為取片后的結(jié)束動(dòng)作。劃分后的工藝流程，清楚簡(jiǎn)單，機(jī)臺(tái)在執(zhí)行過程中可以準(zhǔn)確定位當(dāng)前的工藝流程的階段，便于控制和維護(hù)。
[0053]本發(fā)明提供的常壓化學(xué)氣相淀積中的工藝流程控制方法，其具體的執(zhí)行流程如下:
[0054]放片前的準(zhǔn)備動(dòng)作為:在第一機(jī)械手從Cassette中取第一片wafer之前，控制PM進(jìn)行H2吹掃,并且執(zhí)行FindHome操作。
[0055]放片動(dòng)作包括:
[0056]Sll,控制第一機(jī)械手從Cassette中取片；
[0057]S12,開啟外閥，控制1adlock進(jìn)行吹掃準(zhǔn)備，控制第一機(jī)械手將wafer放到1adlock中，關(guān)閉外閥，控制1adlock進(jìn)行N2吹掃；
[0058]S13,控制 Aligner 進(jìn)行 Align (調(diào)整)操作；
[0059]S14,開啟內(nèi)閥，控制第二機(jī)械手從1adlock中取片，關(guān)閉內(nèi)閥，控制1adlock進(jìn)行N2吹掃；
[0060]S15，開啟門閥，控制TC進(jìn)行N2吹掃，控制第二機(jī)械手將wafer放入PM中；
[0061]S16，判斷工藝所需的wafer是否都傳輸?shù)絇M中，即第二機(jī)械手是否將工藝所需的最后一片wafer傳輸?shù)絇M中，若判斷為否，則返回Sll ；
[0062]放片后的結(jié)束動(dòng)作為:在第二機(jī)械手將工藝所需的最后一片wafer傳輸?shù)絇M中后，關(guān)閉門閥，控制TC停止N2吹掃。
[0063]工藝過程為控制PM對(duì)wafer執(zhí)行工藝。
[0064]取片前的準(zhǔn)備動(dòng)作為:在PM執(zhí)行工藝后，且第二機(jī)械手從PM中取第一片wafer之前，控制PM進(jìn)行H2吹掃，開啟門閥，控制TC進(jìn)行N2吹掃。
[0065]取片動(dòng)作包括:
[0066]S21，控制第二機(jī)械手從PM中取片；
[0067]S22，開啟內(nèi)閥，控制第二機(jī)械手將wafer放到1adlock中，關(guān)閉內(nèi)閥，控制1adlock進(jìn)行N2吹掃；
[0068]S23,開啟外閥,控制1adlock進(jìn)行吹掃準(zhǔn)備,控制第一機(jī)械手從1adlock中取片，關(guān)閉外閥，控制1adlock進(jìn)行N2吹掃；
[0069]S24,控制第一機(jī)械手將wafer放到Cassette中；
[0070]S25，判斷PM中的wafer是否都傳輸?shù)紺assette中，即判斷第一機(jī)械手是否將PM中最后一片wafer傳輸?shù)紺assette中，若判斷為否,貝U返回S21 ；
[0071]取片后的結(jié)束動(dòng)作為:在第一機(jī)械手將PM中最后一片wafer傳輸?shù)紺assette中后，先關(guān)閉門閥，控制TC停止N2吹掃，然后，控制PM執(zhí)行Ze1fast操作。
[0072]本發(fā)明提供的常壓化學(xué)氣相淀積中的工藝流程控制方法，通過將工藝流程重新劃分并進(jìn)行控制，避免了在每次放片或取片時(shí)，均需要判斷是否是第一片或最后一片，以確認(rèn)是否需要準(zhǔn)備或結(jié)束相應(yīng)的操作，而且，劃分后的流程清楚簡(jiǎn)單，機(jī)臺(tái)在執(zhí)行過程中可以準(zhǔn)確定位當(dāng)前的工藝流程的階段，有利于對(duì)工藝執(zhí)行過程的監(jiān)控和維護(hù)。
[0073]基于同一發(fā)明構(gòu)思，相應(yīng)地本發(fā)明實(shí)施例還提供一種常壓化學(xué)氣相淀積中的工藝流程控制系統(tǒng)，由于此系統(tǒng)解決問題的原理與前述常壓化學(xué)氣相淀積中的工藝流程控制方法的實(shí)現(xiàn)原理相似，此系統(tǒng)的實(shí)施可以通過前述方法的具體過程實(shí)現(xiàn)，因此重復(fù)之處不再贅述。
[0074]本發(fā)明實(shí)施例提供的常壓化學(xué)氣相淀積中的工藝流程控制系統(tǒng)，如圖3所示，包括第一設(shè)置模塊100、控制模塊200以及第二設(shè)置模塊300 ；
[0075]第一設(shè)置模塊100，用于在工藝開始前，設(shè)置機(jī)臺(tái)的初始狀態(tài)為空閑狀態(tài)并進(jìn)行H2吹掃；
[0076]控制模塊200，用于將工藝流程劃分為放片流程、工藝過程以及取片流程，其中，放片流程中包括放片前的準(zhǔn)備動(dòng)作、放片動(dòng)作以及放片后的結(jié)束動(dòng)作，取片流程中包括取片前的準(zhǔn)備動(dòng)作、取片動(dòng)作以及取片后的結(jié)束動(dòng)作，控制機(jī)臺(tái)依次執(zhí)行放片前的準(zhǔn)備動(dòng)作、放片動(dòng)作、放片后的結(jié)束動(dòng)作、工藝過程、取片前的準(zhǔn)備動(dòng)作、取片動(dòng)作以及取片后的結(jié)束動(dòng)作；
[0077]第二設(shè)置模塊300，用于在工藝結(jié)束后，設(shè)置機(jī)臺(tái)的結(jié)束狀態(tài)為空閑狀態(tài)并進(jìn)行H2吹掃。
[0078]其中，放片前的準(zhǔn)備動(dòng)作為:在第一機(jī)械手從Cassette中取第一片wafer之前，控制PM進(jìn)行H2吹掃，并且執(zhí)行FindHome操作。
[0079]放片后的結(jié)束動(dòng)作為:在弟_■機(jī)械手將工藝所需的最后一片wafer傳輸?shù)絇M中后，關(guān)閉門閥，控制TC停止N2吹掃。
[0080]取片前的準(zhǔn)備動(dòng)作為:在PM執(zhí)行工藝后，且第二機(jī)械手從PM中取第一片wafer之前，控制PM進(jìn)行H2吹掃，開啟門閥，控制TC進(jìn)行N2吹掃。
[0081]取片后的結(jié)束動(dòng)作為:在第一機(jī)械手將PM中最后一片wafer傳輸?shù)紺assette中后，先關(guān)閉門閥，控制TC停止N2吹掃，然后，控制PM執(zhí)行Ze1fast操作。
[0082]本發(fā)明提供的常壓化學(xué)氣相淀積中的工藝流程控制方法及系統(tǒng)，通過將工藝流程重新劃分并進(jìn)行控制，避免了在每次放片或取片時(shí)，均需要判斷是否是第一片或最后一片，以確認(rèn)是否需要準(zhǔn)備或結(jié)束相應(yīng)的操作，而且，劃分后的流程清楚簡(jiǎn)單，機(jī)臺(tái)在執(zhí)行過程中可以準(zhǔn)確定位當(dāng)前的工藝流程的階段，有利于對(duì)工藝執(zhí)行過程的監(jiān)控和維護(hù)。
[0083]以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本發(fā)明的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對(duì)本發(fā)明專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此，本發(fā)明專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種常壓化學(xué)氣相淀積中的工藝流程控制方法，其特征在于，包括以下步驟: S100，在工藝開始前，設(shè)置機(jī)臺(tái)的初始狀態(tài)為空閑狀態(tài)并進(jìn)行H2吹掃； S200，將工藝流程劃分為放片流程、工藝過程以及取片流程，其中，所述放片流程中包括放片前的準(zhǔn)備動(dòng)作、放片動(dòng)作以及放片后的結(jié)束動(dòng)作，所述取片流程中包括取片前的準(zhǔn)備動(dòng)作、取片動(dòng)作以及取片后的結(jié)束動(dòng)作，控制所述機(jī)臺(tái)依次執(zhí)行所述放片前的準(zhǔn)備動(dòng)作、放片動(dòng)作、放片后的結(jié)束動(dòng)作、工藝過程、取片前的準(zhǔn)備動(dòng)作、取片動(dòng)作以及取片后的結(jié)束動(dòng)作； S300，在工藝結(jié)束后，設(shè)置所述機(jī)臺(tái)的結(jié)束狀態(tài)為空閑狀態(tài)并進(jìn)行H2吹掃。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的常壓化學(xué)氣相淀積中的工藝流程控制方法，其特征在于，所述放片前的準(zhǔn)備動(dòng)作為:在第一機(jī)械手從片盒中取第一片晶片之前，控制工藝腔進(jìn)行H2吹掃，并且執(zhí)行找原點(diǎn)操作。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的常壓化學(xué)氣相淀積中的工藝流程控制方法，其特征在于，所述放片后的結(jié)束動(dòng)作為:在第二機(jī)械手將工藝所需的最后一片晶片傳輸?shù)焦に嚽恢泻?，關(guān)閉門閥，控制傳輸腔停止N2吹掃。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的常壓化學(xué)氣相淀積中的工藝流程控制方法，其特征在于，所述取片前的準(zhǔn)備動(dòng)作為:在工藝腔執(zhí)行工藝后，且第二機(jī)械手從工藝腔中取第一片晶片之前，控制工藝腔進(jìn)行H2吹掃，開啟門閥，控制傳輸腔進(jìn)行N2吹掃。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的常壓化學(xué)氣相淀積中的工藝流程控制方法，其特征在于，所述取片后的結(jié)束動(dòng)作為:在弟一機(jī)械手將工藝腔中最后一片晶片傳輸?shù)狡兄泻螅汝P(guān)閉門閥，控制傳輸腔停止N2吹掃，然后，控制工藝腔執(zhí)行快速找原點(diǎn)操作。
6.一種常壓化學(xué)氣相淀積中的工藝流程控制系統(tǒng)，其特征在于，包括第一設(shè)置模塊、控制模塊以及第二設(shè)置模塊； 所述第一設(shè)置模塊，用于在工藝開始前，設(shè)置機(jī)臺(tái)的初始狀態(tài)為空閑狀態(tài)并進(jìn)行H2吹掃； 所述控制模塊，用于將工藝流程劃分為放片流程、工藝過程以及取片流程，其中，所述放片流程中包括放片前的準(zhǔn)備動(dòng)作、放片動(dòng)作以及放片后的結(jié)束動(dòng)作，所述取片流程中包括取片前的準(zhǔn)備動(dòng)作、取片動(dòng)作以及取片后的結(jié)束動(dòng)作，控制所述機(jī)臺(tái)依次執(zhí)行所述放片前的準(zhǔn)備動(dòng)作、放片動(dòng)作、放片后的結(jié)束動(dòng)作、工藝過程、取片前的準(zhǔn)備動(dòng)作、取片動(dòng)作以及取片后的結(jié)束動(dòng)作； 所述第二設(shè)置模塊，用于在工藝結(jié)束后，設(shè)置所述機(jī)臺(tái)的結(jié)束狀態(tài)為空閑狀態(tài)并進(jìn)行民吹掃。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的常壓化學(xué)氣相淀積中的工藝流程控制系統(tǒng)，其特征在于，所述放片前的準(zhǔn)備動(dòng)作為:在第一機(jī)械手從片盒中取第一片晶片之前，控制工藝腔進(jìn)行H2吹掃，并且執(zhí)行找原點(diǎn)操作。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的常壓化學(xué)氣相淀積中的工藝流程控制系統(tǒng)，其特征在于，所述放片后的結(jié)束動(dòng)作為:在第二機(jī)械手將工藝所需的最后一片晶片傳輸?shù)焦に嚽恢泻螅P(guān)閉門閥，控制傳輸腔停止N2吹掃。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的常壓化學(xué)氣相淀積中的工藝流程控制系統(tǒng)，其特征在于，所述取片前的準(zhǔn)備動(dòng)作為:在工藝腔執(zhí)行工藝后，且第二機(jī)械手從工藝腔中取第一片晶片之前，控制工藝腔進(jìn)行H2吹掃，開啟門閥，控制傳輸腔進(jìn)行N2吹掃。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的常壓化學(xué)氣相淀積中的工藝流程控制系統(tǒng)，其特征在于，所述取片后的結(jié)束動(dòng)作為:在弟一機(jī)械手將工藝腔中最后一片晶片傳輸?shù)狡兄泻?，先關(guān)閉門閥，控制傳輸腔停止N2吹掃，然后，控制工藝腔執(zhí)行快速找原點(diǎn)操作。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種常壓化學(xué)氣相淀積中的工藝流程控制方法及系統(tǒng)，其中方法包括：在工藝開始前，設(shè)置機(jī)臺(tái)的初始狀態(tài)為空閑狀態(tài)并進(jìn)行H2吹掃；將工藝流程劃分為放片流程、工藝過程以及取片流程，其中，放片流程中包括放片前的準(zhǔn)備動(dòng)作、放片動(dòng)作以及放片后的結(jié)束動(dòng)作，取片流程中包括取片前的準(zhǔn)備動(dòng)作、取片動(dòng)作以及取片后的結(jié)束動(dòng)作，控制機(jī)臺(tái)依次執(zhí)行放片前的準(zhǔn)備動(dòng)作、放片動(dòng)作、放片后的結(jié)束動(dòng)作、工藝過程、取片前的準(zhǔn)備動(dòng)作、取片動(dòng)作以及取片后的結(jié)束動(dòng)作；在工藝結(jié)束后，設(shè)置機(jī)臺(tái)的結(jié)束狀態(tài)為空閑狀態(tài)并進(jìn)行H2吹掃。其避免了工藝流程中在每次放片或取片時(shí)的重復(fù)判斷操作，使得流程清楚簡(jiǎn)單，便于對(duì)工藝執(zhí)行過程的監(jiān)控和維護(hù)。
【IPC分類】C23C16-52
【公開號(hào)】CN104805418
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410033290
【發(fā)明人】王艷領(lǐng)
【申請(qǐng)人】北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司
【公開日】2015年7月29日
【申請(qǐng)日】2014年1月23日