技術特征：

技術總結
本發(fā)明涉及太陽能電池制造技術領域，尤其是涉及一種PECVD鍍膜的氣體控制方法以及設備。該方法包括如下步驟：將硅烷供氣管路、氨氣供氣管路和笑氣供氣管路分別連接于PECVD的反應腔，并在每種供氣管路上配置有一氣體流量控制器；根據(jù)每層待鍍的膜層結構設定硅烷、氨氣和笑氣三種氣體的流量參數(shù)；氣體流量控制器分別按照所設定的流量參數(shù)控制輸入對應的氣體至PECVD的反應腔中。該方法通過氣體流量控制器既能實現(xiàn)定量控制氣體的流量，又能實現(xiàn)變量控制氣體的流量，而且在鍍膜時分別向PECVD的反應腔中通入氨氣、硅烷和笑氣三種氣體，因此該方法生產(chǎn)的膜層結構具有較好的光學特性。

技術研發(fā)人員：袁中存;黨繼東
受保護的技術使用者：蘇州阿特斯陽光電力科技有限公司
技術研發(fā)日：2017.08.07
技術公布日：2017.11.10