專利名稱：一種拋光頭進給自動調節(jié)機構的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種機械拋光機中拋光頭進給自動調節(jié)機構，適用于物件不平整表面的拋光。
申請人曾在以往的專利申請中，提出對大平面薄殼型物件表面的機械拋光的技術方案，用一個活動可自由調節(jié)的機構對拋光頭在拋光過程中針對凹凸面自動調節(jié)進給量從而實現(xiàn)對平整度不理想的大平面的拋光，提高了拋光面的質量。該調節(jié)機構包括活動底板和固定板，拋光頭固定在活動底板上，固定板安裝在拋光機的進給機構上，諸如小拖板。固定板和活動底板一端用銷軸活動連接，另一端用彈簧進給調節(jié)機構連接。這種機構有效地解決了對平整度不理想表面的拋光。但該機構使用時拋光頭兩端不能同時安裝拋光盤，在一定程度上影響拋光機工作效率，即不能用兩個拋光盤從物件兩則同時進行拋光，限制了拋光空間。
本實用新型目的在于提供一種拋光頭兩端均能安裝拋光盤進行拋光的拋光頭進給自動調節(jié)機構。
本拋光頭進給自動調節(jié)機構包括活動底板6和固定板5，拋光頭7固定在活動底板6上，其特征是活動底板與固定板的兩端由彈簧進給調節(jié)機構連接。
下面結合實施例及其附圖
對本實用新型技術內容給以進一步說明。
附圖為本實用新型拋光頭進給自動調節(jié)機構一種實施例結構示意圖。
由圖，彈簧進給調節(jié)機構包括螺桿4，螺桿一端穿過固定板5和活動底板6連接，螺桿上套有彈簧3，彈簧一端支承在固定板上，另一端支承在墊片2上，螺桿上的螺母1壓住墊片2。
本拋光頭進給自動調節(jié)機構可以安裝一個拋盤光8進行拋光，也可以同時安裝兩個拋光盤進行拋光。拋光時，當拋光盤接觸到凸面時，這時拋光頭承受較大的反進給力，拋光頭上浮，從而減少對凸面的進給量，當拋光盤進入到凹面時，在拋光頭自重作用下，拋光盤下浮增加進給量。這樣使拋光盤對大平面物件進行拋光光時始終與被拋光面保持一定進給量。具有拋光面質量高、拋光效率高、進給均勻等優(yōu)點。
權利要求1.一種拋光頭進給自動調機構，包括活動底板(6)和固定板(5)，拋光頭(7)固定在活動底板(6)上，其特征是活動底板與固定板兩端由彈簧進給調節(jié)機構連接。
2.根據權利要求1所述的拋光頭進給自動調節(jié)機構，其特征是彈簧進給調節(jié)機構包括螺桿(4)，螺桿一端穿過固定板(5)和活動底板(6)連接，螺桿上套有彈簧(3)，彈簧一端支承在固定板上，另一端支承在墊片(2)上，螺桿上的螺母(1)壓住墊片(2)。
專利摘要本實用新型涉及一種拋光頭進給自動調節(jié)機構,包括活動底板6和固定板5,拋光頭7固定在活動底板6上,其特征是活動底板與固定板的兩端由彈簧進給調節(jié)機構連接,螺桿一端穿過固定板和活動底板連接,螺桿上套有彈簧3,彈簧兩端分別支承在固定板和墊片2上,該機構有效地解決平整度不理想表面的拋光,而且拋光頭兩端均可安裝拋光盤進行拋光作業(yè)。
文檔編號B24B49/00GK2317046SQ9821299
公開日1999年5月5日 申請日期1998年3月18日 優(yōu)先權日1998年3月18日
發(fā)明者王小倫 申請人:王小倫