專利名稱：蚌形雙室柱狀弧源多弧離子鍍膜機的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型屬于等離子體氣相沉積領(lǐng)域，應(yīng)用于表面鍍膜、離子滲金屬技術(shù)領(lǐng)域，尤其適用于反應(yīng)沉積氮化鈦等化合物涂層。
多弧離子鍍技術(shù)利用冷場致弧光放電過程使被鍍靶材蒸發(fā)、離化，反應(yīng)沉積氮化鈦等化合物涂層，廣泛應(yīng)用于沉積工模具超硬涂層和仿金精飾層。所采用的多弧源有小平面弧源、矩形大平面弧源、柱狀弧源。安裝這些弧源的多弧離子鍍膜機多為單室結(jié)構(gòu)或雙室結(jié)構(gòu)。如ZL94243337.8、ZL91225278.2。其雙室結(jié)構(gòu)多是與真空機組并聯(lián)的兩個獨立的鍍膜室，雖然其結(jié)構(gòu)已經(jīng)簡化、已經(jīng)省去了一套真空機組，但仍是由兩個獨立的鍍膜室組成。
蚌式雙室鍍膜機目前只是采用電阻蒸發(fā)源的普通蒸發(fā)型鍍膜機，臺灣的三合真空機械有限公司、大永真空工業(yè)股份有限公司均生產(chǎn)這種形狀的鍍膜機。
本實用新型的目的是提供一種蚌式雙室柱狀弧源多弧離子鍍膜機。其特點是兩個鍍膜室中央均安裝一個旋轉(zhuǎn)磁控柱狀弧源，利用柱弧源產(chǎn)生的冷場致弧光放電過程使被鍍材料蒸發(fā)、離化，進行離子鍍膜。鍍膜室的結(jié)構(gòu)是如


圖1所示的蚌式雙室結(jié)構(gòu)，兩個可開合移動的前門輪換與固定體扣合進行鍍膜，它的結(jié)構(gòu)更簡單、成本更低廉。
本實用新型是這樣實現(xiàn)的，鍍膜機的兩個鍍膜室由兩部分組成，一部分是固定不動的共用體(1)，它與真空機組(2)相聯(lián)。另一部分是可以開合移動的主體，也叫前門(3)、(4)，從兩個前門的頂部分別裝入一個旋轉(zhuǎn)磁控柱狀弧源(5)、(6)，工件轉(zhuǎn)架(7)、(8)分別在柱弧源周圍轉(zhuǎn)動，靠近真空室壁安裝烘烤加熱源(9)、(10)，進氣系統(tǒng)(11)、(12)，每個柱弧源配一個引弧針(13)、(14)。
利用蚌式雙室柱狀弧源多弧離子鍍膜機進行鍍膜時，先將可開合移動的前門(3)同旋轉(zhuǎn)磁控柱狀弧源、工件轉(zhuǎn)架、烘烤加熱源、進氣系統(tǒng)、引弧針一起與固定體(2)扣合好后進行鍍膜。另一個可開合移動的前門(4)可以進行工件的拆卸和安裝，待第一爐鍍膜完成后，打開可開合移動的前門(3)，關(guān)上可開合移動的前門(4)進行新的鍍膜過程。
本實用新型是一種安裝旋轉(zhuǎn)磁控柱狀弧源的新型多弧離子鍍膜機，一個鍍膜室中只需安裝一個柱弧源，當驅(qū)動引弧材將柱狀弧源引燃之后，弧斑呈直線狀或螺線狀沿柱弧源的全長分布并沿柱弧源的靶面旋轉(zhuǎn)，可以實現(xiàn)沿整個工件轉(zhuǎn)架高度的均勻鍍膜，而且鍍膜機為蚌式雙室結(jié)構(gòu)，省去了一個固定體。因此，與現(xiàn)在廣泛使用的安裝小弧源的多弧離子鍍膜機相比，尤其是與具有兩個獨立真空室的鍍膜機相比，本實用新型具有鍍膜機結(jié)構(gòu)簡單、操作簡便、成本低廉、鍍膜均勻區(qū)大等優(yōu)點。
圖1是本實用新型的實施例簡圖，
圖1-a為正視圖、
圖1-b為頂視圖。下面結(jié)合實施例對本實用新型做進一步說明。
以鍍氮化鈦為例，當可開合移動的前門(3)安裝好工件后與固定體(2)扣合好，首先抽真空，然后開啟工件轉(zhuǎn)動機構(gòu)，對工件烘烤加熱，充入氬氣，施加工件偏壓后開啟引弧針引燃柱狀弧源，柱弧源上的弧斑呈線狀沿柱弧源全長分布，并沿柱弧源的表面掃描，由于采用的是鈦靶，此時柱弧源從上到下向周圍360方向發(fā)射鈦等離子體子。首先利用鈦、氬離子對工件進行離子轟擊凈化、離子轟擊加熱。改通氮氣后進行鍍氮化鈦膜。達到預(yù)定膜厚之后關(guān)畢弧源電源、氣源、偏壓電源和工件轉(zhuǎn)動機構(gòu)。然后充氣、打開可開合移動的前門(3)。馬上將已安裝好工件的可開合移動的前門(4)與固定體(2)扣合好開始新的鍍膜過程。取出前門(3)中已鍍好的工件，再裝好待鍍的工件等待新的鍍膜過程。
本實用新型采用旋轉(zhuǎn)磁控柱狀弧源的鍍膜均勻區(qū)大、鍍膜室的空間利用率操作簡便，而且蚌式雙室使鍍膜機的結(jié)構(gòu)簡單，節(jié)省材料，成本低廉。
權(quán)利要求1.一種蚌形雙室柱狀弧源多弧離子鍍膜機，鍍膜機的鍍膜室由兩部分組成，一部分是固定不動的共用體(1)，它與真空機組(2)相聯(lián)，另一部分是可以開合移動的主體，也叫前門(3)、(4)，兩個前門的頂部分別裝入旋轉(zhuǎn)磁控柱狀弧源(5)、(6)，而且分別安裝工件轉(zhuǎn)架(7)、(8)，烘烤加熱源(9)、(10)，進氣系統(tǒng)(11)、(12)，引弧針(13)、(14)，其特點是利用兩個鍍膜室中央安裝的旋轉(zhuǎn)磁控柱狀弧源產(chǎn)生的冷場致弧光放電過程使被鍍靶材蒸發(fā)、離化，進行離子鍍膜，蚌式雙室的兩個可開合移動的前門輪換與固定體扣合進行鍍膜。
2.如權(quán)利要求1所述的蚌形雙室柱狀弧源多弧離子鍍膜機，其特征是兩個鍍膜室中安裝的旋轉(zhuǎn)磁控柱狀弧源被引燃后，弧斑呈直線狀或螺線狀沿柱弧源的全長分布并沿柱弧源的靶面旋轉(zhuǎn)，可以實現(xiàn)整個工件轉(zhuǎn)架的均勻鍍膜。
3.如權(quán)利要求1所述的蚌形雙室柱狀弧源離子鍍膜機，其特征是蚌式雙室鍍膜機的鍍膜室由兩部分組成，一部分是固定不動的共用體，一部分是可以開合移動的主體，也叫前門，其中一個前門與固定體扣合后進行鍍膜，另一個前門拆裝工件等待新的鍍膜過程。
專利摘要本實用新型公開了一種蚌形雙室柱狀弧源多弧離子鍍膜機,鍍膜室由兩部分組成,一部分是固定不動的共用體,另一部分是可以開合移動的前門,兩個前門的中央分別裝入旋轉(zhuǎn)磁控柱狀弧源,利用柱弧源產(chǎn)生的冷場致弧光放電過程使被鍍靶材蒸發(fā),離化進行離子鍍膜。兩個前門一開一合,輪換與固定體扣合進行鍍膜,整機結(jié)構(gòu)簡單、操作簡便、鍍膜均勻區(qū)大、成本低廉。適用于表面鍍膜和離子滲金屬技術(shù),尤其適于鍍氮化鈦涂層。
文檔編號C23C14/24GK2374553SQ9722089
公開日2000年4月19日 申請日期1997年7月29日 優(yōu)先權(quán)日1997年7月29日
發(fā)明者王福貞, 朱剛毅 申請人:肇慶市騰勝真空技術(shù)工程有限公司, 王福貞