本實(shí)用新型涉及復(fù)合片生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域的輔助工具，具體地說是涉及復(fù)合片研磨裝置。
背景技術(shù)：
復(fù)合片原材料是個(gè)近似扁的不規(guī)則單晶，加工成有規(guī)則形狀成為成品復(fù)合片，將復(fù)合片原材料加工成成品復(fù)合片需要研磨,
在現(xiàn)有技術(shù)中，沒有專門復(fù)合片研磨裝置，研磨復(fù)合片原材料時(shí)采用的是普通的夾具加持，具有加工質(zhì)量差、效率低、不利于研磨的缺點(diǎn)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種加工質(zhì)量好、生產(chǎn)率高的復(fù)合片研磨裝置。
本實(shí)用新型的技術(shù)方案是這樣的：復(fù)合片研磨裝置，其特征是：它包括一個(gè)工作臺(tái),在工作臺(tái)上有電機(jī)帶動(dòng)的研磨盤,在工作臺(tái)上還有框架,所述框架有兩個(gè)豎直設(shè)置的立桿,還有一個(gè)橫梁套接在立桿上,橫梁在立桿上可以上下移動(dòng),在一個(gè)立桿上、橫梁的下面還固定一個(gè)定位板，定位板上有可以上下調(diào)節(jié)的調(diào)節(jié)旋鈕，調(diào)節(jié)旋鈕向上頂著橫梁，在橫梁的另一端有朝下設(shè)置的研磨桿，研磨桿下面是粘接復(fù)合片原材料的部位，粘接復(fù)合片原材料的部位在研磨盤上面。
進(jìn)一步地講，所述的框架是多套的，多套框架圓周陣列設(shè)置在研磨盤周圍。
進(jìn)一步地講，所述的研磨桿可移動(dòng)安裝在橫梁上，移動(dòng)研磨桿，粘接復(fù)合片原材料的部位靠近或遠(yuǎn)離研磨盤中心。
本實(shí)用新型的有益效果是：這樣的復(fù)合片研磨裝置具有加工質(zhì)量好的優(yōu)點(diǎn)；所述的框架是多套的，多套框架圓周陣列設(shè)置在研磨盤周圍，具有加工效率高的優(yōu)點(diǎn)；所述的研磨桿可移動(dòng)安裝在橫梁上，移動(dòng)研磨桿，粘接復(fù)合片原材料的部位靠近或遠(yuǎn)離研磨盤中心，還具有使用研磨盤不同部位進(jìn)行研磨、調(diào)節(jié)方便的優(yōu)點(diǎn)。
附圖說明
圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
其中：1、工作臺(tái) 2、電機(jī) 3、研磨盤 4、框架 5、立桿 6、橫梁 7、定位板 8、調(diào)節(jié)旋鈕 9、研磨桿 10、粘接復(fù)合片原材料的部位 11、復(fù)合片原材料。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步的說明。
如圖所示, 復(fù)合片研磨裝置，其特征是：它包括一個(gè)工作臺(tái)1,在工作臺(tái)2上有電機(jī)2帶動(dòng)的研磨盤3,在工作臺(tái)上還有框架4,所述框架有兩個(gè)豎直設(shè)置的立桿5,還有一個(gè)橫梁6套接在立桿上,橫梁在立桿上可以上下移動(dòng), 圖中B的方向，在一個(gè)立桿上、橫梁的下面還固定一個(gè)定位板7，定位板上有可以上下調(diào)節(jié)的調(diào)節(jié)旋鈕8，圖中C的方向，調(diào)節(jié)旋鈕向上頂著橫梁，在橫梁的另一端有朝下設(shè)置的研磨桿9，研磨桿下面是粘接復(fù)合片原材料的部位10，粘接復(fù)合片原材料的部位在研磨盤上面。
使用時(shí)，將復(fù)合片原材料11粘接在粘接復(fù)合片原材料的部位上，復(fù)合片原材料和研磨盤接觸，開動(dòng)電機(jī)，研磨盤轉(zhuǎn)動(dòng)，圖中A的方向，研磨盤可以對(duì)復(fù)合片原材料進(jìn)行研磨，由于框架的作用，減少研磨時(shí)的擺動(dòng)，研磨的尺寸有保證，保證了研磨效果，實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的目的。
進(jìn)一步地講，所述的框架是多套的，多套框架圓周陣列設(shè)置在研磨盤周圍。
作用一次可以對(duì)多個(gè)復(fù)合片原材料進(jìn)行研磨，生產(chǎn)效率高。
進(jìn)一步地講，所述研磨桿可移動(dòng)安裝在橫梁上，移動(dòng)研磨桿, 圖中D的方向，粘接復(fù)合片原材料的部位靠近或遠(yuǎn)離研磨盤中心。
以上實(shí)施例僅為本實(shí)用新型的部分實(shí)施例，但本實(shí)用新型的宗旨并不限于此，任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明的領(lǐng)域內(nèi)，所作的變化或修飾皆涵蓋在本實(shí)用新型的專利范圍內(nèi)。