。如果為正球形或接近正球形的氧化物粒子，則粒子的 形狀一致，因此，偏析減少，能夠有效地抑制粉粒產(chǎn)生。
[0043] 基于上述發(fā)現(xiàn)，本發(fā)明中，在將位于在靶的拋光面上觀察到的非磁性材料粒子的 外周上的任意2點的距離的最大值設為最大直徑、將以平行的兩條直線夾持該粒子時兩直 線間的距離的最小值設為最小直徑時，使該最大直徑與最小直徑之差為0. 7 ym以下。
[0044] 另外，優(yōu)選這樣的非磁性材料粒子占靶的一大半，即，占60 %以上，優(yōu)選為90 %以 上，進一步優(yōu)選為100%。由此，能夠顯著抑制粉粒的產(chǎn)生。
[0045] 本發(fā)明在上述發(fā)現(xiàn)的基礎(chǔ)上進一步得到新的發(fā)現(xiàn)，通過不僅規(guī)定非磁性材料粒子 的形態(tài)，而且還規(guī)定含有Co或Fe的金屬顆粒的形態(tài)，能夠抑制異常放電，能夠更顯著地抑 制粉粒的產(chǎn)生。
[0046] 即，本發(fā)明的特征在于，在將位于在靶的拋光面上觀察到的金屬顆粒的外周上的 任意2點的距離的最大值設為最大直徑、將以平行的兩條直線夾持該金屬顆粒時兩直線間 的距離的最小值設為最小直徑時，該最大直徑與最小直徑之和為30 ym以上的金屬顆粒在 1mm2視野內(nèi)存在平均1個以上，優(yōu)選存在平均3個以上，進一步優(yōu)選存在平均5個以上。
[0047] 需要說明的是，本發(fā)明中，對靶面內(nèi)的任意5處進行顯微鏡觀察，計數(shù)各部位的 1_2視野內(nèi)的最大直徑與最小直徑之和為30ym以上的金屬顆粒的數(shù)量，并由其合計求出 平均個數(shù)。
[0048] 在將位于金屬顆粒的外周上的任意2點的距離的最大值設為最大直徑、將以平行 的兩條直線夾持該金屬顆粒時兩直線間的距離的最小值設為最小直徑時，該最大直徑與最 小直徑之和為30 ym以上的金屬顆粒在1mm2視野內(nèi)存在平均1個以上時，漏磁通增大。而 且，在磁控濺射裝置中使用時，有效地促進惰性氣體的電離，能夠得到穩(wěn)定的放電。
[0049] 另一方面，在將位于金屬顆粒的外周上的任意2點的距離的最大值設為最大直 徑、將以平行的兩條直線夾持該金屬顆粒時兩直線間的距離的最小值設為最小直徑時，該 最大直徑與最小直徑之和小于30ym、或者該最大直徑與最小直徑之和為30ym以上的金 屬顆粒在1mm2視野內(nèi)存在小于平均1個時，幾乎得不到上述效果。
[0050] 另外，上述最大直徑與最小直徑之和為50ym以上時，更強地表現(xiàn)出上述效果，但 上述最大直徑與最小直徑之和大于300ym時，有時氧化物粒子的存在分布產(chǎn)生不均。
[0051] 本發(fā)明的強磁性材料派射祀對Co-Cr基合金、Co-Pt基合金、Co-Cr-Pt基合金等 Co基合金或Fe-Pt基合金等Fe基合金特別有效，但本申請發(fā)明能夠應用于已經(jīng)公知的強磁 性材料，作為磁記錄介質(zhì)所需的成分的配合比例可以根據(jù)目的來適當調(diào)節(jié)。
[0052] 作為Co基合金，可以是Cr為0摩爾％以上且15摩爾％以下、Pt為5摩爾％以上 且30摩爾％以下、除非磁性材料以外的余量由Co和不可避免的雜質(zhì)構(gòu)成的濺射靶。作為 Fe基合金，可以是Pt大于0摩爾％且為60摩爾％以下、除非磁性材料以外的余量由Fe和 不可避免的雜質(zhì)構(gòu)成的濺射靶。
[0053] 這些成分組成給出了為了利用作為強磁性材料的特性的適當?shù)臄?shù)值范圍，當然也 可以應用除此以外的數(shù)值。
[0054] 添加到上述強磁性材料中的非磁性材料為選自B20 3、C〇0、C〇304、MnO、Mn203、Si02、 Ti02、Ti20 3、Cr203、Ta205、W0 2、W03、Zr02中的一種以上氧化物，通常，在靶中含有0? 5~20摩 爾％的上述氧化物。這些氧化物可以根據(jù)所需要的強磁性膜的種類來任意地選擇添加。上 述添加量為用于發(fā)揮添加效果的有效量。
[0055] 另外，本發(fā)明的派射革巴可以添加0.5~12摩爾％的選自Mg、Al、Si、Mn、Nb、Mo、Ru、 Pd、Ta、W、B中的一種以上元素。這些元素是為了提高作為磁記錄介質(zhì)的特性而根據(jù)需要添 加的元素。上述添加量為用于發(fā)揮添加效果的有效量。
[0056]另外，本發(fā)明的濺射靶的組織由非磁性材料粒子、分散有非磁性材料粒子的含有 Co或Fe的金屬相以及金屬顆粒構(gòu)成，該金屬顆粒優(yōu)選包含Co或Fe。
[0057] 該金屬顆粒的最大磁導率高于組成不同的金屬基體（分散有非磁性材料粒子的 金屬相）的最大磁導率，形成各金屬顆粒被包含金屬基體的周圍組織分離的結(jié)構(gòu)。在具有 這樣的組織的靶中，漏磁場提高的理由目前未必明確，但認為是如下理由：靶內(nèi)部的磁通產(chǎn) 生密集的部分和稀疏的部分，與具有均勻磁導率的組織相比，靜磁能增高，因此，磁通漏出 到靶外部在能量方面是有利的。
[0058] 本發(fā)明的濺射靶可以通過粉末冶金法來制作。在粉末冶金法的情況下，除了后述 的金屬粗粉以外，還準備Co、Cr、Pt、Fe等金屬原料粉、Si0 2等非磁性材料原料粉、以及根據(jù) 需要的Ru等添加金屬粉。關(guān)于原料的粒度，優(yōu)選使用平均粒徑10 ym以下的金屬粉、平均 粒徑5 y m以下的非磁性材料粉。盡可能接近球形的非磁性材料原料粉更容易實現(xiàn)本發(fā)明 的微細組織。另外，也可以準備這些金屬的合金粉末來代替各金屬元素的粉末。另外，粉末 的粒徑可以使用激光衍射式粒度分布計（HORIBA LA-920)來測定。
[0059] 然后，稱量這些金屬粉末和合金粉末以得到期望的組成，并使用球磨機等公知的 方法在粉碎的同時進行混合。為了縮短混合時間從而提高生產(chǎn)率，優(yōu)選使用高能球磨機。在 此，優(yōu)選在金屬原料粉中混合少量粒徑在50 y m以上且300 y m以下的范圍內(nèi)的至少一種成 分的金屬粗粉。此時，從保持粒徑的觀點出發(fā)，優(yōu)選在使用球磨機長時間混合后添加，或者， 使用混合機等不具有粉碎性的輕度混合機進行混合。另外，也可以在球磨混合的中途添加 并進行短時間的球磨混合。由此，金屬顆粒成為扁平狀，長徑與短徑之差增大。
[0060] 如此能夠使金屬顆粒為球形或扁平狀（片狀），該球形或扁平狀的金屬顆粒根據(jù) 其形狀各自具有利弊得失。該形狀的選擇優(yōu)選根據(jù)靶的使用目的來進行選擇。
[0061] 具體而言，對于球形而言，在通過燒結(jié)法制作靶材時，在金屬基體（A)與相（B)的 邊界面不易產(chǎn)生空隙，能夠提高靶的密度。另外，在相同體積的情況下，球形的表面積更小， 因此，在使靶材燒結(jié)時，在金屬基體（A)與相（B)之間不易發(fā)生金屬元素的擴散。另外，在 此所述的球形表示包括正球、偽正球、扁球（旋轉(zhuǎn)橢圓體）、偽扁球的立體形狀。均指長軸與 短軸之差為0~50%的立體形狀。
[0062] 另一方面，在使金屬顆粒為扁平狀的情況下，正好利用楔效應而具有在濺射時防 止金屬顆粒從周圍的金屬基體（A)脫離的效果。另外，通過破壞球形，能夠減輕在球形時容 易產(chǎn)生的侵蝕速度的偏差，能夠抑制由侵蝕速度不同的邊界引起的粉粒產(chǎn)生。
[0063] 本發(fā)明中，重要的是，如前所述，在將位于在靶的拋光面上觀察到的組織內(nèi)的非磁 性材料粒子的外周上的任意2點的距離的最大值設為最大直徑、將以平行的兩條直線夾持 該粒子時兩直線間的距離的最小值設為最小直徑時，使最大直徑與最小直徑之差為〇. 7 ym 以下。
[0064]另外，本發(fā)明中，特別重要的是，在將位于在靶的拋光面上觀察到的金屬顆粒的外 周上的任意2點的距離的最大值設為最大直徑、將以平行的兩條直線夾持該金屬顆粒時兩 直線間的距離的最小值設為最小直徑時，該最大直徑與最小直徑之和為30mm以上的金屬 顆粒在1mm 2視野內(nèi)存在平均1個以上。
[0065] 最大直徑和最小直徑的計算通過將靶中的拋光面的顯微鏡圖像反映到PC上，并 使用圖像處理分析軟件來進行計算。圖像處理分析軟件使用基恩士公司制作的形狀分析軟 件（VK-Analyzer VK-H1A1)。
[0066] 將如上得到的混合粉使用熱壓機、熱等靜壓機進行燒結(jié)。雖然還取決于靶的成分 組成，但如果通過設定上述原料的混合條件、燒結(jié)條件來找出使非磁性材料粒子成為正球 形的條件和使金屬顆粒成為扁平狀的條件并將該制造條件固定，則始終能夠得到這樣的分 散有非磁性材料粒子、金屬顆粒的燒結(jié)體靶。
[0067] 實施例
[0068] 以下，基于實施例和比較例進行說明。需要說明的是，本實施例只是一例，本發(fā)明 不受該例的任何限制。即，本發(fā)明僅受權(quán)利要求書的限制，其包含本發(fā)明中所含的實施例以 外的各種變形。
[0069](實施例1)
[0070] 準備作為金屬原料粉末的平均粒徑4 ym的Co粉末、平均粒徑5 ym的Cr粉末、 平均粒徑3 ym的Pt粉末，作為非磁性材料粉末的平均粒徑1. 2 ym的Ti02粉末、平均粒徑 0.