shè)置在磁控板的同一側(cè)。
[0014]同時(shí)，本發(fā)明還提供一種磁控裝置，用于在磁控濺射過程中控制成膜位置，其特征在于，包含本發(fā)明任意一項(xiàng)實(shí)施例所提供的磁控板。
[0015]可選的，還包括移動(dòng)機(jī)構(gòu)，與所述磁控板連接，用于控制所述磁控板移動(dòng)。
[0016]可選的，所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括第一移動(dòng)控制機(jī)構(gòu)和第二移動(dòng)控制機(jī)構(gòu)，所述第一移動(dòng)控制機(jī)構(gòu)用于控制所述磁控板沿X軸方向移動(dòng)，所述第二移動(dòng)控制機(jī)構(gòu)用于控制所述磁控板沿Y軸方向移動(dòng)。
[0017]可選的，所述第一移動(dòng)控制機(jī)構(gòu)包括沿X軸方向設(shè)置的第一絲杠和用于驅(qū)動(dòng)所述第一絲杠的第一電機(jī)；所述第一絲杠與所述磁控板以可相對移動(dòng)的方式連接，使得所述第一電機(jī)驅(qū)動(dòng)所述第一絲杠時(shí)，所述磁控板沿X軸方向移動(dòng)。
[0018]可選的，所述第二移動(dòng)控制機(jī)構(gòu)包括沿Y軸方向設(shè)置的第二絲杠和用于驅(qū)動(dòng)所述第二絲杠的第二電機(jī)，所述第二絲杠與所述磁控板以可相對移動(dòng)的方式連接，使得所述第二電機(jī)驅(qū)動(dòng)所述第二絲杠時(shí)，所述磁控板沿Y軸方向移動(dòng)。
[0019]從上面所述可以看出，本發(fā)明提供的磁控裝置，采用多個(gè)小面積的磁控板單元代替現(xiàn)有技術(shù)中整個(gè)大面積的磁控板，在磁控濺射時(shí)通過至少一個(gè)磁控板單元拼接組裝成與磁控區(qū)域?qū)?yīng)的圖像，從而無需每次磁控濺射都在一個(gè)最大的范圍內(nèi)產(chǎn)生磁場，進(jìn)而降低了靶材濺射到掩膜板框上的概率，同時(shí)也在一定程度上降低了靶材濺射到掩膜板網(wǎng)邊緣上的概率；經(jīng)過很長時(shí)間的使用，制作了較多批次的基板之后，掩膜板框或掩膜板網(wǎng)上也只有很少量的靶材物質(zhì)沉積，降低了更換掩膜板框和掩膜板網(wǎng)的更換費(fèi)用。
【附圖說明】
[0020]圖1為現(xiàn)有技術(shù)的掩膜板組件結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]圖2A為本發(fā)明實(shí)施例的磁控板結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖2B為本發(fā)明實(shí)施例中磁控裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖3為本發(fā)明一種實(shí)施例中磁控板單元組裝示意圖；
[0024]圖4為本發(fā)明一種實(shí)施例的磁控板單元結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0025]為使本發(fā)明要解決的技術(shù)問題、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖及具體實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0026]本發(fā)明首先提供一種磁控板，用于在磁控濺射中產(chǎn)生磁場，結(jié)構(gòu)如圖2A所示，所述磁控板201由多個(gè)可拆卸的磁控板單元2011組成；所述磁控板單元2011用于產(chǎn)生磁場。
[0027]本發(fā)明提供的磁控板，可以通過多個(gè)磁控板單元組裝出于成膜目標(biāo)區(qū)域?qū)?yīng)的圖形，使得磁控范圍與成膜目標(biāo)區(qū)域相對應(yīng)；在需要成膜的目標(biāo)區(qū)域較小時(shí)，可縮小磁控范圍；在需要成膜的目標(biāo)區(qū)域較大時(shí)，可擴(kuò)大磁控范圍。由于需要成膜的目標(biāo)區(qū)域存在不固定、變化的可能，從而在多次使用之后，磁控板邊框上堆積的靶材物質(zhì)較少，磁控板的壽命得到了增加。
[0028]在本發(fā)明一些實(shí)施例中，所述磁控板包括磁控板單元固定機(jī)構(gòu)；所述磁控板單元以可拆卸的方式對應(yīng)地固定在磁控板單元固定機(jī)構(gòu)上。
[0029]所述磁控板單元固定機(jī)構(gòu)為非磁性、不導(dǎo)電的硬質(zhì)材料制作。
[0030]在本發(fā)明一些實(shí)施例中，所述磁控板單元固定機(jī)構(gòu)為設(shè)有多個(gè)凹槽的底板，所述磁控板單元以可拆卸的方式固定在所述凹槽中。
[0031]在本發(fā)明一些實(shí)施例中，所述磁控板單元包括至少一個(gè)磁鐵。具體的，一個(gè)磁控板單元可為一個(gè)單獨(dú)的磁鐵。
[0032]在本發(fā)明一些實(shí)施例中，所述磁鐵為矩形磁鐵?？梢允勾艌鼍鶆蚍植迹跒R射區(qū)域的均勻性。另外，所述多個(gè)磁控板單元的磁鐵設(shè)置在所述磁控板上時(shí)，磁鐵同極性的一面設(shè)置在磁控板的同一側(cè)，這樣形成的電場效果更好，有利于濺射更均勻。
[0033]在本發(fā)明一些實(shí)施例中，所述凹槽按照矩陣排布。
[0034]在本發(fā)明一些實(shí)施例中，所述磁控板固定機(jī)構(gòu)為設(shè)置有多個(gè)吸附機(jī)構(gòu)的底板，所述磁控板單元以可拆卸的方式固定在所述可吸附機(jī)構(gòu)上。
[0035]本發(fā)明進(jìn)一步還提供一種磁控裝置，用于在磁控濺射過程中控制成膜位置，包括本發(fā)明任意一項(xiàng)實(shí)施例所提供的磁控板，如圖2B所示為本實(shí)施例中的磁控裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0036]從上面所述可以看出，本發(fā)明提供的磁控裝置，其中的磁控板由多個(gè)可拆卸連接的磁控板單元組成，在磁控濺射過程中，可以通過對磁控板單元的拆卸組裝改變磁控范圍，使得磁控范圍與需要成膜的目標(biāo)基板或其它目標(biāo)產(chǎn)品的形狀或大小相適應(yīng)，從而當(dāng)需要成膜的區(qū)