7 ym的球形Si02粉末、平均粒徑1 ym的Cr 203粉末。另外，準備調(diào)節(jié)至粒徑為50 ym以 上且150 y m以下的范圍的Co粗粉，使平均粒徑4 y m的Co粉末與上述Co粗粉的比率以重 量比計為7:3。按照下述組成比稱量2000g這些粉末。
[0071]組成：69C〇-18Pt-2Cr-5Si02-2Ti02-4Cr203(摩爾 ％ )
[0072] 然后，除Co粗粉以外，將稱量的粉末與作為粉碎介質(zhì)的鎢合金球一同封入容量10 升的球磨機罐中，并通過旋轉(zhuǎn)120小時而進行混合。然后，向球磨機罐中補充添加Co粗粉， 并混合1小時。將如此得到的混合粉填充到碳制模具中，在真空氣氛中、溫度ll〇〇°C、保持 時間2小時、加壓壓力30MPa的條件下進行熱壓，從而得到燒結體。進一步將其用車床進行 切削加工，從而得到直徑為180_、厚度為5_的圓盤狀的靶。
[0073] 測定如此得到的靶的平均漏磁通密度，結果為30%。需要說明的是，漏磁通的測定 按照ASTM F2086-01(圓形磁控派射革E的磁通量的標準測試方法（Standard Test Method for Pass Through Flux of Circular Magnetic Sputtering Targets)，方法 2)來實施。 具體而言，將靶的中心固定，用使其旋轉(zhuǎn)0度、30度、60度、90度、120度并測定的漏磁通密 度除以由ASTM定義的參考場（reference field)的值，并乘以100,以百分率表示。然后， 將對這5點進行平均而得到的結果作為平均漏磁通密度（％ )。
[0074] 對該靶表面進行拋光，并用顯微鏡觀察組織，結果可知，如圖1所示，在非磁性材 料粒子分散于金屬相的組織中，散布有金屬顆粒。在將位于金屬顆粒的外周上的任意2點 的距離的最大值設為最大直徑、將以平行的兩條直線夾持該金屬顆粒時兩直線間的距離的 最小值設為最小直徑時，該最大直徑與最小直徑之和為30 y m以上的金屬顆粒在1mm2視野 內(nèi)確認到平均40個。
[0075] 另外，為了對非磁性材料粒子進行觀察，將圖1的放大圖示于圖2中。在將位于 非磁性材料粒子的外周上的任意2點的距離的最大值作為設為最大直徑、將以平行的兩條 直線夾持該粒子時兩直線間的距離的最小值設為最小直徑時，最大直徑與最小直徑之差為 0. 7 ym以下的氧化物粒子在顯微鏡視野內(nèi)存在85%，平均粒徑為0. 75 ym。
[0076] 需要說明的是，在計算氧化物粒子的最大直徑、最小直徑、平均粒徑時，如圖3所 示，將顯微鏡圖像反映到PC屏幕上，通過進行圖像分析處理（二值化處理）而使氧化物粒 子（黑色部分）的輪廓明確，然后計算出上述值。
[0077] 接著，將該靶安裝到DC磁控濺射裝置中并進行濺射。濺射條件設定為濺射功率 1. 2kW、Ar氣壓1. 5Pa，實施2千瓦時的預濺射，然后以lOOOnrn的目標膜厚向直徑4英寸的 硅基板上濺射。然后，使用粉粒計數(shù)儀測定附著到基板上的粉粒的個數(shù)。此時的硅基板上 的粉粒數(shù)為4個。
[0078]另外，即使在不進行濺射的情況下，使用粉粒計數(shù)儀進行測定時，在硅基板上粉粒 數(shù)有時也計數(shù)到〇~5個，因此，本實施例的粉粒數(shù)為4個可以說是粉粒數(shù)極少的水平。
[0079](實施例2)
[0080] 準備作為金屬原料粉末的平均粒徑4 y m的Co粉末、平均粒徑3 y m的Pt粉末、平 均粒徑7 y m的Ru粉末、平均粒徑6 y m的Ta粉末，作為氧化物粉末的平均粒徑1. 2 y m的 Ti02粉末、平均粒徑0. 7 y m的球形SiO 2粉末、平均粒徑0. 8 y m的C〇0粉末、平均粒徑5 y m 的B203粉末。另外，準備調(diào)節(jié)至粒徑為50 ym~300 ym的范圍的Co粗粉，使平均粒徑4 ym 的Co粉末與上述Co粗粉的比率以重量比計為7:3。按照下述組成比稱量2000g這些粉末。
[0081]組成：61. 2C〇-22Pt-3Ru-0. 8Ta-6Si02-2Ti02-4Co0-lB203(摩爾 ％ )
[0082] 然后，除Co粗粉以外，將稱量的粉末與作為粉碎介質(zhì)的鎢合金球一同封入容量10 升的球磨機罐中，并通過旋轉(zhuǎn)120小時而進行混合。然后，在球磨機罐中補充添加Co粗粉， 并混合1小時。將如此得到的混合粉填充到碳制模具中，在真空氣氛中、溫度l〇〇〇°C、保持 時間2小時、加壓壓力30MPa的條件下進行熱壓，從而得到燒結體。進一步將其用車床進行 切削加工，從而得到直徑為180_、厚度為5_的圓盤狀的靶。
[0083] 實施例2的靶的平均漏磁通密度為28%。對該靶表面進行拋光，并用顯微鏡觀察 組織，結果可知，如圖4所示，在非磁性材料粒子分散于金屬相的組織中，散布有金屬顆粒。 與實施例1同樣進行評價的最大直徑與最小直徑之和為30 y m以上的金屬顆粒在1mm2視野 內(nèi)確認到平均19個。另外，為了對非磁性材料粒子進行觀察，將圖4的放大圖示于圖5中。 與實施例1同樣進行評價的最大直徑與最小直徑之差為〇. 7 ym以下的非磁性材料粒子的 比例為64%，平均粒徑為1. 26 ym。
[0084] 接著，將該靶安裝到DC磁控濺射裝置中并進行濺射。濺射條件與實施例1同樣地 設定，使濺射功率為1. 2kW、Ar氣壓為1. 5Pa，實施2千瓦時的預濺射，然后以lOOOnrn的目 標膜厚向直徑4英寸的硅基板上濺射。然后，使用粉粒計數(shù)儀測定附著到基板上的粉粒的 個數(shù)。此時的硅基板上的粉粒數(shù)為4個。
[0085](實施例3)
[0086] 準備作為金屬原料粉末的平均粒徑4 ym的Co粉末、平均粒徑3 ym的Pt粉末、 平均粒徑7 y m的Co-B粉末，作為氧化物粉末的平均粒徑1. 2 y m的Ti02粉末、平均粒徑 0? 7 y m的球形Si02粉末、平均粒徑0? 8 y m的MnO粉末、平均粒徑2 y m的Co 304粉末。另 外，準備調(diào)節(jié)至粒徑為50 y m~300 y m的范圍的Co粗粉，使平均粒徑4 y m的Co粉末與上 述Co粗粉的比率以重量比計為7:3。按照下述組成比稱量2000g這些粉末。
[0087]組成：63C〇-21Pt-3B-6Si02-2Ti02-4Mn0-lC〇304(摩爾 ％ )
[0088] 然后，除Co粗粉以外，將稱量的粉末與作為粉碎介質(zhì)的鎢合金球一同封入容量10 升的球磨機罐中，并通過旋轉(zhuǎn)120小時而進行混合。然后，在球磨機罐中補充添加Co粗粉， 并混合1小時。將如此得到的混合粉填充到碳制模具中，在真空氣氛中、溫度l〇〇〇°C、保持 時間2小時、加壓壓力30MPa的條件下進行熱壓，從而得到燒結體。進一步將其用車床進行 切削加工，從而得到直徑為180_、厚度為5_的圓盤狀的靶。
[0089] 實施例3的靶的平均漏磁通密度為31 %。對該靶表面進行拋光，并用顯微鏡觀察 組織，結果可知，在非磁性材料粒子分散于金屬相的組織中，散布有金屬顆粒。與實施例1 同樣進行評價的最大直徑與最小直徑之和為30 ym以上的金屬顆粒在1mm2視野內(nèi)確認到 平均18個。另外，與實施例1同樣進行評價的最大直徑與最小直徑之差為0. 7 ym以下的 非磁性材料粒子的比例為60%，平均粒徑為1. 16 ym。
[0090] 接著，將該靶安裝到DC磁控濺射裝置中并進行濺射。濺射條件與實施例1同樣地 設定，使濺射功率為1. 2kW、Ar氣壓為1. 5Pa，實施2千瓦時的預濺射，然后以lOOOnm的目 標膜厚向直徑4英寸的硅基板上濺射。然后，使用粉粒計數(shù)儀測定附著到基板上的粉粒的 個數(shù)。此時的硅基板上的粉粒數(shù)為5個。
[0091](實施例4)
[0092] 準備作為金屬原料粉末的平均粒徑4 y m的Fe粉末、平均粒徑3 y m的Pt粉末、平 均粒徑7 y m的Fe-B粉末，作為氧化物粉末的平均粒徑0. 8 y m的球形Si02粉末。另外，準 備調(diào)節(jié)至粒徑為50 ym~300 ym的范圍的Fe粗粉，使平均粒徑4 ym的Fe粉末與上述Fe 粗粉的比率以重量比計為8:2。按照下述組成比稱量2000g這些粉末。
[0093]組成：52Fe-25Pt_5B-l8Si02(摩爾 ％ )
[0094] 接著，除Fe粗粉以外，將稱量的粉末與作為粉碎介質(zhì)的鎢合金球一同封入容量10 升的球磨機罐中，并通過旋轉(zhuǎn)120小時而進行混合。然后，在球磨機罐中補充添加Fe粗粉， 并混合1小時。將如此得到的混合粉填充到碳制模具中，在真空氣氛中、溫度1300°C、保持 時間2小時、加壓壓力30MPa的條件下進行熱壓，從