專利名稱：碳氮化鈦系列鍍層離子鍍工藝的制作方法
技術領域：
本發(fā)明屬于物理氣相沉積工藝中碳氮化鈦離子鍍層工藝。
所謂離子鍍層系指在真空室內，金屬材料與反應氣體同時被蒸發(fā)和離化，并在電場作用下沉積化合在被鍍件表面，形成有耐磨和耐腐蝕性能并有美觀色澤的合金和化合物鍍層。
離子鍍層的方法由于其鍍層質量優(yōu)異、界面結合力與均勻性好而廣泛應用于耐磨、耐腐蝕和耐高溫等功能性鍍層和裝飾鍍層。離子鍍氮化鈦(TiN)鍍層堅硬致密，耐磨、耐腐蝕，其外觀酷似黃金，光亮度好，目前已在國內外廣泛使用。
近年來國內外采用物理氣相沉積或化學氣相沉積方法制備裝飾鍍層的技術中，只限于解決或改進某一種顏色的色調，基本上采用單層工藝，如美國專利、英國和日本等專利[US 4420498(1983)，GB 2195664(A)(1988);GB2196021(A)(1988);Jp昭62-170560(1986)]分別解決了仿金色調的工藝技術。英國專利[GB 2170821(A)(1986)]，日本專利[昭62-146255(A)(1987)，昭61-183458(A)(1986)]分別解決了TiNC黑色鍍層的單一鍍層技術。此外，日本專利[昭61-170559(A)(1986)]雖采用了TiN+TiC+TiN三層疊加工藝，但由于其目的在于解決工具鍍硬化層的結合力問題，而末考慮表層色調問題。
目前為了進一步提高鍍層質量和增加新的裝飾色彩，正在不斷開拓新的鍍層。碳氮化鈦即是其中的一種，其膜層致密堅硬，可兼顧硬度和韌性的要求(TiN韌性好而硬度稍差，TiC則硬度高而韌性稍差)。特別是碳氮化鈦作為裝飾層，調色范圍廣，可以產生金色、黑色及其間的所有過渡色，如紫色、褐色、槍色(鐵灰色)和灰色，而且每種顏色深淺可調。由于碳氮化鈦所具有的優(yōu)良特性，使其具有廣泛的用途。然而若制備具有上述特性的碳氮化鈦系列鍍層則存在著兩個技術難點一是如何提高界面結合力;二是如何保證作為裝飾鍍層的正確色調。
一、界面為結合力問題。制備碳氮化鈦鍍層時，一般采用氮(N2)和碳氫化合物[如乙炔(C2H2)或甲烷(CH4)等]作反應氣體，但是由于碳氫化合物離化率低，形成的碳氮化鈦鍍層內應力大，鍍層與基材之間有孔洞，因而造成結合力差。提高被鍍件溫度以及偏壓和電流密度是提高界面結合力的有效途徑。但是，被鍍件溫度過高時，某些材料將逸出污染物，從而嚴重影響裝飾鍍層的色調與光澤，因此，要很好地控制溫度，也即是說，改進結合力的措施不應影響正確的色調。
二、碳氮化鈦鍍層的色調問題。氮化鈦鍍層用氮作反應氣體，碳化鈦鍍層用乙炔或甲烷作反應氣體。這兩種鍍層均為二元化合物，其調色范圍很小，基本上是單一的色調，如氮化鈦基本是金黃色;而碳化鈦基本是黑灰色。如果同時使用氮和乙炔(或甲烷)作反應氣體，則形成碳氮化鈦三元化合物。由于鈦、氮、碳三元調色，顏色的可變范圍大大加寬了。但是，要得到所要求的色調正的各種裝飾色，碳、氮、碳必須選擇對應各色的最佳配比，而不同的碳氫化合物，鍍層的工藝條件相差很大，特別是為獲得某些較深顏色而需要增大碳含量時，鍍層和基材之間的結合力明顯下降，也就是，調色時又對界面結合力產生了影響。
由上述可看出保證色調與界面結合力所采取的某些技術措施是相互矛盾的。過去，由于這個問題末能很好地解決，而限制了碳氮化鈦離子鍍層的實際應用。
本發(fā)明的目的在于，提供一種既保證獲得系列的鍍層外觀色調，又保證界面結合力，適用于常用金屬基材的碳氮化鈦系列鍍層的離子鍍工藝。
本發(fā)明所使用的實驗設備如

圖1所示。其中，1為真空鍍層室;2為真空電弧蒸發(fā)源組件;3為有公轉和自轉的鍍件夾具;4為加熱烘烤裝置;5為Ar，N2和C2H2(或CH4)的進氣管;6為蒸發(fā)源電弧電源;7為偏壓電源;8為加熱電源;9為抽氣管路。
鍍膜時，待真空抽至5×10-5托，啟動烘烤加熱至適當溫度(同時啟動鍍件夾具旋轉)，繼之啟動電弧蒸發(fā)源，鍍件夾具和蒸發(fā)源之間施加偏壓開始鍍膜層。首先只通Ar氣至3×10-3托鍍Ti層，第二層通N2氣鍍TiN層，以后根據不同顏色的要求，N2/C2H2采用不同比例分若干層鍍TiNC層，逐漸過渡至表層所要求色調的鈦、氮、碳配比。分層過程期間，蒸發(fā)源電流和偏壓也相應變化。前幾層蒸發(fā)源電流和偏壓取較大數(shù)值，以保證鍍層的結合力;后幾層兩參數(shù)取較小數(shù)值，以保證表面的光澤。
本發(fā)明保證碳氮化鈦系列鍍層色調和界面結合力的離子鍍工藝特征在于采用變參數(shù)分層與變參數(shù)多元色調工藝。
這種工藝的具體內容包括金色、紫色、褐色、灰色、槍色、黑色及相應的深淺不同的顏色的碳氮化鈦鍍層對應于各該最佳的鈦氮、碳配比，即對應于一定的鈦蒸發(fā)速率(以蒸發(fā)源電流值表征);一定的鍍層真空度(以N2+C2H2分壓表征);一定的N2和C2H2(或CH4)比率(分別以其流量值表征)。在確定了鈦蒸發(fā)速率與鍍層真空的情況下，金色、紫色、褐色、灰色、槍色、黑色及相應的深淺不同的顏色的TiNC鍍層即對應于各該N2/C2H2(或N2/CH4)比率，為同時保證界面結合力，采用變參數(shù)分層過渡的工藝方法?；谏鲜鰞牲c，本發(fā)明將金色、紫色、褐色、灰色、槍色、黑色及相應的深淺不同的顏色的TiNC整個鍍層分為2+i個層次，變參數(shù)分層過渡連續(xù)完成，同時保證了優(yōu)良的結合力和美觀的色澤。第一層預鍍Ti，第二層鍍TiN，以后i層鍍TiNC。在鍍TiNC時，將N2和C2H2的流量各分為i個值，即將N2/C2H2的比率分為i個值，N2流量由(N2)1變?yōu)?N2)i，隨顏色變深逐漸減小;C2H2流量由(C2H2)1變?yōu)?C2H2)i，隨顏色變深逐漸增大，最后一層對應于所要求顏色的鈦、氮、碳最佳配比。前幾層選用較大蒸發(fā)源電流和較高工件偏壓，以增加界面擴散和提高結合力;最后幾層選用較小蒸發(fā)源電流和較低工件偏壓，以保證表層有優(yōu)良的光澤。為保證表層的色調，最后一層的鍍層時間較長。
在本發(fā)明的鍍層工藝過程中，使用多元調色解決TiNC鍍層的色調。通過實驗證明，二元化合物氮化鈦或碳化鈦的調色范圍很有限，而同時用N2和C2H2(或CH4)作反應氣體形成的TiNC為三元化合物，C2H2的微量變化即引起其色調明顯地改變。因此，調節(jié)鈦、氮和碳的比率，即調節(jié)Ti的蒸發(fā)速率，N2+C2H2的分壓和N2/C2H2的比率，就可制備出從金黃色到黑色所有的過渡色。圖2表示了TiN-TiNC間Hunter色差?？梢钥闯?，鈦-氮層系曲線1對氮量變化的反應，色調變化幾乎是單一的金黃色;而氮中添加了乙炔氣之后的曲線Ⅱ和Ⅲ色調變化范圍很寬，這就是二元化合物與三元化合物的差異所帶來的影響。曲線Ⅱ為加入N295CC/分+C2H2;曲線Ⅲ為加入N285cc/分+C2H2。
金色、紫色、褐色、灰色、槍色、黑色及相應的深淺不同的顏色的鍍層對應于各該鈦、氮、碳最佳配比。鍍層時，分層次將N2分壓逐漸減小，C2H2分壓逐漸增加，則顏色逐漸加深，最后的表層則對應于該顏色所對應的鈦、氮、碳最佳配比。當Ti蒸發(fā)量(以蒸發(fā)源電流表征)和鍍層真空(即N2+C2H2分壓)確定時，該顏色即對應于各該N2/C2H2最佳比率。幾種顏色的鈦、氮、碳最佳配比如下黑色蒸發(fā)源電流60A，N2+C2H2分壓4×10-3托，原子比Ti15～40%，N210～25%，C40～80%，灰色蒸發(fā)源電流60A，N2+C2H2分壓4×10-3托，原子比Ti15～40%，N20.1～10%(N2也可為零)，C45～80%。
槍色蒸發(fā)源電流50A，N2+C2H2分壓1.2×10-3托，原子比Ti20～40%，N20.1～10%(N2也可為零)，C45～80%。
褐色蒸發(fā)源電流60A，N2+C2H2分壓2×10-3托，原子比Ti25～40%，N225～60%，C5～10%。
紫色蒸發(fā)源電流60A，N2+C2H2分壓2.5×10-3托，原子比Ti25～45%，N230～65%，C2～4%。
金色蒸發(fā)源電流60A，N2+C2H2分壓4×10-3托，原子比Ti30～50%，N235～70%，C1～2%。
在本發(fā)明的鍍層工藝過程中，采用變參數(shù)分層過渡，使鍍層結構相親，從而增加了界面結合力。通過實驗表明，在合理的工藝參數(shù)下，氮化鈦鍍層與各種基材有較好的結合力，而碳化鈦與碳氮化鈦鍍層與基材結合力差。從物質結構學而論，所謂界面結合力好，就是兩種物質結構相親，反之，則其結構相疏。要提高結構不相親的兩種物質的結合力，應采用過渡層(一層或多層)予以解決。本發(fā)明提出的變參數(shù)分層過渡工藝，就是將整個鍍層分解為多層，采用變參數(shù)逐層過渡，使層與層之間結構相親，從而最大限度地提高了鍍層與基材的結合力。圖3是變參數(shù)分層過渡工藝的示意圖，圖中示出了(1)Ti，(2)TiN，(3)TiN1C1，(4)TiN2C2，(5)TiNC，(6)TiNiCi各層。采用變參數(shù)分層過渡工藝鍍層過程中，逐漸增加碳含量，減少氮含量，最后的表層對應于各該顏色所要求的鈦、氮、碳最佳配比。這樣，就既保證了鍍層與基材的結合力，又保證了所要求的系列色調。
為保證鍍層與基材的結合力，不同的顏色所要求的分層過渡層數(shù)各不相同。顏色愈深(碳含量愈大)，則要求的層數(shù)愈多，顏色愈淺所需過渡層次數(shù)愈少。如前所述各種顏色蒸發(fā)源電流和鍍層真空確定的情況下，分層過渡的層數(shù)和各層的N2/C2H2比率如下黑色 TiNC鍍層分2～5層過渡;各層的N2/C2H2值分別由3/1→1/1→1/2→1/3→1/4，灰色 TiNC鍍層分2～5層過渡;各層的N2/C2H2值分別由3/1→1/1→1/3→1/4→純C2H2。
槍色 TiNC鍍層分2～5層過渡;各層的N2/C2H2值分別由3/1→1/1→1/3→1/4→純C2H2.
褐色 TiNC鍍層分1～3層過渡;各層的N2/C2H2值分別由10/1→7/1→5/1。
紫色 TiNC鍍層分1～3層過渡;N2/C2H2值分別由30/1→25/1→20/1。
金色 TiNC鍍層為一層;N2/C2H2值為100/1。
在本發(fā)明的鍍層工藝過程中，采用不同的蒸氣源電流和偏壓參數(shù)既提高了界面結合力，又保證了鍍層表面的光亮度。實驗證明，不同的偏壓、偏流參數(shù)對鍍層的微結構和界面狀態(tài)，即對鍍層的硬度和結合力有重要影響。對TiNC鍍層而言，提高被鍍工件的電流密度和偏壓，也會相應地提高鍍層的致密性和結合力。但過高的偏壓反而會使表面光亮度下降。因此，在鍍層過程中，采用不同的蒸發(fā)源電流和偏壓參數(shù)，如前幾層采用較高蒸發(fā)源電流80～150A和偏壓70～100V，以增強界面擴散，提高結合力;最后幾層采用較低蒸發(fā)源電流50～60A和偏壓30～50V，以保證表面光亮度。
在本發(fā)明的鍍層工藝過程中，使用不同的反應氣體，采用不同的鍍層真空。實驗證明，采用不同的碳氫化合物作反應氣體制備碳氮化鈦鍍層，其適合的鍍層真空差異很大。用C2H2和N2作反應氣體可在10-2～10-4托范圍鍍膜真空下獲得TiNC鍍層，而用CH4和N2作反應氣體時，10-3托以上真空下形成的鍍層主要是Ti和TiNC的混合層，只在10-2托范圍內形成純TiNC鍍層。因此采用不同的反應氣體應選用不同的鍍膜真空，才能獲得優(yōu)良的鍍層性能及色調。本發(fā)明用C2H2+N2作反應氣體時，選用1×10-3托至4×10-3托的鍍層真空為最佳;用CH4+N2作反應氣體時，選用1×10-2托至3×10-2托鍍層真空為最佳。如前所述，不同的顏色，所選用的鍍層真空也不相同。
在本發(fā)明的鍍層工藝過程中，對于不同的基體材料，采用不同的鍍層溫度。鍍層時工件的溫度是獲得優(yōu)質層的一個重要參數(shù)。不同的基材，其適合的鍍層溫度相差很大，因而必須嚴格掌握。鋼和鐵基材溫度適應廣，作裝飾鍍層時選用150～280℃的鍍層溫度，180～250℃更好，而對銅、鋁、鋅鋁等基材，由于其含有高成分的低溶點材料，因而其鍍膜溫度選用70～200℃，而100～180℃更好，否則會嚴重影響膜層性能和色調。
另外，還需要指出的是，被鍍工件的表面粗糙度和鍍前的處理質量，對膜層性能和界面結合力有重要影響。銅、鋁、鋅鋁基材應有良好質量的預鍍層(銅、鎳、鉻15μ以上)。工件在進行鍍層前，必須認真的拋光、清洗和干燥。
為了進一步說明本發(fā)明的鍍層工藝，列舉下列實施例。
實施例一不銹鋼基材如表殼或健身球，黑色TiNC鍍層。真空抽至5×10-5托，鍍件溫度保持在250℃。用C2H2+N2作反應氣體，分壓保持在4×10-3托開始鍍層。各層的參數(shù)如下第一層 只通Ar氣，鍍Ti，蒸發(fā)源電流70A，偏壓70V，鍍3分鐘;
第二層只通N2氣，鍍TiN，蒸發(fā)源電流70A，偏壓70V，鍍3分鐘;
第三層通N2和C2H2(N2/C2H2＝3/1)，蒸發(fā)源電流70A，偏壓70V，鍍4分鐘;
第四層通N2和C2H2，減少N2，增加C2H2(N2/C2H2＝1/1)，蒸發(fā)源電流70A，偏壓70V，鍍4分鐘;
第五層繼續(xù)減少N2，增加C2H2(N2/C2H21/2)，蒸發(fā)源電流60A，偏壓50V，鍍4分鐘;
第六層(N2/C2H2＝1/4)，以Ti，N2，C最佳比例鍍表層，蒸發(fā)源電流60A，偏壓50V，鍍10分鐘。
實施例二銅基材鍍鎳鉻表殼，黑色TiNC鍍層。鍍件溫度保持在180℃以下，其他參數(shù)與實施例一同。
實施例三鋅鋁合金基材鍍鎳表殼，黑色TiNC鍍層。鍍件溫度保持在150℃以下，其他參數(shù)與實施例一同。
實施例四不銹鋼基材表殼，槍色(淺鐵灰色)TiNC鍍層。真空抽至5×10-5托，鍍件溫度保持250℃，N2+C2H2分壓1.2×10-3托，各層參數(shù)如下第一層 只通Ar氣，鍍Ti，蒸發(fā)源電流70A，工件偏壓70V，鍍3分鐘;
第二層只通N2氣，鍍TiN，蒸發(fā)源電流70A，工件偏壓70V，鍍3分鐘;
第三層通N2和C2H2(N2/C2H2＝3/1)，蒸發(fā)源電流70A，偏壓70V，鍍4分鐘;
第四層減少N2，增加C2H2(N2/C2H2＝1/1)，蒸發(fā)源電流70A，工件偏壓70V，鍍4分鐘;
第五層繼續(xù)減少N2，增加C2H2(N2/C2H2＝1/3)，蒸發(fā)源電流70A，工件偏壓50V，鍍4分鐘;
第六層只通C2H2，蒸發(fā)源電流60A，工作偏壓50V，鍍10分鐘。
實施例五不銹鋼基材表殼，褐色TiNC鍍層。真空抽至5×10-5托，鍍件溫度保持在250℃，N2+C2H2分壓2×10-3托，各層參數(shù)如下第一層 只通Ar氣，鍍Ti，蒸發(fā)源電流70A，工件偏壓70V，鍍3分鐘;
第二層只通N2氣，鍍TiN，蒸發(fā)源電流70A，工作偏壓70V，鍍4分鐘;
第三層通N2和C2H2(N2/C2H2＝10/1)，鍍TiNC，蒸發(fā)源電流70A，工作偏壓70V，鍍4分鐘;
第四層減少N2，增加C2H2(N2/C2H2＝7/1)，蒸發(fā)源電流60A，工件偏壓50V，鍍4分鐘;
第五層 (N2/C2H2＝5/1)，以褐色Ti，N2，C最佳比率鍍表層，蒸發(fā)源電流60A，工作偏壓50V，鍍10分鐘。
實施例六不銹鋼基材表殼，紫色TiNC鍍層。真空抽至5×10-5，鍍件溫度保持在250℃，N2+C2H2分壓2.5×10-3托，各層參數(shù)如下第一層 只通Ar氣，鍍Ti，蒸發(fā)源電流70A，工件偏壓70V，鍍3分鐘;
第二層只通N2氣，鍍TiN，蒸發(fā)源電流70A，工作偏壓70V，鍍4分鐘;
第三層通N2和C2H2(N2/C2H2＝30/1)，鍍TiNC，蒸發(fā)源電流60A，工作偏壓50V，鍍4分鐘;
第四層通N2和C2H2(N2/C2H2＝20/1)，以紫色的Ti，N2，C最佳比率鍍表層，蒸發(fā)源電流60A，工件偏壓50V，鍍15分鐘;
實施例七不銹鋼彈性表帶，仿金色TiNC鍍層。真空抽至5×10-5托，鍍件溫度在180℃以下，N2+C2H2分壓3×10-3托，各層參數(shù)如下第一層 只通Ar氣，鍍Ti，蒸發(fā)源電流70A，工件偏壓70V，鍍3分鐘;
第二層通N2氣，鍍TiN，蒸發(fā)源電流70A，工作偏壓70V，鍍4分鐘;
第三層 (N2/C2H2＝100/1)，以金色的Ti，N2，C最佳比率鍍表層，蒸發(fā)源電流60A，工作偏壓50V，鍍15分鐘。
本發(fā)明采用變參數(shù)分層過渡多元調色離子鍍層工藝制備TiNC系列鍍層，效果顯著，既保證了界面結合力，又保證了所要求的色調，而且調色范圍廣泛，可制備仿金色、黑色及兩者之間的所有過渡色，色調正，光亮度好。鍍層與基材的結合力接近于TiN鍍層與基材的結合力。工藝重復性穩(wěn)定，可適用于鋼、鐵、銅、鋁、鋅鋁以及其相似的金屬為基材的鐘表、眼鏡、文具、首飾、五金和手工藝品等各種裝飾鍍層，具有廣闊的應用前景。
權利要求
1.一種碳氮化鈦鍍層離子鍍工藝，其特征在于采用碳、氮、鈦三元調色，變參數(shù)分層過渡工藝，適用于以金屬為基材的碳氮化鈦系列鍍層的離子鍍工藝方法，這種方法包括，(1)每種顏色的碳氮化鈦鍍層對應于每種確定的鈦、氮、碳最佳配比，確定的鈦蒸發(fā)速率(以蒸發(fā)源電流值表征)，確定的鍍層真空度(以N2+C2H2分壓表征)，確定的N2和C2H2(或CH4)比率(分別以流量值表征)，(2)整個鍍層分為2+i個層次，變參數(shù)分層過渡連續(xù)完成，第一層先鍍鈦，第二層鍍氮化鈦，以后i層鍍碳氮化鈦，N2流量由(N2)1變?yōu)?N2)i，隨顏色變深而逐漸減小，C2H2流量由(C2H2)1變?yōu)?C2H2)i，隨顏色變深而逐漸增大，最后一層碳氮化鈦對應于所要求顏色的鈦、氮、碳最佳配比，(3)在分層過渡中，前幾層選用較大蒸發(fā)源電流和較高偏壓，最后幾層則選用較小蒸發(fā)源電流和較低偏壓。
2.如權利要求1所述的碳氮化鈦系列鍍層離子鍍工藝，其特征在于采用三元調色可產生金色、紫色、褐色、灰色、槍色、黑色以及相應的深淺不同的顏色的裝飾鍍層，每種顏色的鍍層對應于每種鈦、氮、碳配比，要求鍍層顏色愈深時，N2/C2H2比值愈小，采用變參數(shù)分層過渡時，N2/C2H2比值變化愈來愈小。幾種裝飾色的最佳鈦、氮、碳配比如下，黑色 蒸發(fā)源電流60A，N2+C2H2分壓4×10-3托，原子比Ti15～40%，N210～25%，C40～80%，灰色 蒸發(fā)源電流60A，N2+C2H2分壓4×10-3托，原子比Ti15～40%，N20.1～10%(N2也可為零)，C45～80%，槍色 蒸發(fā)源電流50A，N2+C2H2分壓1.2×10-3托，原子比，Ti20～40%，N20.1～10%(N2也可為零)，C45～80%，褐色 蒸發(fā)源電流60A，N2+C2H2分壓2×10-3托，原子比，Ti25～40%，N225～60%，C5～10%，紫色 蒸發(fā)源電流60A，N2+C2H2分壓2.5×10-3托，原子比，Ti25～45%，N230～65%，C2～4%，金色 蒸發(fā)源電流60A，N2+C2H2分壓4×10-3托，原子比，Ti30～50%，N235～70%，C1～2%。
3.如權利要求1所述的碳氮化鈦系列鍍層離子鍍工藝，其特征在于不同顏色分層過渡所需的層次數(shù)各不相同，顏色愈深，所需過渡的層次數(shù)愈多，顏色愈淺，所需過渡的層次數(shù)愈少，幾種顏色的層次與N2/C2H2比值為，黑色 TiNC鍍層分2～5層過渡，各層的N2/C2H2值分別由3/1→1/1→1/2→1/3→1/4，灰色 TiNC鍍層分2～5層過渡，各層的N2/C2H2值分別由3/1→1/1→1/3→1/4→純C2H2，槍色 TiNC鍍層分2～5層過渡，各層的N2/C2H2值分別由3/1→1/1→1/3→1/4→純C2H2，褐色 TiNC鍍層分1～3層過渡，各層的N2/C2H2值分別由10/1→7/1→5/1，紫色 TiNC鍍層分1～3層過渡，N2/C2H2值分別由30/1→25/1→20/1，金色 TiNC鍍層為一層，N2/C2H2值為100/1。鍍層時，前幾層蒸發(fā)源電流取80～150A，工件偏壓70～100V，最后兩層蒸發(fā)源電流取50～60A，工件偏壓30～50V。
4.如權利要求1、2、3所述的碳氮化鈦系列鍍層離子鍍工藝，其特征在于采用不同的碳氫化合物作反應氣體時，鍍膜真空有明顯差異，用CH4代替C2H2作反應氣體時，鍍層真空在1×10-2～9×10-2托，1×10-2～3×10-2托為最佳。
5.如權利要求1、2、3、4所述的碳氮化鈦系列鍍層離子鍍工藝，其特征在于所說的金屬基材是鋼、鐵、銅、鋁、鋅鋁及其相似的金屬，使用以鋼、鐵為基材時，鍍層溫度控制在150～280℃，180～250℃更好，使用以銅、鋁、鋅鋁為基材時，鍍層溫度控制在70～200℃，100～180℃更好。
全文摘要
本發(fā)明屬于物理氣相沉積工藝中碳氮化鈦離子鍍層工藝?，F(xiàn)有的裝飾鍍層工藝是只解決和改進某種特定的單一色調的工藝。而本發(fā)明將表面色調與界面結合力等技術統(tǒng)一，采用變參數(shù)分層過渡和多元色調的獨特工藝，獲得了金色、紫色、褐色、槍色、黑色等系列外觀色調，同時保證具有優(yōu)良的界面結合力。本工藝可適用于以鐵、鋼、銅、鋁以及鋁合金及其相似的金屬為基材的鐘表、眼鏡、文具、首飾、五金和手工藝品等各種裝飾鍍層。
文檔編號C23C14/06GK1055957SQ91102459
公開日1991年11月6日 申請日期1991年4月20日 優(yōu)先權日1991年4月20日
發(fā)明者楊鐵三, 黃經筒, 游本章, 齊克修, 吳振華 申請人:中國科學院電工研究所