專利名稱：太陽能選擇性吸收濺射涂層及其工藝方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是一種太陽能選擇性吸收濺射涂層及其工藝方法，涉及金屬材料的擴(kuò)散處理領(lǐng)域。
太陽能選擇性吸收濺射涂層對(duì)太陽光譜具有強(qiáng)烈的吸收作用。它們大多是由紅外線透過率高的外層和對(duì)紅外線有高反射率，低發(fā)射率的金屬膜層構(gòu)成。
目前，太陽能有選擇性吸收濺射涂層的工藝方法，多是采用磁控濺射鍍膜，材料主要是碳、氧金屬化合物和氮金屬化合物。常選用二種金屬為濺射靶，一個(gè)靶子在工作時(shí)，另一個(gè)靶(陰極)需遮蔽。這樣不僅生產(chǎn)效率低，設(shè)備成本高，而且工藝復(fù)雜。若選擇用乙炔氣體為反應(yīng)氣體，制備金屬碳化物涂層，需高溫環(huán)境且要求基體材料耐高溫。
本發(fā)明的目的就是在于克服了上述缺陷提出了一種新的太陽能選擇性吸收濺射涂層及其工藝方法。
本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的用氮加氧(或氮氧化合物)兩種氣體共同參加與鋁陰極分子的反應(yīng)，制成四層膜構(gòu)成的對(duì)太陽能有選擇性吸收濺射涂層。它對(duì)太陽能的吸收率α＞93%以上，反射率ε＜0.06%左右，使之形成了折射率較高的有干涉效果的太陽能吸收層和最外層的陽光防反射膜層。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于對(duì)太陽能的吸收率高，反射率小，成本低生產(chǎn)效率高，工藝方法簡單，是太陽能選擇性吸收濺射涂層的新突破。


圖1是本發(fā)明涂層結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中1是基體，2是底膜，3是紅外線防反射膜，4是太陽能吸收層，5是太陽能防反射膜。
下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步細(xì)述用氮加氧兩種氣體做為濺射鋁靶(陰極)的分子反應(yīng)氣體，用氬氣為背景氣體，在基體1上鍍一層氧加氮及鋁底膜2，厚度為8×10-9m，再在底膜2上鍍一層純鋁厚度大于0.1×10-6m的遠(yuǎn)紅外線防反射膜3。在其鋁原子數(shù)的比值加入一定比例的氮加氧混合反應(yīng)氣體，按經(jīng)驗(yàn)公式從一個(gè)最值變到最大值，相對(duì)反應(yīng)氣體每一種流量對(duì)應(yīng)一定的鍍膜時(shí)間，從而形成了折射率較高的有干涉效果的太陽能吸收層4和最外層的太陽能防反射膜5，從而實(shí)現(xiàn)了太陽能選擇性吸收濺射涂層的新的工藝方法。
權(quán)利要求
1.一種太陽能選擇性吸收濺射涂層及其工藝方法，其特征在于用氮加氧兩種氣體做為濺射出鋁靶(陰極)的分子的反應(yīng)氣體以氬氣為背景氣體，在基體上鍍一層氧加氮及鋁的底膜，厚度為8×10-9m，再在底膜鍍一層純鋁，厚度大于0.1×10-6m的的紅外線防反射膜，在其鋁原子數(shù)的比值加入一定比例的氮加氧混合反應(yīng)氣體按經(jīng)驗(yàn)公式從一個(gè)最值變到最大值，相對(duì)反應(yīng)氣體每一種流量對(duì)應(yīng)一定的鍍膜時(shí)間，從而形成了折射率較高的有干涉效果的太陽能吸收層和最外層的陽光防反射膜。
全文摘要
本發(fā)明是一種太陽能選擇性吸收濺射涂層及其工藝方法，涉及金屬材料的擴(kuò)散處理領(lǐng)域。本發(fā)明是用氮加氧共同參加與鋁陰極分子的反應(yīng)，制成了由四層膜構(gòu)成的對(duì)太陽能有選擇性吸收的涂層，對(duì)太陽能的吸收率大，α＞93％，反射率ε＜0.06％，是太陽能選擇性吸收濺射涂層的又一新突破。
文檔編號(hào)C23C14/34GK1097815SQ9410596
公開日1995年1月25日 申請(qǐng)日期1994年6月7日 優(yōu)先權(quán)日1994年6月7日
發(fā)明者李守祥, 李守祿 申請(qǐng)人:李守祥